Mechai F PDF

MINISTERE DE L’ENSEIGNEMENT SUPERIEUR ET DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
UNIVERSITE MOULOUD MAMMERI DE TIZI-OUZOU
Faculté de Génie Electrique et d’Informatique

Département d’Electronique
MEMOIRE DE MAGISTER
Spécialité : Electronique
Option : Microélectronique
Présenté par
Melle MECHAI Fazia
Thème :
Etude et simulation des structures photovoltaïques à base de chalcogénures de

métaux de transition MX2 (M = W, Mo; X = S, Se)
Devant le jury:
MEGHERBI Mohammed Professeur à l’UMMTO Président

BELKAID Mohammed Said Professeur à l’UMMTO Rapporteur
BENNAMANE Kamal M. C. A à l’UMMTO Examinateur
MOUDOUD Mustapha M. C. A à l’UMMTO Examinateur
ZIRMI Rachid M. C. B à l’UMMTO Examinateur
Soutenu le: 07 / 04 / 2016

Remerciements
Le travail de ce mémoire à été effectué au laboratoire des Technologies Avancés de la
faculté de Génie Electrique (LATAGE) de l’université Mouloud Mammeri de Tizi-Ouzou
(UMMTO).
Avant tout, je remercie ALLAH le tout puissant de m’avoir donné le courage, la

volonté, la santé et la patience de mener à terme ce présent travail.
J’exprime toute ma profonde gratitude, ma profonde reconnaissance et mes sincères

remerciements à mon directeur de thèse Monsieur le Professeur Med Said BELKAID.
Je remercie très chaleureusement Madame Loundja CHIBANE Enseignante à

l’UMMTO pour son aide tout au long de ce travail, pour sa disponibilité et ses précieux
conseils.
Je tiens également à remercier Monsieur MEGHERBI Mohammed professeur à
l’UMMTO d’avoir accepté de présider le jury d’examen de ma soutenance.
Je remercie vivement Monsieur BENNAMANE Kamal, Maître de Conférence A à

l’UMMTO ainsi que Monsieur MOUDOUD Mustapha, Maître de Conférence A à
l’UMMTO et Monsieur ZIRMI Rachid, Maître de Conférence B à l’UMMTO, qui me font
l’honneur de siéger à ce jury.
Mes remerciements vont aussi à mes collègues du laboratoire LATAGE.
Sans oublier ma famille qui m’a était d’un grand soutien tout au long de mes années
d’études.
Enfin, je tiens à remercier toutes les personnes qui ont contribué à la réussite de ce
travail.
Dédicaces
A mes chers parents

A mes chères sœurs et chers frères
A mes amies
Sommaire
Sommaire
Introduction générale …………………………………………………………………....01
Chapitre I : Des généralités sur les semiconducteurs

I.1. Introduction ……………………………………………………………………………03
I.2. Structures cristallines ………………………………………………………………….03
I.3.Réseaux cristallins ………………………………………………………………………..05
I.4. Les propriétés électrique des semiconducteurs ………………………………………….05

I.4.1. Conductivité électrique ……………………………………………………….05
I.5. Les mécanismes de recombinaison et la durée de vie ………………………………….08
I.5.1.Recombination SRH (Schokley-Read-Hall) ………………………………….09

I.5.2. Recombinaison Auger …………………………………………………………11
I.5.3. Recombinaison Radiative………………………………………………………12
I.5.4. Recombinaison en surface ……………………………………………………12
I.6. L’équation de neutralité d’un semiconducteur ………………………………………..13
I.7. Le semiconducteur intrinsèque ………………………………………………………....14
I.8. Les semiconducteurs extrinsèques ……………………………………………………….15
I.9. Un semiconducteur non dégénéré ………………………………………………………17
I.10. Un semiconducteur dégénéré ………………………………………………………….17
I. 11. Structure de bandes d’énergies ………………………………………………………..18
I.11.1. Gap direct et indirect …………………………………………………..19
a. Gap direct ………………………………………………………………… 19

b. Gap indirect ………………………………………………………………19
I.12. Interaction rayonnement - semi conducteur ………………………………………20

I. 12.1- Absorption fondamentale ……………………………………………………20
I. 12.2- Emission spontanée ………………………………………………………….20
I. 12.3- Emission stimulée ……………………………………………………………20
I.13. La jonction PN…………………………………………………………………………..21
I.13.1-Polarisation de la jonction en direct ……………………………………….23

I.13.2- Polarisation de la jonction en inverse ………………………………………24
I.14. Interface entre deux matériaux …………………………………………………………25
I.14.1-Travail de sortie …………………………………………………………….25
I.14.2-Affinité électronique …………………………………………………………..26
I.14.3-Barrière de potentiel …………………………………………………………27
I.15-Le contact Métal Semi-conducteur (M/Sc) ……………………………………………28
I.15.1-Le contact redresseur …………………………………………………………28

a. Semiconducteur de type n …………………………………………………28
b. Zone de charge d’espace (ZCE) …………………………………………29
c .Caractéristique courant-tension ……………………………………………30
I.15.2. Contact ohmique ……………………………………………………………31
I.16. Conclusion ……………………………………………………………………………31
Chapitre II : La cellule photovoltaïque à base de silicium
II.1.Introduction ……………………………………………………………………………32
II.2. Le spectre solaire ………………………………………………………………………32
II.3. Nature du rayonnement solaire …………………………………………………………33
II.4. L’effet photovoltaïque …………………………………………………………………34
II.4.1. Les constituants de base d’une cellule photovoltaïque ………………………35
a. Contacts face avant et arrière ……………………………………………….36
b. Couche anti-reflet ……………………………………………………………36
c. Texturation de surface ………………………………………………………37
d. BSF ……………………………………………………………………….37
II.4.2. Principe de fonctionnement d’une cellule solaire ……………………………37
II.4.3. Modélisation électrique de la cellule photovoltaïque …………………………………39
II.4.4. Caractéristiques électriques d’une cellule solaire ……………………………………40
II.4.5. Paramètres issus d’une courbe J(V) ………………………………………………….40

