Ru compoundsとは 意味・読み方・使い方

A catalyst is constituted of two or more metals and/or metal compounds selected from Ru, Ti, Mo, W, V, Ir, Nb, W, Cu, Ni, La, Ca, Cu, Zr, and Ta.例文帳に追加

触媒を、Ru、Ti、Mo、W、V、Ir、Nb、W、Cu、Ni 、La、Ca、Cu、 Zr及びTaから選ばれる２種以上の金属及び／又は金属化合物から構成する。 - 特許庁

In the gas diffusion electrode containing a porous base material, a catalyst carried by the porous base material, and a hydrophobic material, the catalyst is constituted of one kind or more of metals and/or metal compounds selected from Sr, Ru, and Ir.例文帳に追加

多孔性基材、該多孔性基材に担持された触媒及び疎水性材料を含んで成るガス拡散電極において、前記触媒がSrと、Ru及びIrから選ばれる１種以上の金属及び／又は金属化合物から構成される。 - 特許庁

The catalyst is prepared by immersion into an aqueous solution containing at least one kind of the metallic colloidal solutions of the carried Ru and/or Ir, or the compounds of the carried Ru and/or Ir.例文帳に追加

担持されるＲｕ及び／又はＩｒの金属コロイド溶液、又は担持されるＲｕ及び／又はＩｒの化合物のうち、少なくとも一種を含む水溶液に浸漬させることによって製造することとした。 - 特許庁

This refining catalyst of hydrogen for fuel cell contains Ru and one or more kinds of metals and compounds selected from Pb, Bi, Tl and compounds containing Pb, Bi, or Tl.例文帳に追加

Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｌの金属、およびＰｂ、ＢｉもしくはＴｌを含む化合物から選ばれる一種または二種以上と、Ｒｕとを含有する燃料電池用水素の精製触媒。 - 特許庁

The method of manufacturing the Ru-Ti-O fine powder composed of an Ru compound and a Ti compound includes a step (A) of mixing the Ru and Ti compounds with a boron oxide or boric acid, a step (B) of heat-treating the obtained mixture, and a step (C) of removing the boron oxide by dissolution from the obtained heat-treated material.例文帳に追加

Ｒｕ化合物とＴｉ化合物からＲｕ−Ｔｉ−Ｏ微粉末を製造する方法であって、Ｒｕ化合物とＴｉ化合物を、酸化ホウ素又はホウ酸と混合する工程（Ａ）、得られた混合物を熱処理する工程（Ｂ）、及び得られた熱処理物から酸化ホウ素を溶解除去する工程（Ｃ）を含むことを特徴とするＲｕ−Ｔｉ−Ｏ微粉末の製造方法などによって提供。 - 特許庁

The resistor compositions contain glass compositions, titanium acid compounds (alkaline earth metals), and metal materials as well as one or two kinds of RuO_2 or Ru complex oxides as conductive materials.例文帳に追加

抵抗体組成物は、ＲｕＯ_２、Ｒｕ複合酸化物の１種若しくは２種以上を導電性材料として含むとともに、ガラス組成物と、アルカリ土類金属のチタン酸化合物と、金属材料とを含有する。 - 特許庁

To provide a cleaning gas and a cleaning method, where unwanted deposits generated in a thin-film forming apparatus which forms a film of Ti, W, Ta, Ru, Ir or their compounds or alloys are removed.例文帳に追加

Ｔｉ、Ｗ、Ｔａ、Ｒｕ、Ｉｒ、及びこれらの化合物または合金を成膜する薄膜形成装置内に生成した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガス及びクリーニング方法を提供する。 - 特許庁