postexposureとは 意味・読み方・使い方

postexposure prophylaxis is an integral part of the pharmacopeia in preventing severe disease after acute infections発音を聞く 例文帳に追加

暴露後予防は急性感染症の後に重い疾患を予防することにおける薬局方の不可欠の部分である - 日本語WordNet

The problem is solved by measuring ultraviolet-light transmissivity of the developing solution and setting a light quantity of an ultraviolet-light source for postexposure according to the measurement result of the ultraviolet-light transmissivity.例文帳に追加

現像液の紫外光透過率を測定し、紫外光透過率の測定結果に応じて、後露光を行なう紫外光光源の光量を設定することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a developing device which develops a photosensitive material, exposed in an image pattern by visible light or ultraviolet light, with a developing solution, the developing device being capable of performing stable and suitable postexposure.例文帳に追加

可視光または紫外光によって像様に露光された感光材料を現像液で現像する現像装置において、現像液の汚れによらず、安定して適正な後露光が行なえる現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a photopolymerizable sensitive material in which postexposure is possible with a low energy light source having little adverse effect on an operator and working environment, and by which a printing durability improving effect is made significant and excellent stability is ensured.例文帳に追加

作業者や作業環境にとって悪影響の少ない低エネルギーの光源で後露光処理が可能であり、かつ、耐刷性の改善効果が顕著で安定性の優れた光重合性感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the photosensitive resin plate is characterized in that a solution containing a silicon compound and/or a fluorine compound is deposited on the surface of a resin plate before postexposure.例文帳に追加

後露光前に、樹脂版の版面に、シリコン系化合物および／またはフッ素系化合物を含有した溶液を、付着させることを特徴とする感光性樹脂版の製造方法。 - 特許庁

In the processing method for a photopolymerizable sensitive material containing (A) an ethylenically unsaturated compound, (B) a photoinitiator, (C) a sensitizing dye and (D) a polymer binder, the photoinitiator is an organic boron salt, and after exposure and development, postexposure is performed with a light source including a wavelength of 600-900 nm.例文帳に追加

Ａ）エチレン性不飽和化合物、Ｂ）光重合開始剤、Ｃ）増感色素、Ｄ）高分子結合材を含む光重合性感光材料の処理方法において、光重合開始剤が有機ホウ素塩であり、露光及び現像処理後、６００〜９００ｎｍの波長を含む光源で後露光することを特徴とする光重合性感光材料の処理方法。 - 特許庁