II.5. Les différentes filières photovoltaïques à base de Silicium …………………………42
II.5.1. Silicium monocristallin………………………………………………………..43
II.5.2. Silicium polycristallin …………………………………………………………44
II.5.3. Exemple d’une cellule photovoltaïque en silicium ……………………………46
monocristallin (monojonction)
II.5.4. Cellules photovoltaïques en couches minces …………………………………47
a. Cellules à base de silicium amorphe …………………………………………48

b. Cellules photovoltaïques en couches minces avec d’autres matériaux ………48
II.6. Les cellules multijonctions en couche mince……………………………………………50

II.6.1. Exemple d’une cellule photovoltaique multijonction………………………….50
a. cellules tandem à base (a-Si/µc-Si) ………………………………………50
II.7. Les techniques d’élaborations de silicium de qualité électronique ……………………52
II.8. Conclusion……………………………………………………………………………….54
Chapitre III. Les chalcogénures de métaux de transition MX2 (M = W, Mo; X = S, Se)
III.1. Introduction …………………………………………………………………………….55

III.2. Les solides lamillaires…………………………………………………………………………55
III.2.1. Les dichalcogénures de métaux de transitions MX2 (M = Ta, Nb, Ti, Re,W,
Mo; X = S, Se, Te) …………………………………………………………………...56
III.3. Les dichalcogénures de métaux de transition MX2 sous forme massif ………………...57
III.4. Les propriétés structurelles du MX2 (M = W, Mo; X = S, Se) ………………………..57

III. 5. Propriétés optiques du MX2 (M = W, Mo; X = S, Se) ………………………………...61
III.5.1. La structure de bande ………………………………………………………61
III.5.2. L’absorption optique, l’indice de réfraction et la transmittance ……………63
III. 6. Propriétés électriques des TMDCs …………………………………………………….65
III.6.1. La conductivité et la mobilité ………………………………………………...66
III.6.1.1. Le dopage des TMDCs ……………………………………………66
III.6.1.2. L’effet de dopage sur Les porteurs de charges ……………………66
III.6.1.3. Les effets de défauts sur les propriétés physiques …………………67
III.6.2. La longueur de diffusion et la Duré de vie …………………………………68
III.7. Les propriétés mécaniques et chimiques ………………………………………………68
III.8. Techniques d’élaboration des MX2 sous forme de couche mince ……………………69
III.8.1. Dépôt physique en phase vapeur (PVD) ……………………………………70

III.8.1.1. Dépôt par évaporation sous vide …………………………………70
III.8.1.2. Dépôt par pulvérisation cathodique ………………………………72
III.8.2. Techniques de dépôt par voie Chimique …………………………………….73
III.8.2.1.Dépôt chimique en gaz réactif (CVD) ………………………………74
III.8.2.2.Dépôt en milieu liquide …………………………………………...75
III.9. Les techniques de caractérisation ……………………………………………………77
III.9.1. Caractérisations structurale et morphologique des TMDCs (MX2) …………77
III.9.1.1. Diffraction de rayons X (DRX) …………………………………….77
III.9.1.2. Spectroscopie Raman ………………………………………………81
III.9.1.3. Microscopie électronique à Transmission MET ……………………84
III.9.1.4. Microscopie Electronique à Balayage (MEB) ...……………………86
III.9.2. Mesure optique ……………………………………………………………….88
III.9.2.1. La photoluminesence ……………………………………………….88
III.9.2.2. Spectroscopie d’ablation UV-Visible ………………………………89
III.9.2.3. Ellipsométrie ………………………………………………………..91
III.9.3. Méthode de caractérisations électriques ……………………………………92
III.9.3.1. Effet Hall …………………………………………………………92
III.9.3.2. Méthode de Van der Pauw …………………………………………96
III.9.3.3. Mesure de la résistivité par la méthode des quatre pointes ………..98
III.10. Les domaines d’application des déchalcogénures de métaux de transitions MX2 …...99
III.10.1. Dans le domaine de l’industrie ……………………………………………...99
III.10.2. Dans le domaine électronique ……………………………………………100
III.11. Conclusion ………………………………………………………………………………102
Chapitre IV : Simulation des cellules solaires à base des TMDC
IV.1. Introduction …………………………………………………………………………103
IV.2. Presentation du logiciel de simulation AFORS-HET ……………………………………103
IV.3. Etapes de simulations ………………………………………………………………104
IV.4. Présentation des cellules solaires à simuler …………………………………………107
IV.5. Les paramètres de la cellule solaire à simuler ……………………………………….108
IV.5.1. Paramètres de la couche ZnO et la couche Ag ……………………………108
IV.5.2. Propriétés électroniques de MoS2, MoSe2, WSe2 utilisées dans la………
simulation………………………………………………………………….…109
IV.6 .Les résultats de simulations …………………………………………………………109
IV.6.1.Les Diagrammes des bandes d’énergies ……………………………………109
IV.6.2. Caractéristiques courant-tension …………………………………………...111
IV.7. Conclusion ……………………………………………………………………………113
Conclusion générale ……………………………………………………………………114

Introduction
générale
Introduction générale
L’énergie solaire photovoltaïque est un thème au centre de l’actualité depuis la prise

de conscience mondiale du réchauffement de la planète par le gaz à effet de serre et de la
raréfaction des ressources primaires fossiles (pétrole, gaz, uranium…).
Face à cette crise environnementale et énergétique, les énergies renouvelables (géothermie,

