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edge plasma measurementとは 意味・読み方・使い方
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A plasma processing apparatus is provided with measurement means (51A, 53A to 53E, 54) for measuring electric field of a sheath SH, formed on a plasma circumferential edge and a control means (55) for controlling the parameters of plasma generation, based on the measurement results of the measurement means.例文帳に追加
プラズマ周縁に形成されるシースＳＨの電界を計測する計測手段（５１Ａ，５３Ａ〜５３Ｅ，５４）と、この計測手段の計測結果に基づきプラズマ生成のパラメータを制御する制御手段（５５）とを備える。 - 特許庁
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