methylenephosphonic acidとは 意味・読み方・使い方

The semiconductor substrate is cleaned in a basic hydrogen peroxide cleaning-liquid containing diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt, or containing an oxide of diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt at 0.1-5,000 ppm.例文帳に追加

半導体基板をジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、もしくはその塩、またはジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）の酸化体、もしくはその塩を０．１〜５０００ｐｐｍ含有する塩基性過酸化水素洗浄液で洗浄する。 - 特許庁

As the chelating agent, diethylenetriamine pentaacetic acid-3 sodium, hydroxyethylethylenediamine triacetic acid-3 sodium, nitrotris(methylenephosphonic acid) or sodium gluconate are preferable.例文帳に追加

キレート剤としては、ジエチレントリアミン５酢酸・３ナトリウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン３酢酸・３ナトリウム、ニトリロトリス（メチレンホスホニックアシッド）又はグルコン酸ナトリウムが好ましい。 - 特許庁

A method for manufacturing the mesa-type semiconductor device comprises the steps of adding any of ethylenediamine tetraacetate, a hydroxyethylethylenediamine triacetate, hydroxyethylidene diphosphonate, methylenephosphonic acid, and diethylenetriamine pentaacetate to an alkali solution for etching, or cleaning them with added pure water, after the alkali etching.例文帳に追加

エツチング用のアルカリ溶液にエチレンジアミン四酢酸塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸塩、ヒドロキシエチリデン二ホスホン酸塩、メチレンホスホン酸、ジエチレントリアミン五酢酸塩のいずれかを加え、またはアルカリエツチング後に、それらを加えた純水で洗浄する。 - 特許庁