éolien, hydraulique et solaire) semblent être des possibilités énergétiques de notre planète
puisqu’elles permettent d’éviter les émissions de gaz à effet de serre et ne produisant pas de
déchet.
En produisant de l’électricité à partir du rayonnement solaire, l’énergie photovoltaïque

contribue amplement à cette nouvelle politique énergétique privilégiant la lutte contre le
changement climatique et la préservation des ressources fossiles.
Bien que plusieurs filières et technologies photovoltaïques se partagent le marché, on

constate que c’est le silicium cristallin qui en occupe la plus grosse place.
Néanmoins, dans un souci de réduction du coût, un autre axe de recherche s’est créé à partir
des années 1980, avec un objectif prioritaire de réduction du coût de fabrication. L’un des
moyens proposés pour la diminution du coût de fabrication de la cellule photovoltaïque est de
diminuer considérablement la quantité de matériaux semiconducteurs entrant dans la
composition de chaque cellule et augmenter sa durée de vie. Ceci a par conséquent conduit à
l’émergence des nouvelles filières technologiques, dites de deuxièmes et troisièmes
générations basées sur l’utilisation des couches minces et de nanomatériaux , les plus connues
sont à base de silicium amorphe, CdTe, CIGS, GaAs, etc ... Ces cellules présentent des
rendements intéressants mais leurs prix sont toujours élevés.
C’est pourquoi des travaux de recherche de plus en plus nombreux sont menés sur l’étude
d’autres structures et matériaux nouveaux ; dans ce cadre l’étude des matériaux appelés «
dichalcogénures de métaux de transitions comme les bisulfures de molybdène et de tungstène
(MoS2, WS2) ainsi que leur disélinures (MoSe2, WSe2) qui représentent une nouvelle
catégorie de matériaux semiconducteurs lamellaires qui ont des propriétés particulières
uniques et un haut coefficient d’absorption dans le domaine du visible.
1
L’objectif de ce travail porte sur l’étude et la simulation de structures photovoltaïques
réalisées à base de couches minces des dichalcogénures de métaux de transition (MoS2, WS2,
MoSe2, WSe2).
Pour mener à bien ce travail nous l’avons structuré comme suit :
Le premier chapitre de ce présent travail est dédié à l’étude des semiconducteurs,

leurs propriétés électroniques et structurales vu que les matériaux étudiés sont de la famille
des semiconducteurs.
Dans le deuxième chapitre nous avons étudié la cellule solaire à base de silicium sous
ses différentes structures (mono et multi-jonction) après avoir donné un aperçu sur le
rayonnement solaire ainsi que le principe de fonctionnement d’une cellule solaire
photovoltaïque.
Le troisième chapitre est consacré à l’étude approfondie des chalcogénures de métaux

de transition (MoS2, WS2, MoSe2, WSe2) sous leurs différentes formes, en passant en revue
l’étude de leurs propriétés structurales et électroniques, les techniques de leur élaboration sous
forme de couches minces ainsi que les techniques de leurs caractérisations ceci sera complété
par l’exposition des différents domaines de leur application.
Le quatrième chapitre est consacré à la composition et à la simulation de différentes structures

de cellules solaires photovoltaïques à base des dichalcogénures de métaux de transition
étudiés, afin de parvenir à déduire les structures les plus performantes et les moins onéreuses
à base de ces lamellaires. Il s’ensuit enfin une conclusion générale de notre travail.
2
Chapitre I
Chapitre I Généralités sur les semiconducteurs
I.1. Introduction
La technologie de l’information et de communication est en évolution rapide grâce à
l’industrie des semiconducteurs. Ces derniers désignent les matériaux capables de relayer du
courant électrique en ayant des propriétés physique mi-chemin entre le métal et l’isolant.
Ce sont des éléments essentiels de l’électronique et de l’informatique modernes puisqu’ils
permettent de contrôler à la fois la direction du courant et son intensité.
La famille des semiconducteurs est très vaste puisqu’elle va des éléments de la colonne du
tableau périodique IV (Si et Ge) aux composés de plusieurs colonnes tels que : binaires,
ternaires et quaternaires.
L’objet de ce chapitre est une présentation aussi simple que des concepts de base permettant
de comprendre les propriétés électriques et structurales des semiconducteurs.
I.2. Structures cristallines

La matière condensée peut prendre deux différents états solides, l’état amorphe dans lequel
l’arrangement des atomes est aléatoire. Les matériaux qui se solidifient dans cet état sont
généralement appelés des verres est considérés comme des liquides de haute viscosité [1].
Le deuxième état, qui nous intéresse plus particulièrement ici, est l'état cristallisé, là
les atomes sont rangés régulièrement (périodiquement) aux nœuds d’un réseau. Le résultat est
un ensemble ordonné de noyaux et d'électrons liés entre eux par des forces essentiellement
coulombiennes. On associe les électrons des couches internes des atomes avec leur noyau, ce
qui représente un ion positif et on traite les électrons périphériques comme des particules
quasi-libres dans le champ des ions. On distingue, à partir de ce type de représentation,
essentiellement quatre familles de solides cristallisés : les cristaux ioniques, les cristaux
covalents, les métaux et les cristaux moléculaires.
Les cristaux ioniques

Les cristaux ioniques résultent de l'association d'un élément fortement électropositif et d'un
élément fortement électronégatif. L'élément électropositif a généralement un seul électron
périphérique (métaux alcalins : Li, Na, K, Rb, Cs), qu'il cède facilement pour devenir un ion
positif avec une configuration électronique stable de couches saturées. L'élément
électronégatif a généralement sept électrons périphériques (halogènes : F, Cl, Br, I), il accepte
3
facilement un huitième électron pour devenir un ion négatif avec une configuration
électronique stable. Les deux ions ainsi créés sont liés par attraction coulombienne, d'où le
nom de cristaux ioniques.
L'électron libéré par le métal alcalin est fortement fixé sur l'halogène de sorte qu'aucun
électron n'est libéré dans le réseau du matériau, ces cristaux sont des isolants. En outre,
l'énergie de liaison entre les atomes est très importante de sorte que ces cristaux sont
généralement très durs.
Les cristaux covalents
Les cristaux covalents sont construits avec des éléments de la colonne IV du tableau
périodique (C, Si, Ge, Sn). Ces éléments ont quatre électrons périphériques qu'ils mettent en
commun avec quatre voisins pour établir des liaisons covalentes.
Les électrons de valence sont liés mais leur énergie de liaison est beaucoup plus faible que
dans les cristaux ioniques. Cette énergie de liaison est importante dans le carbone diamant, ce
qui en fait un isolant, elle est nulle dans l'étain, ce qui en fait un conducteur. Dans le silicium
et le germanium cette énergie a une valeur intermédiaire qui fait de ces matériaux des
semiconducteurs ce qui est notre objectif dans ce chapitre.
Les métaux
Les métaux sont construits avec des éléments électropositifs, c'est-à-dire ayant un seul
électron périphérique. Cet électron périphérique est libéré dans la réalisation du cristal, ces
matériaux sont très conducteurs. Les liaisons entre atomes sont plus faibles que dans les
cristaux ioniques ou covalents, ces matériaux sont moins durs et fondent à basse température.
On distingue les métaux alcalins Li, Na, K, Cs et les métaux nobles Cu, Ag, Au.
Les cristaux moléculaires

