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notching ratioとは 意味・読み方・使い方
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該当件数 : 1件
A conducive wiring is formed of a T-shaped silicon layer pattern 40 whose lower sides are etched by the use of a notching phenomenon caused by a difference of etching selected ratio between a silicon layer 39 and a base layer 37.例文帳に追加
シリコン層39と下地層37のエッチング選択比の差により誘発されるノッチング(notching)現象を利用し、下部が側面エッチングされた“T”字形態のシリコン層パターン40にて導電配線を形成する。 - 特許庁
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