除外基準の英語

対象要素特定部４１は、対象部品の選択した要素が基準面に存在する検証対象から除外する。例文帳に追加

The target element specifying section 41 excludes a region where the selected element of the target component exists on the reference surface. - 特許庁

そして、除外されずに残った物体を基準に移動体を移動させ、交通事故が発生するか否かをシミュレーションする。例文帳に追加

Then, the traveling objects are moved based on a remaining object, and whether or not traffic accident may occur is simulated. - 特許庁

特に、設定された基準日の前後の設定された期間に加入した新規顧客のデータは除外してデシル分析を行う。例文帳に追加

Especially, the data of new customers who joined in the set periods before and after the set reference date are excluded and the decile analysis is performed. - 特許庁

事業者は、本基準に定めるスコープ3 排出量のすべてを算定し、除外について開示し十分な根拠を示さなければならない。例文帳に追加

Companies shall account for all scope 3 emissions as defined in this standard and disclose and justify any exclusions.発音を聞く  - 経済産業省

そして、経路探索手段は、判定手段により、経路が前記基準距離以下の有料道路を含むと判定された場合、判定された基準距離以下の有料道路を除外して、再び経路探索を行う。例文帳に追加

When determined that the route includes a toll road shorter than the reference distance by the determination means, the route searching means removes the determined toll road shorter than the reference distance, and performs route search again. - 特許庁

リソグラフィ装置又はその一部を検定又は較正する方法において、チョーベネットの判定基準などの所定の客観的判定基準を使用して、視野毎に、又は基板毎に個々に測定ポイントが除外される。例文帳に追加

In the method for testing or calibrating the lithographic device or the part thereof, a measurement point is individually excluded at each field of view or each substrate by using a predetermined objective criterion such as a Chauvenet's criterion. - 特許庁

そして、基準位置決定部５３では４個の対象マークから位置ズレが生じた対象マークを除外した複数の対象マークに基づいて搬送用トレイ８上の複数のＦＰＣに対する基準位置が求められる。例文帳に追加

And, a reference position determining part 53 finds the reference position to a plurality of FPC on the conveyance tray 8, based on a plurality of object marks, in which the object mark which produces the position deviation is excepted from the four object marks. - 特許庁

そして、欠陥検出部４５にて基準画像が有する欠陥の少なくとも位置情報に基づいて欠陥候補から基準画像が有する欠陥と重複するものが除外される。例文帳に追加

Then, based on at least positional information of the defect included in the reference image, a defect candidate overlaying the defect included in the reference image is removed from the defect candidates by a defect detecting section 45. - 特許庁