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有機金属化学蒸着の英語
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英訳・英語 organo‐metal chemical vapor deposition
「有機金属化学蒸着」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 59件
金属有機化学気相蒸着装置例文帳に追加
化学気相蒸着用の有機金属化合物及び化学気相蒸着用の有機金属化合物の製造方法並びに貴金属薄膜及び貴金属化合物薄膜の化学気相蒸着方法例文帳に追加
ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, NOVEL METAL THIN FILM AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF NOVEL METAL COMPOUND THIN FILM - 特許庁
有機金属化学気相蒸着法によるカーボンファイバの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING CARBON FIBER BY ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS - 特許庁
金属−有機物化学蒸着チャンバを洗浄するその場方法例文帳に追加
ON-SITE METHOD FOR CLEANING METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER - 特許庁
金属—有機物化学蒸着チャンバを洗浄するその場方法例文帳に追加
CLEANING OF METAL-ORGANIC MATTER CHEMICAL VAPOR DEPOSITING CHAMBER ON THE SPOT - 特許庁
有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いた金属含有膜の製造方法例文帳に追加
RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING METAL-CONTAINING FILM USING THE RAW MATERIAL - 特許庁
有機金属化学蒸着法用有機銅化合物及びそれを用いて作製した銅薄膜例文帳に追加
ORGANOCOPPER COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COPPER THIN FILM PREPARED BY USING THE SAME - 特許庁
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「有機金属化学蒸着」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 59件
蒸着は化学気相蒸着法CVD、有機金属化学気相蒸着法MOCVD、原子層蒸着法ALD、またはこれと類似の蒸着法であり得る。例文帳に追加
The depositing method can be CVD (chemical vapor deposition), MOCVD (organic metal chemical vapor deposition), ALD (atomic layer deposition), or those similar to this. - 特許庁
有機金属化学蒸着用の銅薄膜形成用溶液原料及びこれから作られた銅薄膜例文帳に追加
SOLUTION RAW MATERIAL FOR FORMING COPPER THIN FILM FOR ORGANOMETALLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COPPER THIN FILM MADE THEREFROM - 特許庁
有機金属気相化学蒸着法による高品位III−族窒化物薄膜の成長方法例文帳に追加
GROWTH METHOD OF HIGH QUALITY NITRIDE THIN FILM OF GROUP III ELEMENT BY ORGANOMETALLIC GASEOUS PHASE CHEMICAL DEPOSITION - 特許庁
MOCVD(有機金属化学蒸着)法によるZnO系透明導電膜の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING ZnO-BASED TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING MOCVD (ORGANO-METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) PROCESS - 特許庁
有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法例文帳に追加
RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (MOCVD) METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-CONTAINING FILM USING THE RAW MATERIAL - 特許庁
物理蒸着が、複数成分材料を堆積させるのに一つまたは複数の有機金属化合物からの化学蒸着により増大される。例文帳に追加
Physical vapor deposition is augmented by chemical vapor deposition from one or more organometallic compounds to deposit multi-component materials. - 特許庁
この膜は、金属有機化学気相蒸着法による金属窒化物で形成され、部分的にプラズマ処理される。例文帳に追加
The film is formed of a metal nitride by a metallo-organic chemical vapor deposition method, and partially subjected to plasma treatment. - 特許庁
金属−有機物化学蒸着(MOCVD)チャンバの表面から金属堆積副生成物を洗浄するためのその場方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method for cleaning metallic deposited by-products from the surface of a metal-organic matter chemical vapor depositing(MOCVD) chamber on the spot. - 特許庁
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