化学気相堆積 (CVD) システム

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200°Cまでの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。