Arreglo de Antenas

Figure 1 Half-wave dipole array antennas. Figure 2 Flat microstrip array antennas.

Figure 3 Turnstile array antennas.

Figure 4 Parabolic array antennas.

Figure 5 Helical array antennas.

Observatorio de Flickr
agrupación lineal de dipolos
agrupación de ranuras
agrupación de parches
agrupación de aperturas
agrupación planar (reticular, circular)
agrupación de bocinas
agrupación de antenas microstrip
Por lo general, el patrón de radiación de un solo elemento es relativamente amplio y cada elemento proporciona
valores bajos de directividad (ganancia).

En muchas aplicaciones es necesario diseñar antenas con características muy directivas (ganancias muy altas)
para satisfacer las demandas de la comunicación a larga distancia. Incrementando el tamaño eléctrico de la
antena.

Otra forma de ampliar las dimensiones de la antena, sin aumentar necesariamente el tamaño de los elementos
individuales, es formar un conjunto de elementos radiantes en una configuración eléctrica y geométrica.
array antenna

En la mayoría de los casos, los elementos de una matriz son idénticos.

Esto no es necesario, pero a menudo es conveniente, más simple y más práctico.
Los elementos individuales de una matriz pueden tener cualquier forma (cables, aberturas, etc.).
El campo total de la matriz está determinado por la suma vectorial de los campos irradiados por los elementos
individuales.
Esto supone que la corriente en cada elemento es la misma que la del elemento aislado
Para proporcionar patrones muy directivos, es necesario que los campos de los elementos de la matriz interfieran
constructivamente (sumen) en las direcciones deseadas e interfieran destructivamente (se cancelen entre sí) en el
espacio restante.

En una matriz de elementos idénticos, hay al menos cinco controles que se pueden usar para dar forma al patrón
general de la antena.

1. la configuración geométrica de la matriz general (lineal, circular, rectangular, esférica, etc.)

2. el desplazamiento relativo entre los elementos
3. la amplitud de excitación de los elementos individuales
4. la fase de excitación de los elementos individuales
5. el patrón relativo de los elementos individuales

la influencia que cada uno de los anteriores tiene sobre las características generales
de radiación
la antena bajo investigación es una matriz de dos dipolos horizontales infinitesimales colocados a lo largo del eje z

 j  kr   2    j  kr    2  
kI 0 l  e  1 e  2 
 (donde 𝛽 es la diferencia en la excitación de
Er  E1  E2  aˆ  j  cos 1  cos  2  (6-1)
4  r1 r2 
fase entre los elementos)


Para variaciones de fase

(6-2)

Para variaciones de amplitud

Figure 6.1 Geometría de una matriz de dos elementos colocada a lo

largo del eje z.
 kI 0 le  jkr
cos  e 
 j kd cos    2
e 
 j kd cos    2 
Et  aˆ  j
4 r   El campo total de la matriz es igual al campo de un solo
kI 0 le  jkr  1   (6-3) elemento posicionado en el origen multiplicado por un
Et  aˆ  j cos  2 cos   kd cos       factor que se conoce ampliamente como el factor de matriz.
4 r  2 

El factor de array es una función de la geometría del

1  arreglo y la fase de excitación. Variando la separación 𝑑 y /
AF  2 cos   kd cos      (6-4)
2  o la fase 𝛽

 AF n  cos   kd cos    

1 entre los elementos, se pueden controlar las características
(6-4a)
2  del factor de matriz y del campo total de la matriz.

Se ha ilustrado que el campo de la zona lejana de un arreglo uniforme de dos elementos idénticos es igual al
producto del campo de un solo elemento, en un punto de referencia seleccionado (generalmente el origen), y el
factor de matriz de esa formación.

E(total)  E  single element at reference point     array factor  (6-5)

 total field   element factor    space factor 

E(total) = [E(element simple en el punto de referencia)] × [factor de arreglo] (6-5)

Esto se conoce como multiplicación de patrones para arreglo de elementos idénticos.

Campo Total= (factor de elemento) × (factor espacial) (4-59)

Cada arreglo tiene su propio factor de arreglo. El factor de arreglo, en general, es una función del número de
elementos, su disposición geométrica, sus magnitudes relativas, sus fases relativas y sus espaciamientos.
El factor de matriz será de forma más simple si los elementos tienen amplitudes, fases y espaciamientos idénticos.

