embrittlement characteristicsとは 意味・読み方・使い方

To prepare a nickel plating film which is free of embrittlement of the plating film and has good heat resistance characteristics without being affected by a heat treatment.例文帳に追加

熱処理の影響を受けず、めっき皮膜の脆化のない耐熱特性の良いニッケルめっき皮膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating hydrogen embrittlement and its evaluation method capable of correctly and simply evaluating the characteristics of thin sheet steel in consideration of its environment of use and required characteristics.例文帳に追加

薄鋼板の使用環境や要求特性を考慮しつつ、それらの特性を正当かつ簡易的に評価できる水素脆化評価装置およびその評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for packaging a conduction cooled package laser which reduces influence caused by high heat in a manufacturing process to semiconductor laser characteristics, and reduces embrittlement and fracture caused by a semiconductor laser.例文帳に追加

伝導冷却パッケージレーザーのパッケージ方法を提供して、半導体レーザー特性が製造工程における高熱に影響されることを低減し、且つ半導体レーザーが生じる脆化・破砕の状況を低減する。 - 特許庁

To provide a practical dilute copper alloy material high in productivity and excellent in electric conductivity, softening temperature and surface quality, and a method of manufacturing a dilute copper alloy member excellent in characteristics of resistance to hydrogen embrittlement.例文帳に追加

生産性が高く、導電率、軟化温度、表面品質に優れた実用的な希薄銅合金材料、及び耐水素脆化特性に優れた希薄銅合金材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hafnium silicide target superior in embrittlement resistance, which is suitable for forming a HfO_2-SiO_2 film that can be used as a high dielectric gate insulation film having characteristics in substitute for SiO_2 film, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるＨｆＯ_２・ＳｉＯ_２膜の形成に好適な、耐脆化性に富むハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a Zn-Al-Mg based plated steel sheet having high strength of ≥590 MPa and excellent in both of liquid metal embrittlement resistant characteristics and local elongation, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

５９０ＭＰａ以上の高強度を有し、耐溶融金属脆化特性および局部延性のいずれにも優れた特性を有するＺｎ−Ａｌ−Ｍｇ系めっき鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hafnium silicide target which is suitable for the formation of a HfO_2.SiO_2 film which enables the use as a high dielectric gate insulation film equipped with the characteristics substituted for SiO_2 film and is rich in embrittlement resistance, and a producing method thereof.例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるＨｆＯ_２・ＳｉＯ_２膜の形成に好適な、耐脆化性に富むハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To easily and inexpensively charge hydrogen to a material to a required diffusible hydrogen concentration level while scarcely leaching out the material, in a method for charging hydrogen to the material and a method for evaluating hydrogen embrittlement characteristics using the hydrogen charging method.例文帳に追加

材料への水素チャージ方法およびこの水素チャージ方法を利用した水素脆化特性の評価方法において、材料の溶失をほとんど生じさせることなく、材料に対して、必要とされるレベルの拡散性水素濃度に水素を簡便且つ低コストにチャージする。 - 特許庁