放射露光の英語

Ｘ線露光装置、Ｘ線露光方法、Ｘ線マスク、Ｘ線ミラー、シンクロトロン放射装置、シンクロトロン放射方法および半導体装置例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE TO X-RAY, X-RAY MASK, X- RAY MIRROR SYNCHROTRON RADIATION DEVICE, METHOD FOR SYNCHROTRON RADIATION AN SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

液浸露光用感放射線性酸発生剤、その製造方法、液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RADIATION SENSITIVE ACID GENERATOR FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

電子放射陰極、電子顕微鏡および電子ビーム露光機例文帳に追加

ELECTRON EMITTING CATHODE, ELECTRON MICROSCOPE, AND ELECTRON BEAM EXPOSING MACHINE - 特許庁

基板を露光するための放射エネルギーの線光源を有する装置例文帳に追加

APPARATUS HAVING LINE LIGHT SOURCE OF RADIANT ENERGY FOR EXPOSING SUBSTRATE - 特許庁

酸発生剤は、放射線で露光されて酸を発生するように適合される。例文帳に追加

The acid generator is adapted to generate an acid upon exposure to radiation. - 特許庁

放射ビーム検査構成では、基板Ｗに露光される放射のパターンと基板に露光する必要のある放射のパターンの相違を最小化するために、リソグラフィ装置の動作が修正される。例文帳に追加

In the radiation beam inspecting configuration, the operation of the lithographic apparatus is modified in order to minimize the difference between the pattern of radiation exposed on the substrate W and the required pattern of radiation to be exposed on the substrate. - 特許庁

露光領域内の露光量の分布を均一に近づけることができるシンクロトロン放射光伝搬装置を提供する。例文帳に追加

To provide a propagating device for synchrotron radiation capable of making the distribution of the exposure quantity in an exposure region nearly homogeneous. - 特許庁

水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, a cured pattern forming method and a cured pattern which are suitably used in a liquid immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for liquid immersion exposure such as water. - 特許庁