light ion beamとは 意味・読み方・使い方

In this ion beam generating method, laser light having a wavelength of 1083 nm is irradiated into the helium plasma generated by high frequency discharge to carry out optical pumping.例文帳に追加

イオンビーム発生方法は、高周波放電によるヘリウムプラズマ中に波長１０８３ｎｍのレーザ光を照射して光ポンピングする。 - 特許庁

To eliminate the influence of lowering of light transmittance caused in the removal of a black defect with a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いて黒欠陥を除去する際に生ずる光透過率低下の影響を排除する。 - 特許庁

To provide an EUV light source device which can effectively collect high-speed ion debris generated when a laser beam is applied to a target.例文帳に追加

ＥＵＶ光源装置において、ターゲットにレーザ光を照射することによって発生する高速なイオンデブリを効率良く回収する。 - 特許庁

Next, a P^+-drain layer 1 is formed on the rear surface of the N^+-buffer layer 2 by means of the ion implantation and irradiation of a second laser light beam.例文帳に追加

次に、Ｎ^＋バッファ層２の裏面にイオン注入と第２のレーザ照射によりＰ^＋ドレイン層１を形成する。 - 特許庁

The energy to be given may be one of light energy, laser light energy, electron beam energy, ion beam energy, and thermal energy if they can melt with one another the particulates made of the conductive substances.例文帳に追加

エネルギーは、導電性物質からなる微粒子同士を融着させることができるエネルギーであれば、光エネルギー、レーザー光エネルギー、電子ビームエネルギー、イオンビームエネルギー、熱エネルギーのいずれであってもよい。 - 特許庁

A neutral atom of the element contained in the hair is ionized in the ion source 40 by electron beam irradiation or light irradiation, to mass-analyze an ion obtained therein of the element contained in the hair, by the analytical part 50.例文帳に追加

イオン源４０では、毛髪含有元素の中性原子を電子線照射または光照射によってイオン化し、これにより得られる毛髪含有元素のイオンを分析部５０で質量分析する。 - 特許庁

The vacuum container for the beam deflection electromagnet comprises the distribution ion pump 1 keeping vacuum inside the container 2 and the absorber 8 receiving radiated light and protecting the generation of the high-temperature part inside the container caused by the irradiation of radiated light.例文帳に追加

容器２内部を真空に保つための分布イオンポンプ１と、放射光の照射により容器内に高温部が発生するのを防ぐよう放射光を受光するアブソーバ８とを有するビーム偏向電磁石用真空容器である。 - 特許庁

Brightness of a first light source 7 and brightness of a second light source 8 can be set optionally and variably to have luminous intensity with which an operator can easily observe an image, during a prescribed period T_2 from an ion beam machining start time t_0.例文帳に追加

イオンビーム加工開始時刻ｔ_０から所定期間Ｔ_２においては、第１光源７の輝度と第２光源８の輝度は、オペレータが像を観察しやすい明るさに任意に可変設定される。 - 特許庁