ionized clusterとは 意味・読み方・使い方

In the method and the apparatus for ionizing cluster, a cluster ion beam source 5 is included, the cluster ion beam source has a wavelength control mechanism (diffraction grating, aperture slit) capable of controlling the wavelength of the light irradiated on the cluster in a wavelength range having the energy to cause ionization by inner shell electron, and the cluster is ionized in multivalent manner by utilizing Auger process.例文帳に追加

クラスターのイオン化方法または装置において、クラスターイオンビーム源５を備え、該クラスターイオンビーム源を、クラスターに照射される光の波長を内殻電子による電離が起きるエネルギー持つ波長範囲に制御可能とした波長制御機構（回折格子，アパチャースリット）を有する構成とし、オージェ過程を利用してクラスターを多価にイオン化するように構成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for ionizing cluster capable of increasing the energy per atom constituting the cluster without changing the acceleration voltage when accelerating cluster ions in manufacturing elements or the like, and a method for forming a film using the cluster ionized thereby, an etching method, a surface modification method and a cleaning method.例文帳に追加

素子の製造等においてクラスターイオンを加速するに際し、加速電圧を変えることなくクラスターを構成する原子１個当たりのエネルギーを向上させることが可能となるクラスターのイオン化方法および装置、これらによりイオン化されたクラスターを用いた膜形成方法、エッチング方法、表面改質方法、洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In this method for vapor-depositing a carbonaceous hard film on a base material under the evacuated pressure, in the case an evaporation carbonaceous material is ionized or is not ionized and is deposited on the surface of a substrate, gas cluster ions generated by ionizing a gas cluster as an aggregate of the atoms or molecules of a substance gaseous at ordinary temperature and under ordinary pressure are cast to deposit a film.例文帳に追加

真空減圧下に基材上に炭素質の硬質膜を気相成膜する方法であって蒸発炭素質材料を、イオン化して、もしくはイオン化せずに基体表面に付着させる際に、常温・常圧下では気体状の物質の原子または分子の集合体としてのガスクラスターをイオン化して生成させたガスクラスターイオンを照射して成膜する。 - 特許庁

The gas cluster is ionized by irradiating the gas cluster obtained by adiabatic expansion of a gaseous substance with an ultraviolet ray having a wavelength range of 10-100nm, or a soft X-ray having a wavelength range of 2-10nm.例文帳に追加

気体状物質の断熱膨張によって得たガスクラスターに、波長範囲が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の紫外線、または波長範囲が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の軟Ｘ線を照射することによって前記ガスクラスターをイオン化する。 - 特許庁

A cleaning gas is sprayed toward a wafer W with the foreign material 22 adhered and disposed in an almost vacuum atmosphere at any one of pressures of 0.3-2.0 MPa to form a cluster 21 formed of a plurality of gas molecules 20 and the cluster 21 is brought into collision with the wafer W in a not-ionized state.例文帳に追加

異物２２が付着し且つほぼ真空の雰囲気中に配されるウエハＷに向けて０．３ＭＰａ〜２．０ＭＰａのいずれかの圧力で洗浄ガスを噴霧して複数のガス分子２０からなるクラスター２１を形成し、該クラスター２１をイオン化することなくウエハＷへ衝突させる。 - 特許庁

Electric power is supplied into a chamber 2 through a base material holder 5 for holding the base material 15 from a rear surface side, by which the clusters spouted from the cluster evaporation source 3 are cluster ionized and the film is formed on the base material 15.例文帳に追加

基材１５を背面側から保持する基材ホルダ５を介してチャンバ２内に電力を供給することにより、クラスター蒸発源３より噴出したクラスターをクラスターイオン化させるとともに基材１５上に膜を形成する。 - 特許庁

Water cluster is considerably reduced by charging water through an electric floor plate of high negative electric potential, and ionized water with positive-charged ions and negative-charged ions firmly coupled with each other is used in the hydrogen gas generator.例文帳に追加

水をマイナス高電位の電床板を通じ電荷することで、水のクラスターは激小し、（＋）と（−）に帯電したイオンが強く結合したイオン水を本発明の装置に使用する。 - 特許庁

A nozzle 5 for producing clusters by blowing off gas for adiabatic expansion is arranged in a cluster production chamber 2 partitioned with a skimmer 4, and the clusters produced are ionized at an ionization device 20.例文帳に追加

ガスを噴出して断熱膨張させクラスターを生成するノズル５を、スキマー４で仕切られたクラスター生成室２に配置し、生成したクラスターをイオン化装置２０にてイオン化させる。 - 特許庁