エッチングレートの英語

エッチング犠牲層１１５は、金属膜１１０Ｍに対するエッチングレートと同等以上のエッチングレートを有する材料から構成される。例文帳に追加

The etching sacrifice layer 115 is composed of a material having the equivalent or more etching rate of etching rate to the metal film 110M. - 特許庁

この際、第２の金属膜３のウェットエッチングレートが第１の金属膜２のウェットエッチングレートより大きくなるように構成する。例文帳に追加

At this time, the wet etching rate of the second metal film 3 is specified to be higher than the wet etching rate o the first metal film 2. - 特許庁

第２絶縁層７２の材料のエッチングレートは第１絶縁層７１の材料のエッチングレートより大きくされている。例文帳に追加

The etching rate of material of the second insulating layer 72 is set more than the etching rate of material of the first insulating layer 71. - 特許庁

サイドエッチング防止層７のエッチングレートは第１および第２ドープ層６，８のエッチングレートよりも小さい。例文帳に追加

The etching rate of the side-etching pretension layer 7 is smaller than those of the first and the second doped layers 6 and 8. - 特許庁

酸化シリコンのエッチングレートに比べて窒化シリコンのエッチングレートを大きくした半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, wherein silicon nitride is set higher for etching rate than for silicon oxide. - 特許庁

このエッチングは、最初にエッチングレートの大きな条件で実行し、次に、選択比は大きいがエッチングレートの小さな条件で実行する。例文帳に追加

The etching is first executed under a condition of a large etching rate and then under a condition of a small etching rate. - 特許庁

プラズマエッチング処理中に、高精度にエッチングレートを測定することのできるエッチングレート測定技術を提供する。例文帳に追加

To provide an etching rate measuring technology capable of accurately measuring an etching rate during plasma etching operation. - 特許庁

高いエッチングレートが得られ、且つ、エッチングレートの面内均一性に優れたエッチング装置およびエッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching device and an etching method wherein a high etching rate is attained, and it is excellent in the in-plane uniformity of an etching rate. - 特許庁