Etch Selectivityとは 意味・読み方・使い方

INCREASING ETCH SELECTIVITY OF CARBON FILMS WITH LOWER ABSORPTION CO-EFFICIENT AND STRESS例文帳に追加

吸収係数および応力を低減しつつ炭素膜のエッチング選択性を改善する方法 - 特許庁

A high RF frequency source is employed in certain embodiments to achieve a high etch rate with high selectivity to inorganic dielectric layers.例文帳に追加

所定の実施形態において高ＲＦ周波ソースを用いることで高いエッチング速度を無機誘電体層に対しての高い選択性で達成する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and plasma etching apparatus which can etch an SiC layer with high selectivity with respect to an SiOC layer.例文帳に追加

ＳｉＯＣ層に対して選択性高くＳｉＣ層をエッチングすることのできるプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for attaining high etch selectivity of a silicon nitride film over a silicon oxide film.例文帳に追加

シリコン酸化膜に対するシリコン窒化膜の高いエッチング選択比を達成する技術を提供する。 - 特許庁

From the calculated difference in height and the depth of the trench, the etch selectivity of the etched object 6 against the etching mask 5 can be derived.例文帳に追加

この差と溝の深さとに基づいて、エッチングマスク５に対するエッチング対象物６のエッチング選択比を導き出すことができる。 - 特許庁

The M plasma parameters are selected from a group including wafer voltage, ion density, etch rate, wafer current, etch selectivity, ion energy, and ion mass.例文帳に追加

Ｍ個のプラズマパラメータはウェハ電圧、イオン密度、エッチング速度、ウェハ電流、エッチング選択性、イオンエネルギー及びイオン質量を含む群から選択される。 - 特許庁

The chlorine/oxygen-based plasmas provide good selectivity with high etch rates for Ir and PZT layers and low etch rates for the hard mask.例文帳に追加

塩素／酸素系のプラズマは、Ｉｒ及びＰＺＴ層に対して高いエッチング速度かつハードマスク(360)に対して低いエッチング速度を有する良好な選択性を提供する。 - 特許庁

To etch an aluminum oxide and a silicon oxide film formed thereon with the same etchant in accordance with selectivity to a wiring made of an aluminum film.例文帳に追加

アルミニウム膜からなる配線との選択比をとりつつアルミニウム酸化物及びその上の酸化珪素膜を同一のエッチャントでエッチングする。 - 特許庁