Dado que el factor de arreglo no depende de las características direccionales de los propios elementos radiantes,
se puede formular reemplazando los elementos reales con fuentes isotrópicas (puntuales). Una vez que se ha
derivado el factor de matriz usando la matriz de fuente puntual, el campo total de la matriz real se obtiene mediante
el uso de (6-5).
Se supone que cada fuente puntual tiene la amplitud, fase y ubicación del elemento correspondiente que está
reemplazando.
Para sintetizar el patrón total de una arreglo, el diseñador no solo debe seleccionar los elementos radiantes
adecuados, sino también la geometría (posicionamiento) y la excitación de los elementos individuales.

𝜋 𝜋
※ Ex. Encuentre los nulos del campo total cuando 𝑑 = 𝜆 4 , 𝛽 = 0, 𝛽 = + , 𝛽 = − .
2 2

𝑖. 𝛽 = 0

 
Etn  cos  cos  cos   (6-1-1)
4 

 
Etn  cos  cos  cos   0 (6-1-2)
4   n

cos  n  0   n  90

    
Figura 6.1 Geometría de una matriz de dos elementos colocada a cos  cos  n   0  cos  n  ,    n  does
No not
existe
exist
lo largo del eje z. 4  4 2 2
Para sintetizar el patrón total de una arreglo, el diseñador no solo debe seleccionar los elementos radiantes
adecuados, sino también la geometría (posicionamiento) y la excitación de los elementos individuales.
𝜋 𝜋
※ Ej. Encuentre los nulos del campo total cuando 𝑑 = 𝜆 4 and 𝛽 = 0, 𝛽 = + , 𝛽 = − .
2 2

𝜋
𝑖𝑖. 𝛽 = +
2

 
Etn  cos  cos   cos   1  (6-1-3)
4 

 
Etn  cos  cos   cos   1  0 (6-1-4)
4   n

cos  n  0   n  90

   
cos   cos  n  1   0   cos  n  1    n  0
Figure 6.1 Geometry of two-element array positioned along the z-axis. 4  4 2
 
  cos  n  1     n  does not exist
No existe
4 2
El único nulo ocurre en 𝜃 = 90 ° y se debe al patrón de los elementos individuales.
El factor de arreglo no aporta nulos adicionales porque no hay suficiente separación entre los elementos para
introducir una diferencia de fase de 180 ° entre los elementos, para cualquier ángulo de observación.

Figura 6.3 Elementos, factor de matriz y patrones de campo total de una matriz de dos elementos de dipolos
horizontales infinitesimales con excitación de fase idéntica 𝛽 = 0°, 𝑑 = 𝜆 4 .
 Los nulos del arreglo suceden en 𝜃 = 90° y 0°.
en nulo en 0° es introducido por la disposición de los elementos the arrangement of the elements (factor de array).

El elemento en el eje z negativo tiene un desfase de fase

inicial de 90 ° con respecto al otro elemento.

A medida que la onda de ese elemento viaja hacia el positivo

eje z (𝜃 = dirección 0 °), sufre un retardo de fase adicional de
90 ° cuando llega al otro elemento en el eje z positivo. Por lo
tanto, hay una diferencia de fase total de 180 ° entre las ondas
de los dos elementos cuando el viaje es hacia el eje z positivo
(𝜃 = 0 °).

Las ondas de los dos elementos están en fase cuando viajan en

el eje z negativo (𝜃 = 180 °), como se muestra en la Figura 6.2
(b).

Figure 6.2 Acumulación de fase para matriz de dos elementos para formación nula hacia 𝜃 = 0° & 𝜃 = 180°.
Los nulos de la matriz ocurren en 𝜃 = 90 ° y 0 °.
El nulo en 0 ° se introduce mediante la disposición de los elementos (factor de matriz).

Figure 6.4 Multiplicación de patrones de elementos, factor de matriz y patrones de matriz total de una
matriz de dos elementos de dipolos horizontales infinitesimales con 𝛽 = 90°, 𝑑 = 𝜆 4.
 𝜋 𝜋
※ Ex. Encontrar los nulos del campo total cuando 𝑑 = 𝜆 4 and 𝛽 = 0, 𝛽 = + , 𝛽 = − .
2 2

𝜋
𝑖𝑖𝑖. 𝛽 = −
2
 
Etn  cos  cos   cos   1  (6-1-5)
4 

 
Etn  cos  cos   cos   1  0 (6-1-6)
 4   n

cos  n  0   n  90

   
Figure 6.1 Geometría de una matriz de dos elementos colocada a lo cos   cos  n  1   0   cos  n  1    n  does
No existe
not exist
largo del eje z.  4  4 2
 
  cos  n  1     n  180
4 2
 Los nulos de la matriz ocurren en 𝜃 = 90 ° y 180 °.
El nulo a 180 ° se introduce mediante la disposición de los elementos (factor de arreglo).