Les cristaux moléculaires, comme leur nom l'indique, sont bâtis sur une unité de base qui
n'est plus l'atome mais la molécule. Les forces de liaison sont grandes à l'intérieur de la
molécule mais du type Van der Waals entre molécules et par conséquent faibles. Ces
matériaux sont peu résistants et fondent à basse température.
4
I.3. Réseaux cristallins

Selon certain nombre de symétrie qui sont l’inversion, la rotation et la réflexion dans
un parallélépipède. Nous dénombrons 7 classes de parallélépipèdes ou 7 systèmes cristallins :
Le tableau I.1 ci-dessous recense les systèmes qui sont différentiés par leur angles et par les
dimensions relatives des cotés.
Tableau I.1 : les 7 systèmes cristallin [2]
I.4. Les propriétés électrique des semiconducteurs
I.4.1. Conductivité électrique
Les semiconducteurs sont des matériaux dont la conductivité est intermédiaire entre celles
des isolants et des conducteurs. Dans les semiconducteurs la conduction est assurée par deux
types de porteurs les électrons et les trous.
La conductivité électrique σ des semiconducteurs croit rapidement avec la température

selon l’expression suivante :
5
ߪሺܶሻ = ‫ ݍ‬ቀ݊μ௡ ሺܶሻ + ‫݌‬μ௣ ሺܶሻቁ (Eq .................... …….…I.1)
En général, la conductivité électrique dépend, en outre, de la température, de la radiation

électromagnétique, du champ magnétique et de toute forme d’irradiation et de défauts. Ce
sont ces variations de la conductivité électrique, sous l’effet d’influences variées, qui font des
semiconducteurs des matériaux importants pour l’électronique et ses applications.
1012
108
cuivre
10 4 fer métaux et semi-métaux
bismuth
antimoniure d’indium
(Sm-1)
100 tellure (intrinsèque)

silicium (degré semiconducteur)
10-4 germanium (intrinséque) semiconducteurs
σ 300K
silicium (intrinsèque)
sélénium cristallin
10-8 sulfure de cadimium pur
iode pur
polyéthélène
Conductivité électrique
10-12 verre isolant

sélénium amorphe
10-16 paraffine
diamant pur
Figure.I.1 : Conductivité électrique à température ambiante de quelque corps solides. [3]
Dans le sens où les semiconducteurs font partie des matériaux diélectriques, ils sont
polarisables. Placés dans un champ électrique, des échantillons semiconducteurs sont donc le
siège d’un champ électrique interne pour lequel la permittivité diélectrique ԑ est le paramètre
6
macroscopique déterminant. En conséquence, il est possible de définir un matériau

semiconducteur comme un corps solide polarisable et capable de conduire l’électricité.
La conductivité électrique d’un matériau ne suffit pas pour définir de manière

rigoureuse l’état de semiconducteur. Il existe des semiconducteurs qui conduisent mieux que
certains métaux et d’autres plus isolants que certains non métaux. Par contre, pour l’ensemble
des semiconducteurs, certaines grandeurs physiques obéissent à des lois caractéristiques
parfaitement définies. Ces comportements représentatifs permettent d’établir des définitions
phénoménologiques de la classe des matériaux semiconducteurs.
-Effet de la température sur la conduction électrique :
La variation de la conductivité électrique en fonction de la température suit une loi qui

permet de caractériser incontestablement un semiconducteur. Quand la température augmente,
la conductivité d’un semiconducteur augmente. Selon le domaine de température considéré et
selon l’état de la pureté du matériau, elle augmente même en suivant une loi exponentielle qui
fait apparaître une énergie d’activation pouvant atteindre l’électronvolt (eV). Le processus de
conduction est donc thermiquement activé. Schématiquement, la variation typique de la
conductivité électrique en fonction de la température est représentée par la courbe b de la
figure I.2.
Figure I.2 : Conductivité d’un semiconducteur en fonction de la température et la

concentration des impuretés (défauts): (a) peu d’impuretés, (b) cas normal, (c) beaucoup
d’impuretés. [3]
7
A basse température, une variation de la forme :
ா
ߪ~݁‫ ݌ݔ‬ቀ− ቁ (Eq ................. ……………..I.2)
௞்
Fait intervenir une énergie d’activation E de l’ordre de quelques dixièmes

d’électronvolts. Dans cette expression, T est la température absolue et k la constante de
Boltzmann.
A haute température, une loi analogue est suivie mais avec une énergie d’activation
plus élevée. Dans l’intervalle de température compris entre ces deux comportements typiques,
un domaine de saturation ou d’épuisement peut être observé, avec une faible variation
compliquée de la conductivité en fonction de la température, pouvant passer par un
maximum.
Dans la figure I.2, on a représenté schématiquement les influences de la pureté du

matériau semiconducteur sur la variation de la conductivité en fonction de la température: la
courbe a correspond à un semiconducteur très pur, appelé intrinsèque qui reste isolant
jusqu’à des températures relativement élevées.
La courbe c correspond à un semiconducteur contenant beaucoup d’impuretés ou de défauts,

en général appelé dégénéré, qui est un bon conducteur sans énergie d’activation nettement
marquée.
I.5. Les mécanismes de recombinaison et la durée de vie
La génération dans les semiconducteurs est le passage d’un électron de la bande de

