w/aとは 意味・読み方・使い方

The film deposition apparatus 100 includes: a treatment container 1 for housing a wafer W; a substrate heater 11 for heating the wafer W; a holding member 21 for holding the wafer W; a stage 31 as a raw material supporting part; and a raw material heater 41 for heating a solid raw material.例文帳に追加

成膜装置１００は、ウエハＷを収容する処理容器１と、ウエハＷを加熱する基板ヒーター１１と、ウエハＷを保持する保持部材２１と、原料支持部としてのステージ３１と、固体原料を加熱する原料ヒーター４１と、を備えている。 - 特許庁

The CPU 200 calculates a weight W (a, i) set for each of the plurality of image data F(a).例文帳に追加

ＣＰＵ２００は、複数の画像データＦ(a)ごとに設定される重み付けＷ(a,i)を算出する。 - 特許庁

Surface roughness index φ=φ0×K2/D×Σ (K1×L×P/W)...(A).例文帳に追加

面荒れ指数φ＝φ０・Ｋ２／Ｄ・Σ（Ｋ１・Ｌ・Ｐ／Ｗ）・・・・・（Ａ） - 特許庁

The sipe has a width W, a depth Ds, and an effective length Le.例文帳に追加

サイプは、幅Ｗ、サイプ深さＤｓ、および有効サイプ長Ｌｅを有している。 - 特許庁

When finishing the child window W, a prescribed animation is displayed on the display area S.例文帳に追加

子ウインドウＷを終了する際に、所定のアニメーションを表示領域Ｓ上に表示する。 - 特許庁

Heating of a workpiece W, a pressurizing and a voltage application are carried out at the same location in a heating tank 2.例文帳に追加

ワークＷの加熱、加圧及び電圧印加を、加熱槽２内の同一位置で行う。 - 特許庁

The correcting element 13 can suppress an aberration W_A including the arrow-shaped aberration generated in the optical path by imparting an aberration having the opposite polarity to the aberration W_A.例文帳に追加

補正素子１３は、光路中で発生する矢形収差を含む収差Ｗ_Aに対して逆極性の収差を与えることによって、収差Ｗ_Aを抑制できる。 - 特許庁

A relation between a magnetic resistance WA in an actuating space formed by the armature 11, the core 6, and the yoke 1 and a magnetic resistance WR in a peripheral space between the core flange 8 and the yoke 1, WA<WR is established.例文帳に追加

アーマチャ１１とコア６及びヨーク１間の作動空隙の磁気抵抗W_Aと、コアフランジ８及びヨーク１間の周辺間隙の磁気抵抗W_Rとの間には、W_A<W_Rの関係が成立する。 - 特許庁