El elemento en el eje z positivo tiene un desfase de 90 ° con

respecto al otro.

La diferencia de fase es de 180 ° cuando el recorrido está

restringido hacia el eje z negativo (𝜃 = 180 °).

No hay diferencia de fase cuando las ondas viajan hacia

el eje z positivo (𝜃 = 0 °).

Figura 6.2.1 Acumulación de fase para arreglo de dos elementos para formación nula hacia 𝜃 = 0 ° y 𝜃 = 180 °.
Los nulos de la matriz ocurren en 𝜃 = 90 ° y 180 °.
El nulo a 180 ° se introduce mediante la disposición de los elementos (factor de matriz).

Figura 6.4 Multiplicación de patrones de elementos, factor de matriz y patrones de matriz total de
una matriz de dos elementos de dipolos horizontales infinitesimales con 𝛽 = −90°, 𝑑 = 𝜆 4.
 ※ Ej. Considere una matriz de dos dipolos infinitesimales idénticos.
Para una separación 𝑑 y diferencia de excitación de fase 𝛽 entre los elementos. Encuentre los ángulos de observación donde
ocurren los nulos de la matriz.
kI 0 le  jkr
cos  e 
 j kd cos    2
e 
 j kd cos    2 
Et  aˆ  j  1 
4 r  normalizado
Etn  cos  cos   kd cos      (6-2-1)
(6-3)
kI le  jkr
 1  2 
Et  aˆ  j 0 cos  2 cos   kd cos      
4 r  2  1 
Etn  cos  cos   kd cos      0 (6-2-2)
 2   n

cos  n  0   n  90

1  1  2n  1 
cos   kd cos  n      0   kd cos  n       
 2  2  2 
Figura 6.1 Geometría de una matriz de dos elementos colocada a lo largo del eje z.   
  n  cos 1       2n  1    ,
El nulo en 𝜃 = 90◦ se atribuye al patrón de los elementos individuales del arreglo, mientras que los restantes se deben
 2 d 
a la formación del arreglo. Para que no haya diferencia de fase entre los elementos (𝛽 = 0), la separación d debe ser n  0, 1, 2, 3,...
igual o mayor que la mitad de una longitud de onda (d ≥ λ ∕ 2) para que ocurra al menos un nulo, debido a la matriz.
Un arreglo de elementos idénticos, todos de idéntica magnitud y cada uno con una fase progresiva, se denomina arreglo
uniforme. El factor de arreglo se puede obtener considerando los elementos como fuentes puntuales. Si los elementos
reales no son fuentes isotrópicas, el campo total puede formarse multiplicando el factor de arreglo de las fuentes
isotrópicas por el campo de un solo elemento. Ésta es la regla de multiplicación de patrones de (6-5) y se aplica solo a
matrices de elementos idénticos. El factor de matriz viene dado por

Geometría de campo lejano y diagrama

fasorial de la matriz de elementos N de
fuentes isotrópicas colocadas a lo largo
el eje z.
 El valor máximo de las ec anteriores es igual a N.

Para normalizar los factores de la matriz de modo que

el valor máximo de cada uno sea igual a la unidad, se
normalizada como

Suponiendo punto de referencia el centro del

arreglo
Para encontrar los nulos del arreglo se iguala a cero

Suponiendo valores pequeños de 𝜓

Para n = N, 2N, 3N,…, (6-10c) alcanza sus valores máximos porque se reduce a una forma sin (0) / 0. Los valores de n
determinan el orden de los nulos (primero, segundo, etc.). Para que exista un cero, el argumento del arcocoseno no puede
exceder la unidad. Por tanto, el número de nulos que pueden existir será función de la separación “d “de elementos y la
diferencia de excitación de fase 𝛽.