valence à la bande de conduction et des paires électron-trou sont crées. Cependant, la
recombinaison est le processus inverse de la génération. Elle correspond aux mécanismes
conduisant à la perte de paires électron-trou, avec l’énergie excédentaire émise sous forme de
phonons ou de photons.
Expérimentalement, elle correspond à une durée de vie des porteurs minoritaires τ capable
d’être mesurée. Celle-ci correspond au temps moyen au bout duquel une paire électron-trou
générée se recombine. La valeur de ce paramètre peut être déterminée, pour le silicium de
type p ou n, a partir du taux de recombinaison U.
∆௡
߬=
௎
(Eq…………………………I.3)
8
Où ∆n (∆p) est la densité d’électrons (de trous) en excès.
L’interprétation de la durée de vie n’est pas simple car il existe différents mécanismes de
recombinaison intervenant simultanément en surface et en volume d’un échantillon. On
définit donc une durée de vie effective, qui tient compte de l’ensemble de ces mécanismes. En
générale, c’est cette grandeur qui est mesurée.
Par définition, la recombinaison est le retour de l’électron de l’état excité à l’état initial
ou de la bande de conduction vers la bande de valence, car il ne peut rester dans un état excité
que pour un temps faible (t<10-8s). Ce retour de l’électron de l’état excité vers l’état stable
peut avoir lieu selon plusieurs façons:
I.5.1.Recombination SRH (Schokley-Read-Hall)
Le processus de recombinaison Schokley-Read-Hall est schématisé sur la figure I-3.

Ce processus fait appel à des niveaux d’énergie voisins du milieu du gap (niveaux appelés
pièges, dus a certains défauts cristallins ou à la présence de certaines impuretés dans le cristal)
qui facilitent la recombinaison des porteurs par un mécanisme en deux étapes. Un électron de
la bande de conduction va d’abord se relaxer sur un niveau d’énergie intermédiaire lie à un
défaut. Ensuite, une deuxième relaxation va lui permettre de se recombiner avec un trou de la
bande de valence. L’efficacité de ce processus dépend de la densité des niveaux profonds et
par suite, de la qualité du matériau utilisé et de sa technologie d’élaboration. La
recombinaison Schokley-Read-Hall est modélisée par:
మ
௣௡ି௡೔೐
ܴௌோு = ಶ షಶ ష൫ಶ೟ షಶ೔ ൯
(Eq…….………………..I.4)
ఛ೛బ ൤௡ା௡೔೐ ௘௫௣൬ ೟ ೔൰൨ାఛ೙బ ൤௣ା௡೔೐ ௘௫௣൬ ൰൨
ೖ೅ಽ ೖ೅ಽ
Ou Et est la position énergétique des états de piège, Ei est le niveau de Fermi dans le
semiconducteur intrinsèque, τn0, τp0 sont respectivement la dure de vie pour les
électrons et les trous, nie est la concentration intrinsèque, k est la constante de
Boltzmann et TL la température en Kelvin.
9
Figure I.3: Mécanisme de recombinaison Schokley-Read-Hall (SRH)
La dépendance de la dure de vie du modèle SRH avec la température est donnée par les deux
relations de Klaassen’s.
ଷ଴଴ ீೖೞೝ೓೙
߬௡଴
ିଵ
= ሺ߬௞௦௥௛௡
ିଵ
+ ‫ܥ‬௞௦௥௛௡ . ݊ሻ ቀ ் ቁ (Eq……….………………..I.5)
ಽ
ଷ଴଴ ீೖೞೝ೓೛
߬௣଴
ିଵ
= ൫߬௞௦௥௛௣
ିଵ
+ ‫ܥ‬௞௦௥௛௣ . ‫݌‬൯ ቀ ቁ (Eq…………………………I.6)
்ಽ
Où n est la concentration d’impureté totale.
Aussi la dépendance de la durée de vie avec le dopage est donnée par les relations de
Scharfetter.
ఛ೙.೘ೌೣ ିఛ೙.೘೔೙
߬௡ ሺܰሻ = ߬௡.௠௜௡ + ം (Eq…………………………I.7)
ಿ
ଵାቆ ቇ
ಿ೙.ೝ೐೑
ఛ೛.೘ೌೣ ିఛ೛.೘೔೙
߬௣ ሺܰሻ = ߬௣.௠௜௡ + ം (Eq………………………….I.8)
ಿ
ଵାቆ ቇ
ಿ೛.ೝ೐೑
Ou τn.max, τn.min, τp.max, τp.min sont les valeurs maximales et minimales de la durée de vie des
électrons et des trous respectivement, Nn.ref, Np.ref est le niveau de référence du dopage pour
த౤.ౣ౗౮ ାத౤.ౣ౟౤ த౤.ౣ౗౮ ାத౤.ౣ౟౤
lequel τሺN୰ୣ୤ ሻ = et τሺN୰ୣ୤ ሻ = , γ est l’exposant.
ଶ ଶ
10
I.5.2. Recombinaison Auger

Le processus de recombinaison Auger est représenté sur la figue (I-4). L’excès
d’énergie issu de la recombinaison d’un électron de la bande de conduction et d’un trou de la
bande de valence peut être transféré à une troisième particule libre, électron ou trou. Ces
charges sont considérées comme des particules quasi libres, n’interagissant pas entre elles. La
recombinaison Auger est modélisée en utilisant l’expression suivante :
ܴ஺௨௚௘௥ = ‫ܥ‬஺௨௚.௡ ሺ‫݊݌‬ଶ − ݊݊௜௘

ଶ
ሻ + ‫ܥ‬஺௨௚.௣ ሺ݊‫݌‬ଶ − ‫݊݌‬௜௘
ଶ
ሻ (Eq………………………I.9)
Figure I.4: Mécanisme de recombinaison Auger. L’excès d’énergie issu de la recombinaison

peut être transféré à un électron (a) ou a un trou (b)
Ou CAug.n et CAug.p sont les coefficients Auger pour les électrons et les trous.
La recombinaison est dite radiative ou avec émission de photons, si l’énergie des

particules qui se recombinent est émise sous forme d’énergie de photons.
Au type de la recombinaison non radiative appartient la recombinaison par effet Auger
où l’énergie libérée par la recombinaison de deux particules est transférée à une
troisième particule qui devient alors une particule « chaude ». Cette particule
« chaude » cède son énergie supplémentaire au réseau au cours d’une série de
collisions.
11
I.5.3. Recombinaison Radiative
La recombinaison radiative correspond à la recombinaison d’un électron de la bande de

