extreme high vacuumとは 意味・読み方・使い方

To provide a high-order higher harmonic generating spectral system which extracts only higher harmonic of a specific degree to enable the spectral measurement, due to extreme-ultraviolet/vacuum ultraviolet rays generated by pulse laser beam.例文帳に追加

特定の次数の高次高調波だけを取り出し、パルスレーザー光によって発生する極端紫外・真空紫外光による分光計測を可能にする高次高調波発生・分光システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for creating a body to be polished that can polish even solid and minute samples, and can provide a sample suitable for analysis under extreme high vacuum.例文帳に追加

硬くて微小な試料であっても研磨することができ、超高真空下の分析に適する試料を提供することができる被研磨体の作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus which is lithographic projection apparatus which uses extreme ultra-violet rays, wherein a substrate is disposed on a carrier in the minimum delivery number and high accuracy, when the substrate is loaded into a vacuum chamber via a load lock.例文帳に追加

超紫外線を使うリソグラフィ投影装置であって、基板をロードロックを介して真空室に装填する場合に、基板を最少の受渡し回数で且つ高精度で支持体上に配置する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an extreme ultraviolet light source apparatus in which the reflectivity of an EUV collector mirror is hard to degrade when the particles of low transmission coefficient against EUV light stick even if a high speed ion released from plasma collides with a structure within a vacuum chamber.例文帳に追加

プラズマから放出される高速イオンが、真空チャンバ内の構造物に衝突しても、ＥＵＶ光に対する透過率の低い粒子の付着により、ＥＵＶコレクタミラーの反射率が低下し難い極端紫外光源装置を提供する。 - 特許庁

When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with X-rays, vacuum UV, extreme-ultraviolet radiation or soft X-rays, a high molecular material obtained by extending the π electron system of an aromatic ring in an aromatic ring-containing existing resist material is used as a high molecular material constituting the resist layer.例文帳に追加

Ｘ線、真空紫外線、極紫外線、軟Ｘ線のいずれかでレジスト層を選択的に露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、芳香族環を含む既存レジスト材料における芳香族環のπ電子系をより拡張した高分子材料を用いる。 - 特許庁

The method includes emitting extreme-ultraviolet and/or vacuum-ultraviolet photons, having energy sufficiently high to initiate photodegradation of water molecules absorbed in a material, exposing the surface to the noble-gas plasma capable of emitting radicals of oxygen, hydrogen, and/or hydroxyl groups, and removing the radicals from the reaction chamber.例文帳に追加

該方法は、材料に吸収された水分子の光分解を引き起こすのに充分なエネルギーを有する、極端紫外及び／又は真空紫外のフォトンを放射して、酸素、水素及び／又は水酸基のラジカルを放出させることが可能である希ガスプラズマに対して該表面を露出することと、反応チャンバからラジカルを除去することとを含む。 - 特許庁