Estudo e aplicacao de litografia por feixe de eletrons na fabricacao de estruturas de relevo continuo para utilizacao em microoptica integrada.

Resumo

As técnicas de fabricação desenvolvidas para microeletrônica são utilizadas em outras áreas de aplicação, como sensores, micromáquinas e elementos microópticos. Em particular, a aplicação dessas técnicas em micro6ptica possibilita o desenvolvimento de elementos que apresentam novas e inusitadas propriedades ópticas e que dificilmente seriam implementados utilizando-se técnicas tradicionais de abrasão e polimento. Este trabalho visa estudar a etapa de litografia por feixe de elétrons para aplicação na fabricação de elementos microópticos planares de relevo continuo (não binário) por escrita direta, sem a utilização de mascaras, o que permite obter microestruturas complexas diretamente a partir da base de dados em computador por meio de uma única etapa de exposição e por meio do processamento adequado. Como principais objetivos deste trabalho temos a formalização teórica da obtenção de relevos contínuos por meio da litografia por feixe de elétrons e a fabricação experimental de microlentes de Fresnel em camadas de resiste espesso. (AU)