conduction avec un trou de la bande de valence, avec émission d’un photon d’énergie proche
de celle du gap du matériau (processus inverse de la photogénération). Le mécanisme de
recombinaison radiative est un processus dominant dans les semiconducteurs à gap direct
comme le GaAs. Pour le silicium à gap indirect, ce mécanisme est relativement rare du fait
que cette transition ne peut avoir lieu qu’avec l’assistance d’un photon.
En plus de ces trois mécanismes l’énergie de recombinaison des particules peut être transférée
au gaz électrique (recombinaison plasmique). Dans le cas où un électron et un trou forment
d’abord un exciton, la recombinaison est dite excitonique.
L’évolution des processus de recombinaison radiative, photonique ou par effet Auger dépend
du mécanisme de transition d’un électron de la bonde de conduction à la bande de valence.
Si l’électron et le trou recombinent par rencontre directe on dira que la recombinaison et

intrinsèque ou inter bande. La recombinaison intrinsèque se manifeste principalement dans
les matériaux à faible largeur de bande interdite, inférieur à 0,2 à 0,3 eV.
Lorsque la largeur de la bande interdite est supérieure à 0,5 eV, la recombinaison

s’effectue par l’intermédiaire des niveaux localisés dans la bande interdite. Ces niveaux
particuliers sont couramment appelés des niveaux-pièges de recombinaison.
I.5.4. Recombinaison en surface
La surface d’un semiconducteur est un lieu où les recombinaisons sont particulièrement

nombreuses, en raison des liaisons non satisfaites des atomes de surface et autre défauts
caractéristiques à température (T=300°K). Les recombinaisons en surface avant et arrière
inhérents aux densités de dopages selon la relation suivante :
ே ఈ
ܵ = ܵ଴ ቀ ቁ
ேೞ೐೟
(Eq……………………..…I.10)
12
S0, Nset et α dépendent du traitement de la surface et de la passivation. Par exemple pour une
oxydation thermique d’une couche de silicium de type n, α est de 1 et Nset est de 1018 cm-3.
La passivation est l’ajout d’une couche de SiO2 en surface pour limiter les recombinaisons en
surface et combler les liaisons cassées (en surface) lors de la découpe du semiconducteur.
Le taux de recombinaison en surface est donné par l’expression suivante :
௣௡ି௡೔మ
ܴ௦௨௥௙ = ೐೑೑ ಶ షಶ ೐೑೑ ష൫ಶ೟ షಶ೔ ൯
(Eq................................I.11)
ఛ೛ ൤௡ା௡೔೐ ୣ୶୮൬ ೟ ೔൰൨ାఛ೙ ൤௡ା௡೔೐ ௘௫௣൬ ൰൨
಼೅ಽ ಼೅ಽ
Où :
ଵ ଵ ௗ೔
= + ܵ
೐೑೑ ೔
ఛ೙ ஺೔ ௡
(Eq…………………….…I.12)
ఛ೙
ଵ ଵ ௗ೔
= + ܵ
೐೑೑ ೔
ఛ೛ ஺೔ ௣
(Eq…………………….…I.13)
ఛ೛
௘௙௙
߬௡ est la durée de vie effective, les paramètres ࢊ࢏ et ࡭࢏ sont la longueur et l’épaisseur de
l’interface. ࡿ࢔ et ࡿ࢖ sont les vitesses de recombinaison pour les électrons et les trous
respectivement par défaut, ࡿ࢔= ࡿ࢖=૙ ࢉ࢓/࢙.
I.6. L’équation de neutralité d’un semiconducteur
Le calcul de la grandeur F (niveau de Fermi) s’effectue en faisons appel à l’équation

dite de neutralité.
Supposons tout d’abord que le semiconducteur est dopé avec des éléments donneurs et
accepteurs en concentration Nd et Na.
L’ionisation thermique fait naître dans le semiconducteur un certain nombre d’électrons et de

trous libres. Les porteurs de charge libre qui apparaissent proviennent aussi bien de
l’ionisation des atomes d’impureté que de l’excitation thermique des atomes du
semiconducteur. « La charge totale de toute les particules chargées contenues dans le cristal
tout entier ainsi que dans chacune de ses parties de faible volume doit être nulle » ceci est la
condition de neutralité, valable pour tout corps solide dénué de charge électrique résultante.
13
݊ + ݊ௗ − ‫ ݌‬− ‫݌‬௔ = ܰௗ − ܰ௔ (Eq…………………………I.14)
La fonction de distribution des électrons pour les états d’impureté doit être de la forme :
ଵ
݂= ಶ೔షಷ (Eq………………………...I.15)
భ
௘ ೖ೅ ାଵ
೒೔
où ݃௜ : degré de dégénérescence de l’état d’impureté i.
Si ‫ܧ‬௜ = ‫ܧ‬ௗ correspond à un centre donneur, ݃௜ = 2,
ଵ
݂= ಶ షಷ (Eq………………………..I.16)
భ ೏
௘ ೖ೅ ାଵ
మ
Si ‫ܧ‬௜ = ‫ܧ‬௔ correspond à un centre accepteur, ݃௜ = 1ൗ2 ;
ଵ
݂= ಶೌ షಷ (Eq………………………..I.17)
ଶ௘ ೖ೅ ାଵ
I.7. Le semiconducteur intrinsèque
Un semiconducteur ne renfermant aucune impureté (ܰௗ = ܰ௔ = 0 ) est dit intrinsèque.

