ph-pとは 意味・読み方・使い方

(2) The method for producing the polymer by reacting the phenols at the rate of 3.0 mole or more with respect to the total 1 mol of salicyl aldehyde and formaldehyde at ≤70°C.例文帳に追加

Ph(OH)-［CH_2-(Ph)OH］_m-［CH((PH)OH)((PH)OH)］_ｎ （式中、Phは、フェニル、フェニレン等のベンゼン核残基であり、m/mが0.7/1〜1.5/1であり、上記CH_2基のOH基に対する置換位置がp/o位で2.0以上である） (2)サリチルアルデヒドとホルムアルデヒド合計１モルに対しフェノール類を3.0モル以上の割合で、70℃以下の温度で反応させることにより上記フェノール系重合体を製造する方法。 - 特許庁

The substrate holder PH is coated by a functional layer 35 composed of a material which can be processed, in such a way that a contact surface 34A in contact with substrate P possesses profile irregularity higher than that of the substrate PB of the substrate holder PH.例文帳に追加

その基板ホルダＰＨは、基板Ｐとの接触面３４Ａが、基板ホルダＰＨの基材ＰＢよりも高い面精度で加工可能な材料の機能層３５で被覆されている。 - 特許庁

% of units each having a structure represented by formula (1): RO-Ph-CO_2 [Ph is o-, m- or p-phenylene group (two or more phenylene groups may be bound to an aromatic ring); R is a 1 to 10C alkylene], when the total amount of the polyester resin is 100 wt.%.例文帳に追加

−ＲＯ−Ｐｈ−ＣＯ_２− （１）（式中Ｐｈ：ｏ−、ｍ−、またはｐ−フェニレン基（ただし１個以上の置換基が芳香環に結合されていても良い）、Ｒ：炭素数１〜１０のアルキレン基を表す） - 特許庁

Also, the discharge plasma P simultaneously forms the hollow discharge plasma Ph and the glow discharge Pg, and the substrate 14 is synchronously etched.例文帳に追加

しかも、放電プラズマＰはホロー放電プラズマＰｈとグロー放電プラズマＰｇを同時に形成し、同時進行で基板１４をエッチングする。 - 特許庁

A processing face 14a of the substrate 14 is deeply dug by the hollow discharge plasma Ph formed at the central part of the discharge plasma P.例文帳に追加

放電プラズマＰの中心部に形成されたホロー放電プラズマＰｈにて、基板１４の処理面１４ａを深堀加工する。 - 特許庁

At this time, since there is available the read pattern P in the proximity of the incident surface side of the scintillator 31, the visible photons ph are not scattered or if scattered, but the visible photons ph will not be scattered not so much, and by the read out pattern P converted into carriers.例文帳に追加

このとき、シンチレータ３１の入射面側の近傍に読み出しパターンＰがあるので、可視光フォトンｐｈが散乱することなく、あるいは散乱しても可視光フォトンｐｈがさほどに拡がらずに済んで読み出しパターンＰでキャリアとして変換されて読み出される。 - 特許庁

The apparatus EX for exposing comprises a substrate holder PH for mounting a photosensitive substrate P, and a soft X-ray emitting unit 11 for emitting soft X-rays XB which are different from an exposure light EL along a mounting surface A of the holder PH for mounting the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨと、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨの載置面Ａに沿って露光光ＥＬとは異なる軟Ｘ線ＸＢを照射する軟Ｘ線照射部１１とを備えている。 - 特許庁

Consequently, the head PH of the passenger P becomes while being enfolded by the recess 20 on the upper side, and the shoulder PS etc. of the passenger P becomes while being enfolded by the recess 21 on the lower side.例文帳に追加

従って、このときには乗員Ｐの頭部ＰＨが上記上側の凹部２０によって包まれた状態になるとともに、乗員Ｐの肩部ＰＳ等が上記下側の凹部２１によって包まれた状態となる。 - 特許庁