Este documento explica los portadores de carga en los semiconductores. Los semiconductores tienen dos tipos de portadores: electrones y huecos. Los huecos son cargas positivas que aparecen cuando los electrones se liberan térmicamente de los átomos. Al elevar la temperatura de un semiconductor intrínseco, se generan igual número de electrones y huecos. Es posible alterar las concentraciones de portadores mediante la adición controlada de impurezas, un proceso llamado dopado que produce silicio de tipo P con mayoría de huecos o de tipo N con mayoría
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Este documento explica los portadores de carga en los semiconductores. Los semiconductores tienen dos tipos de portadores: electrones y huecos. Los huecos son cargas positivas que aparecen cuando los electrones se liberan térmicamente de los átomos. Al elevar la temperatura de un semiconductor intrínseco, se generan igual número de electrones y huecos. Es posible alterar las concentraciones de portadores mediante la adición controlada de impurezas, un proceso llamado dopado que produce silicio de tipo P con mayoría de huecos o de tipo N con mayoría
Descripción original:
portadores de carga y descarga en electrones y huecos
Este documento explica los portadores de carga en los semiconductores. Los semiconductores tienen dos tipos de portadores: electrones y huecos. Los huecos son cargas positivas que aparecen cuando los electrones se liberan térmicamente de los átomos. Al elevar la temperatura de un semiconductor intrínseco, se generan igual número de electrones y huecos. Es posible alterar las concentraciones de portadores mediante la adición controlada de impurezas, un proceso llamado dopado que produce silicio de tipo P con mayoría de huecos o de tipo N con mayoría
Este documento explica los portadores de carga en los semiconductores. Los semiconductores tienen dos tipos de portadores: electrones y huecos. Los huecos son cargas positivas que aparecen cuando los electrones se liberan térmicamente de los átomos. Al elevar la temperatura de un semiconductor intrínseco, se generan igual número de electrones y huecos. Es posible alterar las concentraciones de portadores mediante la adición controlada de impurezas, un proceso llamado dopado que produce silicio de tipo P con mayoría de huecos o de tipo N con mayoría
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PORTADORES DE CARGA.
EL ELECTRON Y EL HUECO
En los materiales conductores la circulacin de corriente es posible gracias a la
existencia de electrones libres. En los semiconductores tambin son los electrones los responsables de la corriente. Sin embargo, puesto que en este caso provienen de un enlace covalente y no de una nube electrnica, el fenmeno es ms complejo, y para su explicacin se introduce un nuevo portador de carga ficticio: el hueco.
1 GENERACION TERMICA DE PORTADORES. EL ELECTRON Y EL HUECO
Si se eleva la temperatura del monocristal de silicio por encima de 0 K, parte de la
energa trmica permite liberar alguno de los electrones. Ello produce dos efectos:
a. Aparece un electrn libre capaz de moverse a travs de la red en presencia de
un campo elctrico. b. En el tomo al que se asociaba el electrn aparece un defecto de carga negativa, es decir, una carga positiva, que se denomina hueco.
Globalmente, el cristal mantiene la neutralidad elctrica, ya que no ha ganado ni
perdido cargas. Cuando se producen electrones libres en un semiconductor nicamente por agitacin trmica, existen huecos y electrones en nmeros iguales, porque cada electrn trmicamente excitado deja detrs de s un hueco. Un semiconductor con un nmero igual de huecos y electrones se denomina intrnseco.
Recapitulando, los semiconductores se diferencian:
de los aislantes: La energa para liberar un electrn es menor en el
semiconductor que en el aislante. As a temperatura ambiente el primero dispone ya de portadores libres. de los conductores: Los semiconductores poseen dos tipos de portadores de carga: el electrn y el hueco.
En el caso del silicio puro monocristalino, el nmero de portadores libres a
temperatura ambiente es lo suficientemente bajo como para asegurar una alta resistividad.
2 RECOMBINACION DE PARES ELECTRON-HUECO
Tal y como se acaba de explicar, el hueco es un enlace covalente "no satisfecho". Si
un electrn atraviesa la zona en la que se encuentra el hueco puede quedar atrapado en l. A este fenmeno se le denomina recombinacin, y supone la desaparicin de un electrn y de un hueco. Sin embargo, como en el caso anterior, el material mantiene su neutralidad elctrica.
3 IMPURIFICACION O DOPADO DE LOS SEMICONDUCTORES
En un semiconductor intrnseco las concentraciones de huecos y de electrones pueden
alterarse mediante la adicin de pequeas cantidades de elementos llamados impurezas o dopantes, a la composicin cristalina. Como veremos a lo largo de este curso, es esta caracterstica de los semiconductores la que permite la existencia de circuitos electrnicos integrados.
La cuestin es: Qu sucede si adems de elevar la temperatura por encima de 0 K
consideramos la presencia de impurezas en el silicio?. Supongamos que sustituimos un tomo de silicio (que pertenece al grupo IV) por otro de fsforo (grupo V), pentavalente. Como slo hay la posibilidad de establecer cuatro enlaces covalentes con los tomos de silicio adyacentes, un electrn quedar libre. Teniendo en cuenta esto, es fcil deducir que es lo que ocurrir si se sustituye un tomo de silicio por otro de un elemento perteneciente al grupo III, el boro por ejemplo: evidentemente se introducir un hueco, ya que el boro solo aporta tres electrones de valencia. Las dos situaciones se clarifican en la Figura 2.
Figura 2: Introduccin de impurezas en el silicio
Si la introduccin de impurezas se realiza de manera controlada pueden modificarse
las propiedades elctricas en zonas determinadas del material. As, se habla de dopado tipo P N (en su caso, de silicio P N) segn se introduzcan huecos o electrones respectivamente.
Centrmonos ahora en el silicio tipo P. En la prctica, a temperatura mayor que cero
este material estar formado por:
Huecos procedentes del dopado.
Huecos procedentes de la generacin trmica de pares e-/h+. Electrones procedentes de la generacin trmica de pares e-/h+. Electrones y huecos procedentes de impurezas no deseadas.
Habitualmente, a temperatura ambiente, el nivel de dopado es tal que los huecos
procedentes de l superan en varios rdenes de magnitud al resto de portadores. Ello confiere el carcter global P del material. Sin embargo, ha de tenerse en cuenta que existen electrones. En este caso, los huecos son los portadores mayoritarios, y los electrones los minoritarios. Si se trata de un material de tipo N, los portadores mayoritarios sern los electrones, y los minoritarios los huecos. Con la tabla siguiente se pretende rematar estos conceptos. Material Portadores mayoritarios Portadores minoritarios Silicio Puro - - Silicio tipo P Huecos Electrones Silicio tipo N Electrones Huecos
Hay que resaltar nuevamente que el dopado no altera la neutralidad elctrica global del material.