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A mask is effective.とは 意味・読み方・使い方

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旅行・ビジネス英会話翻訳での「A mask is effective.」の意味

A mask is effective.

マスク効果的です。

「A mask is effective.」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 77



例文

A mask is effective.例文帳に追加

マスクが効果的です。 - 旅行・ビジネス英会話翻訳例文

Wearing a flu mask is very effective.例文帳に追加

マスクをつけるのも効果的です。 - 旅行・ビジネス英会話翻訳例文

To provide a photomask with which a line width error in transferring caused by an MEEF (Mask Effective Error Factor) is reduced.例文帳に追加

MEEF(Mask Effective Error Factor)に起因する転写の際の線幅誤差を低減できるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The auxiliary mask is overlappingly fixed in an area including a minor axis of the effective part of the main mask.例文帳に追加

補助マスクは、主マスクの有効部の短軸を含む領域に重ねて固定されている。 - 特許庁

To provide a technique effective in facilitating handling a mask in manufacturing the mask is to be attached to a mask wearer's face.例文帳に追加

マスク着用者の顔に装着されるマスクにおいて、マスク製造時の取り扱いを容易にするのに有効な技術を提供する。 - 特許庁

To provide configurations of a mask substrate and a reinforcing mask frame with which a mask distortion is reduced, breakage in handling the mask substrate is prevented, and which is effective in shortening the time required for alignment.例文帳に追加

マスクひずみを低減させ、マスク基板ハンドリング時の破損を防止し、さらに、アライメントに要する時間を短縮するのに効果的なマスク基板および補強用マスクフレームの構成を提案することにある。 - 特許庁

例文

To obtain a mask ROM which is effective for a large capacity mask ROM mounted with an ECC and has both of high speed access and a relief effect.例文帳に追加

ECC搭載の大容量マスクROMに有効で、高速アクセスと救済効果を兼ね備えたマスクROMを得る。 - 特許庁

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「A mask is effective.」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 77



例文

To provide a color picture tube having a shadow mask that is improved in the curved face forming quality of its shadow mask effective portion.例文帳に追加

シャドウマスク有効部の曲面成形品位を向上したシャドウマスクを有するカラー受像管を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical display device which is effective in preventing light leakage in a mask layer or fogging in multiple mask layers.例文帳に追加

マスク層における光の漏れや複数のマスク層のカブリを防止することに効果的な光学表示装置を提供すること。 - 特許庁

To realize a mask substrate inspection method effective for solving a problem of production yield lowering due to deterioration in the flatness of the mask substrate which is caused by chucking the mask substrate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の検査方法を実現すること。 - 特許庁

When the effective range of the mask is limited by the mask area limiting means 35, quality evaluating means 34 measures a margin in the limited effective range while interlocking with that, and evaluates quality.例文帳に追加

品質評価手段34は、マスク領域制限手段35によってマスクの有効範囲が制限されたときに、それと連動してその制限された有効範囲におけるマージン測定を行い、品質評価する。 - 特許庁

The main mask is opposed to almost whole face of a phosphor screen and provided with a mask main face 40 having an effective part on which, electron beam passing holes are formed, and a skirt part 17 extended from a peripheral edge of the main mask.例文帳に追加

主マスクは、蛍光体スクリーンのほぼ全面と対向しているとともに電子ビーム通過孔が形成された有効部を有したマスク主面40、およびこのマスク主面の周縁から延出したスカート部17を有している。 - 特許庁

The main mask is composed of a mask main surface 40 with an effective part on which a number of electron beams passing holes are formed, and a skirt 17 extended from the outer periphery of the mask main surface 40.例文帳に追加

主マスクは、多数の電子ビーム通過孔が形成された有効部を有したマスク主面40、およびこのマスク主面の周縁から延出したスカート部17を備えている。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing an exposure mask which is effective to solve a problem on the lowering of the yield of a product caused by the deterioration of the flatness of a mask base plate by chucking the mask base plate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効な露光マスクの製造方法を実現すること。 - 特許庁

例文

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

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