isolation zoneとは 意味・読み方・使い方

During the web 5 is stopped, air in an isolation zone 3 and a drying zone 4 is sent to a coating zone 2 to prevent the flow-in of the high temperature high humidity air in the coating zone 2 to the isolation zone 3 and the drying zone 4.例文帳に追加

ウェブ５の停止中には、隔離ゾーン３と乾燥ゾーン４内の空気を塗布ゾーン２内に送風し、塗布ゾーン２内の高温高湿の空気が隔離ゾーン３と乾燥ゾーン４とに流れ込まないようにする。 - 特許庁

At the time of coating and hardening, the air in the coating zone 2 and the drying zone 4 is sent to the isolation zone 3 and discharged from the isolation zone 3 to the outside of the device to prevent the generation of the dew condensation in each zone.例文帳に追加

塗布，固化時には、塗布ゾーン２と乾燥ゾーン４内の空気を隔離ゾーン３内に送風し、隔離ゾーン３から装置外に排気することで各ゾーン内での結露の発生を防止する。 - 特許庁

To obtain a base isolation effect of a wide frequency band zone by making an absolute liquid face which does not vibrate by the flexible variation of the air pressure of the air chamber, in a floating up and down base isolation method using an air chamber in common.例文帳に追加

空気室を併用した浮体式上下免振方法において、空気室の気圧を柔軟に変化することにより振動しない絶対液面を作り、広い周波数帯域の免振効果を得る。 - 特許庁

In addition, the method comprises the steps of: forming element isolation film consisting of the silicon oxide film including the nitrogen; introducing the heavy hydrogen to the element isolation film; forming the semiconductor device to element region in the semiconductor substrate divided in zone by the element isolation film; and diffusing the heavy hydrogen by heating the semiconductor substrate.例文帳に追加

また、半導体基板に、窒素を含むシリコン酸化膜による素子分離膜を形成し、前記素子分離膜に、重水素を導入し、前記素子分離膜により区画された、前記半導体基板における素子領域に、半導体素子を形成し、前記半導体基板を加熱して、重水素を拡散する。 - 特許庁

By reflexing the light generated from an active zone in the thin-film active layer by the isolation layer and the metalized layer formed on the surface of the mesa, luminous efficiency is improved.例文帳に追加

薄膜活性層内の活性ゾーンにより発生した光をメサの表面に形成したアイソレーション層とメタライズ層により反射させることで発光効率を向上させる。 - 特許庁

A P^+ buried layer 29 is formed in all or a part of the zone of the photodiode 12 through a process same as that of a P^+ buried layer 15 for device isolation.例文帳に追加

フォトダイオード12の領域の全部または一部にはＰ^＋埋め込み層29が、素子間分離用のＰ^＋埋め込み層15と同一プロセスで形成される。 - 特許庁

To provide a temporary passageway to be used in areas such as a worksite for removing asbestos or a workplace that needs measures to stop the spread of dust pollution, and a zone polluted with a toxic gas or bacteria, which is designed for work requiring complete isolation from outside, can be disposed of after use, produced at a low cost, and stored in a smaller space.例文帳に追加

アスベスト除去現場や粉塵公害を拡散させられない作業場、および、有毒ガスや細菌等で汚染された区域などで、確実に外部との隔離を要する作業で利用する使い捨てを前提にした、低価格で、保管スペースを低減した仮設廊下の考案を提供する。 - 特許庁