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Sioとは 意味・読み方・使い方
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「Sio」を含む例文一覧
該当件数 : 229件
SiO PRODUCING APPARATUS AND SiO MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
ＳｉＯ発生装置及びＳｉＯ製造装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SiO TABLET, AND SiO TABLET例文帳に追加
ＳｉＯタブレットの製造方法、及びＳｉＯタブレット - 特許庁
This way the sio(4) driver does not get activated -- no problems.発音を聞く 例文帳に追加
これによって sio(4)ドライバは動作しなくなりますが、問題はありません。 - FreeBSD
This information (Vendor ID or chip value) needs adding to the file /usr/src/sys/dev/sio/sio_isa.c.発音を聞く 例文帳に追加
この情報はファイル /usr/src/sys/isa/sio.c に追加する必要があります。 - FreeBSD
The third serial port, sio2 (see sio(4) , known as COM3 in DOS), is on /dev/cuad2 for dial-out devices, and on /dev/ttyd2 for dial-in devices.発音を聞く 例文帳に追加
3 番目のポート sio2 (sio(4) をご覧ください。 DOSでは、COM3 と呼ばれます。 - FreeBSD
APPARATUS FOR REFINING SiO, METHOD OF REFINING SiO USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING HIGH PURITY SILICON USING THE OBTAINED SiO例文帳に追加
ＳｉＯの精製装置、かかる精製装置を用いるＳｉＯの精製方法及び得られたＳｉＯを用いる高純度シリコンの製造方法 - 特許庁
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「Sio」を含む例文一覧
該当件数 : 229件
Your device should now be found as an sio device. 5.20.発音を聞く 例文帳に追加
あなたのデバイスは FreeBSD3.x の時と同じように sioとして見つかるようになっているはずです。 - FreeBSD
To provide a method which selectively perform low-temperature wet etching of an SiN film to an SiO film and Si.例文帳に追加
SiO膜、Si対してSiN膜を選択的に低温ウェットエッチングする方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF PURIFYING SiO AND METHOD OF MANUFACTURING HIGH PURITY SILICON USING THE OBTAINED SiO例文帳に追加
ＳｉＯの精製方法及び得られたＳｉＯを用いる高純度シリコンの製造方法 - 特許庁
If you have connected a terminal to the first serial port (COM1 in MS-DOS), then you will use /dev/ttyd0 to refer to the terminal.発音を聞く 例文帳に追加
詳しくは、sio(4)のマニュアルをご覧ください。 - FreeBSD
MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR SIO POWDER例文帳に追加
ＳｉＯ粉体の製造方法及び製造装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING HIGH PURITY SiO SOLID例文帳に追加
高純度ＳｉＯ固体の製造方法及び製造装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SiO例文帳に追加
ＳｉＯの製造方法及び製造装置 - 特許庁
In the method for producing SiO_x (x<1), a raw material generating an SiO gas is vaporized by plasma heating to be formed into SiO gas, then the SiO gas is deposited as a silicon oxide.例文帳に追加
ＳｉＯガスが発生する原料をプラズマ加熱により気化させてＳｉＯガスとした後、珪素酸化物として析出させることを特徴とするＳｉＯ_x（ｘ＜１）の製造方法である。 - 特許庁
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