ag thin filmsとは 意味・読み方・使い方

In the photoelectromotive force device which is such that the collector electrodes 6 and 10 are formed of a silver paste on ITO films 5 and 9, respectively, of a photoelectric converter having the HIT structure, a thin film Ag layer 6a is interposed between the ITO film 5 and the collector electrodes 6, and a thin film Ag layer 10a is interposed between the ITO film 9 and the collector electrodes 10.例文帳に追加

この発明は、ＨＩＴ構造の光電変化装置のＩＴＯ膜５、９上に銀ペーストで形成される集電極６、１０を形成した光起電力装置において、ＩＴＯ膜５、９と集電極６、１０との間に薄膜Ａｇ層６ａ、１０ａをそれぞれ介在させる。 - 特許庁

The semiconductor device 1 is manufactured by forming the gate electrode 4 and the source/ drain electrodes 14 by using the electrically conductive thin films containing Mo atoms and Ag atoms.例文帳に追加

Ｍｏ原子及びＡｇ原子を含む導電性薄膜を用いて、ゲート電極４及びソース・ドレイン電極１４を形成して半導体素子１を製造する。 - 特許庁

The thin film for wiring is constituted of two layered films formed by laminating an alloy film consisting of an alloy composed of at least one of Ag and Cu as essential components and a nitride film consisting of the nitride of the alloy.例文帳に追加

Ａｇ、Ｃｕの少なくとも１種を主成分とする合金からなる合金膜と前記合金の窒化物からなる窒化物膜とを積層した２層膜により配線用薄膜を構成する。 - 特許庁

When a metal such as Al or Ag having high light reflection efficiency is used as the material serving as an electron and hole source, even if an area ratio of the metal to the phosphor surface is set to 50%, probability (η) of light finally coming out to the outside attains to about 90% by repetition of reflection-absorption on metal thin films, accordingly there is substantially no problem on luminous efficiency.例文帳に追加

電子及び正孔の供給源となる材料として光の反射効率の高いAl、Agなどの金属を使用した場合、蛍光体表面に占める面積比率を５０％としても、金属薄膜において反射・吸収を繰り返すことにより、最終的に外部に出ることが出来た光の確率（η）は約90％となり、発光効率上はほとんど問題がない。 - 特許庁

Pt, Cu, Ag, Pd, Ru, Ta, Ti, Au, In, Zn, Ni, Fe, Mn, Cr, V, Al, Mg and the like, the alloys of these various metallic elements, the alloys of these alloys and Pt and the like are used preferably as materials for the metallic thin-films 3b and 3d for the reinforcement.例文帳に追加

強化用金属薄膜３ｂ、３ｄの材料としては、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｖ、Ａｌ、Ｍｇ等々、これら各種金属元素の合金、これらとＰｔとの合金等が好適に用いられる。 - 特許庁

The method for depositing a conductive thin film having the texture structure further includes a step of depositing the conductive thin film formed of Ag containing aluminum oxide by using a vacuum film deposition process such as sputtering and vacuum vapor deposition, and a step of laminating a plurality of conductive thin films of different composition, and the mean surface roughness and the shape of the texture structure can be controlled.例文帳に追加

スパッタまたは真空蒸着などの真空成膜プロセスを使用して、酸化アルミニウムを含有したＡｇからなる導電性薄膜を形成すること、および異なる組成の導電性薄膜を複数積層する工程をさらに含み、テクスチャー構造の平均表面粗さおよび形状を制御することを特徴とするテクスチャー構造を有する導電性薄膜の形成方法。 - 特許庁