microwave excited plasmaとは 意味・読み方・使い方

The microwave plasma treatment apparatus 100 includes a treatment container 10 in which plasma is excited, a microwave source 40 which supplies a microwave for exciting the plasma in the treatment container 10, and the dielectric plate 31 which faces an inner side of the treatment container 10 and transmits the microwave supplied from the microwave source 40 into the treatment container 10.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置１００は、内部にてプラズマが励起される処理容器１０と、処理容器１０の内部にプラズマを励起するためのマイクロ波を供給するマイクロ波源４０と、処理容器１０の内側に面し、マイクロ波源４０から供給されたマイクロ波を処理容器１０の内部に伝送させる誘電体板３１と、を備える。 - 特許庁

A composition to which a microwave excitation electrodeless lamp can be inserted is provided in a decompression treatment vessel, plasma is not excited in a first step by using a microwave oscillator for generating plasma, and ordinary plasma treatment is conducted by putting in an object to be treated in a second step by conducting ozone cleaning by UV emission.例文帳に追加

減圧処理容器内部に、マイクロ波励起無電極ランプを挿入できる構成を設け、プラズマ生成用のマイクロ波発振器を使用し、第1の工程でプラズマを励起せず、ＵＶ発光によるオゾンクリーニングを実施し、第2の工程で処理対象物を入れ、通常のプラズマ処理を行う。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 100 is provided with a processing vessel 10 inside which plasma is excited in a required vacuum state, a microwave source 900 supplying microwave in the processing vessel for exciting plasma, and a dielectric plate 305 facing inside the processing vessel 10 for transmitting the microwave supplied from the microwave source 900 into the processing vessel.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００は、所望の真空状態にある内部にてプラズマが励起される処理容器１０と、処理容器内にプラズマを励起するためのマイクロ波を供給するマイクロ波源９００と、処理容器１０の内側に面し、マイクロ波源９００から供給されたマイクロ波を処理容器内に伝送させる誘電体板３０５と、を備える。 - 特許庁

As the plasma is formed, the microwaves become surface waves spreading over the entire microwave introducing window 3a, i.e., the discharge surface, thus forming a surface wave excited plasma.例文帳に追加

プラズマが形成されるとマイクロ波は表面波となって放電面であるマイクロ波導入窓３ａの全体へと拡がり、表面波励起プラズマが形成される。 - 特許庁

To provide a microwave-excited plasma treatment device capable of self igniting plasma under atmospheric pressure or near the atmospheric pressure, evading electrical and physical damage to a workpiece, and obtaining a stable treatment rate.例文帳に追加

大気圧下で又は大気圧付近の圧力で、プラズマの自己着火ができ、被加工物に対する電気的及び物理的ダメージを回避し、安定した処理速度を得ることができるマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The microwave plasma treatment device includes: a treatment vessel 10 in which plasma is excited at the inside; a microwave source feeding electromagnetic waves required for exciting the plasma into the treatment vessel; and an alumina member 30 provided in the treatment vessel, and the surface at least exposed to the plasma in the alumina member is coated with a film of aluminum nitride.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置は、内部にてプラズマが励起される処理容器１０と、前記処理容器内にプラズマを励起するために必要な電磁波を供給するマイクロ波源と、前記処理容器内に設けられたアルミナ部材３０と、を有し、前記アルミナ部材の少なくともプラズマに晒される表面は、窒化アルミニウムの膜にてコーティングされている。 - 特許庁

To perform a surface reforming and an etching processing simultaneously on both surfaces of many boards such as flexible circuit boards in a microwave-excited plasma processing device.例文帳に追加

マイクロウェ−ブ励起プラズマ処理装置に於いて、可撓性回路基板等の多数枚の被処理基板の表面改質及びエッチング処理等を両面同時に行うことができる回路基板のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for generating excited and/or ionized particles in plasma, in which the apparatus may be used with large microwave capacity, and has a long effective life of a gas discharge chamber.例文帳に追加

大マイクロ波能力で使用でき同時に気体放電チャンバの有効寿命が長い、プラズマ中で励起および／またはイオン化された粒子を発生する装置および方法を提供すること。 - 特許庁