L’équation de neutralité correspondante est :
݊ − ‫ = ݌‬0 ou ݊ = ‫݌‬ (Eq……………………….I.18)
Cette équation signifie que lorsqu’un électron quitte la bonde de valence, il se produit dans
cette dernière un trou et, de ce fait, dans un semiconducteur intrinsèque le nombre de trous et
toujours égal au nombre d’électrons (Figure.I.6).
_ _ _ _ _
Ec
∆‫ܧ‬଴
F
+ + + + + Ev
Figure I.5 : Génération d’électrons et des trous dans un semiconducteur intrinsèque.
14
Le niveau de fermi est indépendant de la température et se situe presque au milieu de la

bande interdite.
ாೡ ାா೎ ଷ ௠೓
‫=ܨ‬ + ݇ܶ‫݃݋ܮ‬
ଶ ସ ௠೐
(Eq………………………..I.19)
A l’équilibre thermique, les densités totales d’électrons dans la bande de conduction et des
trous dans la bande de valence sont données par les expressions suivantes.
ಶ಴ శ ಷ ∆ಶబ
݊ = ܰ஼ ݁ ି ೖ೅ = ܰ஼ ݁ ିమೖ೅ (Eq………………………...I.20)
ಷ ష ಶೇ ∆ಶబ
ି ି
‫ܰ = ݌‬௏ ݁ ೖ೅ = ܰ௏ ݁ మೖ೅ (Eq………………………...I.21)
Où : Nc et Nv sont respectivement la densité effective d’états des électrons dans la bande de

conduction et la densité effective d’états des trous dans la bande de valence.
La concentration des porteurs de charge intrinsèques est définie par l’équation(I.22).
∆ಶబ
݊௜ = ݊ = ‫ = ݌‬ඥܰ஼ ܰ௏ ݁ ି మೖ೅ (Eq…………………………I.22)
I.8. Les semiconducteurs extrinsèques
On peut modifier de façon considérable la concentration de porteurs de charge d’un

semiconducteur intrinsèque en lui ajoutant de faibles quantités d’atomes astucieusement
choisis et que l’on appelle impuretés dopantes ou tout simplement dopants. On obtient alors
un semiconducteur extrinsèque ou dopé.
Selon la nature des atomes introduits, soit le nombre d’électrons devient très supérieur au
nombre de trous et le semiconducteur est appelé de type n, soit le nombre de trous devient très
supérieur à celui des électrons et le semiconducteur est appelé de type p. nous allons expliquer
le phénomène de dopage et ses conséquences sur le nombre d’électrons et de trous ainsi que
sur la position du niveau de Fermi (niveau statistique moyen) dans le semiconducteur.
Considérons un semiconducteur dopé, par exemple, avec une impureté de type

donneur de sorte que ܰௗ ≠ 0 et ܰ௔ = 0 .L’équation de neutralité (I.14) s’écrit alors :
15
݊ + ݊ௗ − ‫ܰ = ݌‬ௗ (Eq…………………………I.23)
Ou bien ݊ = ‫ ݌‬+ ܰௗା (Eq………………………...I.24)
Cette dernière équation signifie que l’apparition des électrons libres est due d’une part
aux transitions de la bande de valence, ce qui conduit à la création de p trous libres et d’autre
part aux transitions du niveau d’impureté, ce qui produit ܰௗା ions d’impureté (Figure I.7).
_ _ _ _ _ _
Ec
‫݃ܧ‬ + + + + F
Ev
+ +
Figure I.7 : Génération thermique de porteur de charge dans un semiconducteur dopé

par un donneur.
Dans le semiconduceur non dégénéré il suffit de déterminer la concentration des porteurs de

charge d’un seul type :
∆ಶబ
݊ ‫݊ = ݌‬௜ଶ = ܰ஼ ܰ௏ ݁ ି ೖ೅ (Eq……………………….I.25)
Reprenons l’équation (I.22), comme les électrons libres apparaissent grâce à

l’ionisation de l’impureté et à l’excitation thermique du semiconducteur lui-même, le rôle
respectif de ces deux processus est différent selon la température.
Pour faire passer un électron de la bande de valence à la bande de conduction, on doit

dépenser une énergie égale à la largeur de la bande interdite ∆‫ܧ‬଴ .
16
Tandis que la transition d’un électron du niveau d’impureté vers la bande de

conduction ∆‫ܧ‬ௗ qui est notablement plus petite que la largeur de la bande interdite, de ce fait,
aux basses températures ce sont les transitions d’électrons du niveau d’impureté qui seront
prédominantes : ‫ܰ << ݌‬ௗା = ܰௗ , cette inégalité subsiste jusqu’à ce que tous les atomes de
l’impureté seront ionisés.
Quant la température croît l’ionisation des atomes d’impureté progresse, puis

l’accroissement de la concentration n des électrons deviendra égal à l’accroissement de la
concentration p des trous : ‫ܰ << ݌‬ௗା
I.9. Un semiconducteur non dégénéré
Dans un semiconducteur non dégénéré les concentrations des électrons et des trous se
calculent à l’aide des équations suivantes :
ಶ
ି ೎షಷ
݊ = ܰ௖ ݁ ೖ೅ (Eq…………………………I.26)
ಷషಶೡ
‫ܰ = ݌‬௩ ݁ ି ೖ೅ (Eq………………………….I.27)
ாೡ ିி
݊= < −1 où ‫ܧ > ܨ‬௩ + ݇ܶ
௞்
(Eq………………………….I.28)
Dans un semicoducteur non dégénéré le produit de la concentration des électrons par la

concentration des trous ne dépend pas de la position de niveau de Fermi.
∆ಶబ
ି
݊‫ܰ = ݌‬௖ ܰ௩ ݁ ೖ೅ (Eq………………………….I.29)
On dit qu’un semiconducteur n’est pas dégénéré lorsque le niveau de Fermi se trouve à une
distance supérieure à kT au-dessous de Ec ou au- dessus de Ev.
Autrement dit, dans un semiconducteur non dégénéré le niveau de Fermi se situe dans la
bande interdite.
I.10. Un semiconducteur dégénéré
Pour un semiconduceur complètement dégénéré on a :
17
ாೡ ିி
݊= >5 ou ‫ܧ < ܨ‬௩ − 5݇ܶ
௞்
(Eq……………………….…I.30) [3]
Ce qui montre que dans un semiconducteur complètement dégénéré le niveau de Fermi doit se
situer à l’intérieur de la bande de valence à une distance supérieure à 5kT au dessous du haut
de la bande.
Si le niveau de Fermi est disposé à plus de 5kT au-dessous de Ec, la concentration des
électrons ne dépond plus de la température :
∗ ଷൗ
଼గ ଶ௠೏ ଶ ଷൗ
݊= ቀ ቁ ሺ‫ ܨ‬− ‫ܧ‬஼ ሻ ଶ
ଷ ௛మ
(Eq…………………..……I.31)
Lorsque le niveau de Fermi est disposé à plus de 5kT au-dessous de Ev, la concentration des
trous ne dépond plus de la température :
La concentration correspondante des trous est donnée par l’équation (I.32),
∗ ଷൗ
଼గ ଶ௠೛೏ ଶ ଷൗ
‫=݌‬ ቀ ቁ ሺ‫ܧ‬௩ − ‫ܨ‬ሻ ଶ
ଷ ௛మ
(Eq…………………………I.32)
I. 11. Structure de bandes d’énergies

