silicide contactとは 意味・読み方・使い方

A part of the silicide layer 6 directly under the contact hole is turned amorphous through an ion implantation method 13, by which silicide is lessened in wet resistance, and silicide directly under the contact hole is removed in a self- aligned manner, after silicide is cleaned and pre-treated before polysilicon is grown.例文帳に追加

イオン注入法１３により、コンタクト孔直下部分のシリサイド層６をアモルファス化することにより、シリサイドのウェット耐性を低下させ、更に、ポリシリコンの成長前にシリサイドの洗浄と前処理を施すした後に、コンタクト孔直下のシリサイドが自己整合的に除去される。 - 特許庁

To suppress a silicide layer from being formed deeper than a diffusion layer, even if a second silicide layer is formed on the bottom surface of a contact hole connected to a first silicide layer on the diffused layer.例文帳に追加

拡散層上の第１のシリサイド層に接続するコンタクトホールの底面に第２のシリサイド層を形成しても、シリサイド層が拡散層より深く形成されることを抑制する。 - 特許庁

A metal silicide 108 is used as an Ohm contact point layer in the TFT structure.例文帳に追加

金属ケイ化物１０８が、ＴＦＴ構造におけるオーム接点層として使用される。 - 特許庁

BIPOLAR TRANSISTOR HAVING SELF-ALIGNED SILICIDE AND SELF-ALIGNED EMITTER CONTACT BORDER例文帳に追加

自己整合シリサイドおよび自己整合エミッタ・コンタクト境界を有するバイポーラ・トランジスタ - 特許庁

To provide a method of forming a silicide layer which is in contact with a silicon substrate.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板に接触するシリサイド層を形成するための方法を与える。 - 特許庁

A lower contact hole A is provided with a titanium silicide film 105 at its bottom.例文帳に追加

下側のコンタクトホールＡは、その底部にチタンシリサイド膜１０５が形成されている。 - 特許庁

A contact 513 is connected to the first gate electrode 230 via the silicide layer 235.例文帳に追加

そしてコンタクト５１３は、シリサイド層２３５を介して第１ゲート電極２３０に接続している。 - 特許庁

In the etching process, etching of a contact groove 96 is stopped at the silicide film 102 until a contact groove 110 reaches the FD 52 after the contact groove 96 reaches to the silicide film 102.例文帳に追加

エッチング工程において、コンタクト溝９６がシリサイド膜１０２に到達した以降、コンタクトホール１１０がＦＤ５２に到達するまで、コンタクト溝９６のエッチングはシリサイド膜１０２で停止される。 - 特許庁