IL-13とは 意味・読み方・使い方

This exposure apparatus EX exposes a substrate 14 by projecting, by a projection optical system 13, a pattern of an original plate 11 illuminated by an illumination system IL on the substrate 14.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによって照明される原版１１のパターンを投影光学系１３によって基板１４に投影して基板１４を露光する。 - 特許庁

The control voltage to be applied to a gate terminal G of the FET 13 is output to a CPU 12 as a state detection signal for detecting the state of a load current Il (ON/OFF of a current limit operation).例文帳に追加

ＦＥＴ１３のゲート端子Ｇに印加される制御電圧が、負荷電流Ｉｌの状態（電流制限動作のＯＮ／ＯＦＦ）を検出するための状態検出信号としてＣＰＵ１２へ出力される。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is provided with a shading member 10 specifying an illumination region by the illumination system IL, and a control part CNT detecting the position, on an image plane of the projection optical system 13, of an illuminance sensor 18 for measuring the illuminance on the image plane of the projection optical system.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによる照明領域を規定する遮光部材１０と、投影光学系１３の像面において照度を計測するための照度センサ１８の該像面における位置を検出する制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

A fuel supply device 10 supplying fuel to the internal combustion engine 1 includes a fuel tank 13 storing fuel F, a property improved fuel vessel 11 storing property improved fuel FI mixing knocking resistance improving agent IL into the fuel F, and a selector valve 18.例文帳に追加

内燃機関１へ燃料を供給する燃料供給装置１０は、燃料Ｆを貯留する燃料タンク１３と、燃料Ｆに耐ノック性向上剤ＩＬが混合された性状改善燃料ＦＩを貯留する性状改善燃料容器１１と、切替弁１８とを有する。 - 特許庁

Then, at washing of an illuminating optical system 12 and a projecting optical system 13, the first and third shutters 61 and 66 are moved and arranged at the closed positions, so that the illuminating lights IL as washing lights to be made incident to each sensor 50 and 54 can be interrupted.例文帳に追加

そして、照明光学系１２及び投影光学系１３を光洗浄する際には、前記第１及び第３シャッタ６１，６６を閉鎖位置に移動配置して、前記各センサ５０，５４に入射する洗浄光としての照明光ＩＬを遮断する。 - 特許庁

Furthermore, a monitor voltage VMO in proportion to a load current IL is generated by a monitor voltage generating circuit 13, and the monitor voltage VMO is compared with first to fourth reference voltages Vref1 to Vref4, to set the number of points for changing a cumulative count value of a counter.例文帳に追加

また、モニタ電圧生成回路１３により、負荷電流ＩＬに比例したモニタ電圧ＶＭＯを発生し、このモニタ電圧ＶＭＯと、第１基準電圧Ｖref1〜第４基準電圧Ｖref4とを比較することにより、カウンタの累積カウント値を変更するためのポイント数を設定する。 - 特許庁

A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１からの露光光ＩＬを、第１フライアイレンズ６、第２フライアイレンズ９、レンズ系１２，１３、ブラインド１４Ａ，１４Ｂ、及びコンデンサレンズ系１７，１８等よりなる照明光学系ＩＬＳを介してレチクルＲに照射し、レチクルＲのパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁

In an exposure method in which a wafer 14 is exposed to light through the intermediary of a reticle 11 and a projection optical system 13 by the use of a pulse illuminating light IL as an exposure beam, a correlation between the volume of illuminating light detected through a beam splitter 7 located on an optical path to a reticle 11 and the volume of illuminating light on the wafer 14 are previously obtained.例文帳に追加

露光ビームとしてのパルス照明光ＩＬでレチクル１１、及び投影光学系１３を介してウエハ１４を露光する露光方法において、予めそのレチクル１１までの光路上のビームスプリッタ７を介して検出されるその照明光の光量とそのウエハ１４上での光量との相関関係を求めておく。 - 特許庁