Fotolitografia
Aspeto
Este artigo não cita fontes confiáveis. (Maio de 2012) |
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Fotolitografia é uma técnica utilizada na confecção de circuitos integrados.
Através dessa técnica o circuito é desenhado, fotografado e reduzido a um negativo com o tamanho final requerido. Esse negativo é conhecido por fotomáscara. Em seguida, a luz atravessa a fotomáscara sobre uma lâmina de material semicondutor revestida com um material foto-resistente.
Ao atingir esse material, sua composição se modifica. Depois, o material foto-resistente não atingido pela luz é retirado. Ao final, o material semicondutor é exposto a uma solução de gravação química que marca a superfície não protegida pelo material foto-resistente, criando o molde do circuito desejado da lâmina.
Ver também
[editar | editar código-fonte]Ligações externas
[editar | editar código-fonte]- «Introdução a fotolitografia» (em francês)