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Chemical Mechanical Polishingとは意味・読み方・使い方

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意味・対訳化学機械研磨、化学機械研磨（かがくきかいけんま、英: chemical mechanical polishing) は、研磨剤（砥粒）自体が有する表面化学作用または研磨液に含まれる化学成分の作用によって、研磨剤と研磨対象物の相対運動による機械的研磨（表面除去）効果を増大させ、高速かつ平滑な研磨面を得る技術である。

Weblio専門用語対訳辞書での「Chemical Mechanical Polishing」の意味

Chemical Mechanical Polishing

化学的機械的研磨

カテゴリ液晶技術用語

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「Chemical Mechanical Polishing」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 1321件

例文

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING LIQUID例文帳に追加

化学的機械的研磨液 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加

化学的機械研磨方法 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING LIQUID例文帳に追加

化学的機械的研磨液 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS例文帳に追加

化学的機械研磨装置 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加

化学機械的研磨方法 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING例文帳に追加

化学的機械的研磨用研磨液 - 特許庁

例文

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS例文帳に追加

化学的機械研磨方法及び化学的機械研磨装置 - 特許庁

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Weblio英和対訳辞書での「Chemical Mechanical Polishing」の意味

Chemical Mechanical Polishing

化学機械研磨

Chemical-mechanical polishing

化学機械研磨

化学機械研磨（かがくきかいけんま、英: chemical mechanical polishing) は、研磨剤（砥粒）自体が有する表面化学作用または研磨液に含まれる化学成分の作用によって、研磨剤と研磨対象物の相対運動による機械的研磨（表面除去）効果を増大させ、高速かつ平滑な研磨面を得る技術である。

chemical-mechanical polishing

化学的機械研磨

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「Chemical Mechanical Polishing」の部分一致の例文検索結果

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例文

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE例文帳に追加

化学的機械研磨方法および化学的機械研磨装置 - 特許庁

CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING EQUIPMENT例文帳に追加

化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS例文帳に追加

化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加

化学機械研磨装置及び化学機械研磨方法 - 特許庁

CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING DEVICE例文帳に追加

化学機械研磨方法および化学機械研磨装置 - 特許庁

To optimize a polishing rate in CMP (Chemical Mechanical Polishing).例文帳に追加

ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing：化学的機械研磨）における研磨レートの最適化を図ること。 - 特許庁

COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加

化学機械研磨パッド用組成物、化学機械研磨パッド及び化学機械研磨方法 - 特許庁

例文

CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING PAD, LAMINATION PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD例文帳に追加