photo-acid generating agentとは 意味・読み方・使い方

The photosensitive resin composition contains at least a copolymer containing at least one of methyl methacrylate or benzyl methacryalate, a photo acid generating agent and a cross-linking agent for cross-linking by the action of the photo acid generating agent.例文帳に追加

メタクリル酸メチル又はベンジルメタクリレートの少なくとも１つを含む共重合体、光酸発生剤、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤を含む感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The photo-curing composition for blocking light is composed of a vinyl ether based compounds and a photo-acid-generating agent.例文帳に追加

本発明の遮光用光硬化性組成物は、ビニルエーテル系化合物及び光酸発生剤で構成されている。 - 特許庁

To provide a photo-acid generating agent which enhances transparency and can prevent the lowering of sensitivity and of thermal stability, a photoresist composition containing the photo-acid generating agent and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

透明性を向上させた上で、感度及び熱安定性の低下を防止することができるようにした光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The optical recording and reproducing medium has a recording part wherein a photo-acid generating agent and an acid sensible fluorescent material are added to at least an organic host material.例文帳に追加

少なくとも有機ホスト材料に、光酸発生剤及び酸敏感性蛍光材料が添加された記録部を有する構成とする。 - 特許庁

To provide a new photo-acid generating agent having satisfactory photodegradation efficiency and a photosensitive resin composition containing the agent.例文帳に追加

光分解効率が十分な新規光酸発生剤及びそれを含有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The ink composition contains (a) a tertiary amine compound having a cationically polymerizable group, (b) a photo acid-generating agent and (c) a cationically polymerizable compound.例文帳に追加

（ａ）カチオン重合性基を有する３級アミン化合物、（ｂ）光酸発生剤、（ｃ）カチオン重合性化合物、を含有するインク組成物である。 - 特許庁

ONIUM SALT COMPOUND, PHOTO-ACID-GENERATING AGENT, CATIONIC POLYMERIZATION INITIATOR, RESIST COMPOSITION AND CATIONICALLY POLYMERIZABLE COMPOSITION例文帳に追加

オニウム塩化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物 - 特許庁

The material for controlling a resist pattern profile contains: a matrix resin having a sulfone group; a photo-acid generating agent; and a solvent.例文帳に追加

本発明のレジストパターン形状制御材料は、スルホン基を有する基材樹脂、光酸発生剤、及び溶剤を含むことを特徴とする。 - 特許庁