意味 | 例文 (2件) |
IL-12Aとは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「IL-12A」の意味 |
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IL-12A
human | 遺伝子名 | IL-12A |
同義語(エイリアス) | CLMF p35; CLMF; IL12A; Interleukin-12 alpha chain precursor; NFSK; NK cell stimulatory factor chain 1; NKSF1 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P29459 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:3592 | |
その他のDBのID | HGNC:5969 |
mouse | 遺伝子名 | Il-12a |
同義語(エイリアス) | Ll12a; MGC151232; Il12a; CLMF p35; interleukin 12a; IL-12p35; IL-12A; MGC151228; Interleukin-12 alpha chain precursor | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P43431 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:16159 | |
その他のDBのID | MGI:96539 |
rat | 遺伝子名 | IL-12A |
同義語(エイリアス) | Il12a; CLMF p35; Interleukin-12 alpha chain precursor; interleukin 12a; interleukin 12 p35 subunit | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q9R103 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:84405 | |
その他のDBのID | RGD:620562 |
zfish | 遺伝子名 | il12a |
同義語(エイリアス) | interleukin 12a; IL-12 p35 | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:445410 | |
その他のDBのID | ZFIN:ZDB-GENE-060724-1 |
本文中に表示されているデータベースの説明
- SWISS-PROT
- スイスバイオインフォマティクス研究所と欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発・運営されているタンパク質のアミノ酸配列のデータベース。
- EntrezGene
- NCBIによって運営されている遺伝子データベース。染色体上の位置、配列、発現、構造、機能、ホモロジーデータなどが含まれている。
- HGNC
- HUGO遺伝子命名法委員会により運営される、ヒト遺伝子に関するデータベース。
- MGI
- 様々なプロジェクトによる、研究用マウスの遺伝的・生物学的なデータを提供するデータベース。
- RGD
- ウィスコンシン医科大学により運営される、ラットの遺伝子・ゲノム情報のデータベース。
- ZFIN
- ゼブラフィッシュ遺伝子命名法委員会により運営されている、研究用の淡水魚ゼブラフィッシュの遺伝子・ゲノム情報のデータベース。
「IL-12A」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 2件
The translucent type liquid crystal display device is configured such that the reflective pixel electrode composed of 4th metal films 12a and 12b is provided on an organic resin film 7 (inter-layer insulating film IL) across a transparent conductive film part 11b nearly in its entire region.例文帳に追加
本発明における半透過型液晶表示装置は、第4の金属膜12a、12bからなる反射画素電極が、そのほぼ全領域において透明導電膜部分11bを介して有機樹脂膜7(層間絶縁膜IL)上に設けられている。 - 特許庁
To prevent a silicide layer 12b of a wiring layer 12 comprising the silicide layer 12b as an uppermost layer formed on an element isolation insulating film 8a and a polysilicon layer 12a as a lower layer from being overetched to disappear when a contact hole 20a etc., are formed by dry etching in an inter-layer insulating film IL having its surface ground in a CMP step to be flattened.例文帳に追加
CMP工程でその表面が研削され、平坦化された層間絶縁膜IL中にドライエッチングによりコンタクトホール20a等を形成する時、素子分離絶縁膜8a上に形成された最上層がシリサイド層12b、下層がポリシリコン層12aからなる配線層12の、該シリサイド層12bがオーバーエッチングにより消失することを防止する。 - 特許庁
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