El factor de array tiene solamente un maximo y ocurre

cuando m = 0 El ancho del haz de media potencia Θh se puede
El punto de 3 dB para el factor de arreglo de (6-10d) ocurre encontrar una vez que se determinan los
cuando ángulos del primer máximo (𝜃m) y el punto de
media potencia (𝜃h). Para un patrón simétrico
Para el factor de arreglo de (6-10d), hay máximos secundarios (máximos de lóbulos menores) que ocurren aproximadamente
cuando el numerador de (6-10d) alcanza su valor máximo. Es decir:

En ese punto, la magnitud de (6-10d) se

reduce a

El máximo del primer lóbulo menor de (6-10c) ocurre el máximo del primer lóbulo menor del factor
aproximadamente cuando de matriz de (6-10d) es 13,46 dB por debajo
del máximo en el lóbulo mayor
 En muchas aplicaciones, es deseable tener la máxima radiación de un arreglo dirigido perpendicularmente al eje de la matriz.
Los máximos del elemento individual y del factor de matriz deben dirigirse hacia 𝜃 = 90 °.
Por lo tanto, para tener el máximo del factor de arreglo de un arreglo lineal uniforme dirigida lateralmente al eje del arreglo, es necesario que todos los
elementos tengan la misma excitación de fase (además de la misma excitación de amplitud)

Figura 6.5 Geometría de campo lejano de una matriz

Figure 6.6 Patrones de amplitud 3-D para arreglos de fuego lateral y lateral / final
de elementos N de fuentes isotrópicas colocadas a lo
(𝑁 = 10).
largo del eje z.
 En lugar de tener la máxima radiación en el costado del eje del arreglo, puede ser deseable dirigirla a lo largo del eje del arreglo.
De hecho, puede ser necesario que irradie hacia sólo una dirección (𝜃 = 0 ° o 180 ° de la Figura 6.5).

Figure 6.5 Geometría de campo lejano de una matriz

de elementos N de fuentes isotrópicas colocadas a lo Figure 6.6 Patrones de amplitud 3-D para arreglos de fuego final hacia 𝜃 = 0° and 180° (𝑁 = 10, 𝑑 = 𝜆 4).
largo del eje z.
En las dos secciones anteriores se mostró cómo dirigir la radiación principal de una matriz, controlando la excitación de fase entre los
elementos, en direcciones normales (costado) y a lo largo del eje (fuego final) de la matriz.

Entonces es lógico suponer que la radiación máxima puede ser orientado en cualquier dirección para formar una matriz de exploración.

Controlando la diferencia de fase progresiva entre los elementos, la máxima radiación se puede entrecerrar en cualquier dirección
deseada para formar una matriz de exploración.

Figure 6.11 3-D & 2-D array factor patterns for scanning arrays (𝑁 = 10, 𝛽 = −𝑘𝑑𝑐𝑜𝑠𝜃, 𝜃 = 60°, 𝑑 = 𝜆 4).
Efecto del aumento de elementos de
un arreglo lineal
La configuración del array se basará en la adición de dipolos de
longitud λ/2, alimentados con la misma fase relativa y
separados a una distancia entre λ/4 y λ para poder ver cómo la
separación entre elementos también afecta a la forma inicial del
patrón de
radiación.

Se puede observar cómo, dado un espacio constante y un

aumento del número de elementos del array, la directividad del
patrón de radiación va aumentando, y con ello, el número de
lóbulos laterales. Se ha de llegar a un compromiso entre la
directividad que se desea conseguir en el patrón de directividad
final frente al número de lóbulos laterales y la intensidad de
estos, a la hora de diseñar un array lineal.
 Efecto del espaciado de elementos de
un arreglo lineal

En esta caso se modificará la separación entre

antenas fijando el número de elementos que
componen el array a 4 dipolos λ/2.

La principal variación que se observa cuando se

aumenta la distancia entre elementos es la
aparición de nuevos máximos.

Cuando la distancia de separación es menor a λ/2

tan solo aparece un máximo principal.
Conforme la separación aumenta de λ
encontraremos la aparición de nuevos máximos
principales,
De acuerdo al grafico cuando d = λ. Entre λ/4 y λ
encontramos aparición de
lóbulos laterales.
Efecto del Desfase de alimentación de
los elementos de un arreglo lineal

gracias al efecto producido por el desfase en los

dipolos se pueden llegar a conseguir patrones de
radiación desde broadside hasta end-fire.

Este es es principio de funcionamiento de los

phased arrays.
Esta capacidad de reconfigurabilidad
de las antenas es especialmente útil en antenas
donde el sujeto no está fijo y se necesita una
gran directividad para desperdiciar la mínima
energía posible en la radiación