Dans un atome un électron est soumis à un potentiel coulombien crée par le noyau et
le nuage électronique qui est constitué par les autres électrons. Il ne peut occuper que des états
quantiques bien définis et distincts les uns des autres. Ces états sont caractérisés par des
niveaux d’énergie bien définis auxquels sont associées des fonctions d’onde.
Chaque système quantique est caractérisé par des fonctions d'ondes y qui sont les solutions de
l'équation de Shrodinguer :
ଶ௠
ሺ‫ ܧ‬− ܸሻѰ = 0
௛
(Eq……………………….I.33)
Dans le cas de l'atome isolé la solution de l'équation de Shrodinguer n'existe que pour des
valeurs discrètes d'énergie E1, E2, E3,...En. Dans un solide cristallin les noyaux sont disposés en
réseaux réguliers, les orbitales sont remplacées par des ondes de Bloch et les couches sont
remplacées par des bandes d'énergie permises séparées par d'autres bandes interdites. Une
bande permise comporte un nombre considérable de niveaux d'énergie comparable au nombre
18
d'atomes dans le cristal, les niveaux d'énergie des électrons de valence et le niveau d'énergie
d'ionisation génèrent ainsi deux bandes d’énergies permises particulièrement intéressantes, la
bande de valence et la bande de conduction, séparées par une bande dépourvue de niveaux
permis, nommée bande interdite (Figure I.8).
La particularité de ces bandes permises tient au fait que les électrons peuvent circuler
librement dans toute la maille cristalline et ainsi générer des courants de conduction électrique
(s'agissant d'électrons partagés par les atomes du réseau cristallin).
Figure I.8. Diagramme des bandes d'énergie des semi-conducteurs [4]
I.11.1. Gap direct et indirect
a. Gap direct:
Un semi-conducteur est à gap direct si le maximum de la bande de valence et le
minimum de la bande conduction peuvent correspondre au même vecteur d’onde k voir la
figure(I.9.a).
b. Gap indirect
Un semi conducteur est à gap indirect si le maximum de la bande de valence et le minimum
de la bande de conduction ne correspondent pas au même vecteur d’onde k voir la
figure(I.9.b). La distinction entre les semi conducteurs à gap direct et indirect est très
importante notamment dans les processus radiatifs. Les processus d'absorption ou d'émission
sont considérablement plus importants dans les semi conducteurs à gap direct que dans les
semi conducteurs à gap indirect [5].
19
Figure I.9 : (a) semiconducteur à gap direct, (b) semiconducteur à gap indirect. [6]
On remarque, que dans un semiconducteur à gap direct un électron du haut de la BV

qui acquière une énergie EG passe dans la BC sans changer de quantité de mouvement ce qui
n’est pas le cas dans un semiconducteur à gap indirect [6].
I.12. Interaction rayonnement - semi conducteur
L'interaction du rayonnement avec les électrons d'un semi conducteur se manifeste

selon trois processus (Figure I.10) :
I. 12.1. Absorption fondamentale

Lorsque le photon absorbé provoque un saut d'électron d'un état occupé de la bande de
valence vers un état vide de la bande conduction, on dit qu’il y a absorption.
I. 12.2.Emission spontanée
Lorsqu’un électron de la bande de conduction retombe spontanément sur un état vide
de la bande de valence, il y’a émission spontanée.
I. 12.3. Emission stimulée

Le photon absorbé induit la transition d'un électron de la bande de conduction vers un,
état vide de bande de valence avec émission d'un photon, cela induit à la recombinaison
20
radiative d'une paire électron-trou. Le photon émis a même phase et même direction que le
photon incident ; l’émission est dite stimulée.
Figure I.10 : Interaction rayonnement - semi conducteur [5] [7]
I.13. La jonction PN
La jonction PN constitue l’élément de base de toute l’électronique, et constitue le
module élémentaire dont dépend le fonctionnement d’un grand nombre de dispositifs à semi-
conducteurs. Les résultats obtenus trouveront leurs applications dans de nombreux
composants plus complexes.
Une jonction PN est constituée de deux zones respectivement dopées P et N et
juxtaposées d'une façon que nous supposerons abrupte (figure I.11), c'est-à-dire que la
transition de la zone P à la zone N se fait brusquement. Lorsque l'on assemble les deux
régions, la différence de concentration entre les porteurs des régions P et N va provoquer la
circulation d'un courant de diffusion tendant à égaliser la concentration en porteurs d'une
région à l'autre. Les trous de la région P vont diffuser vers la région N laissant derrière eux
des atomes ionisés, qui constituent autant de charges négatives fixes. Il en est de même pour
les électrons de la région N qui diffusent vers la région P laissant derrière eux des charges
positives. Il apparaît aussi au niveau de la jonction une zone contenant des charges fixes
positives et négatives. Ces charges créent un champ électrique E qui s'oppose à la diffusion
des porteurs de façon à ce qu'un équilibre électrique s'établisse.
21
Figure I.11 : La jonction PN
Figure I.12 : Représentation d'une jonction PN à l'équilibre thermodynamique [8]
Dans ces conditions les répartitions des charges, du champ électrique et du potentiel sont
représentées sur la figure (I.11). La région dépeuplée de porteurs mobiles est appelée zone de
charge d'espace (ZCE). Elle a une épaisseur de l'ordre de 0,5 µm. La forme générale de la
densité de charges dépend essentiellement du profil de dopage de la jonction.
Dans le cas idéal représenté à la figure (I.12) on peut déduire aisément la forme du champ
électrique E(x) ainsi que du potentiel V(x) par application des équations de l'électrostatique.
22
En effet le potentiel V(x) et le champ électrique E(x) s'expriment en fonction de la densité de

charges (x) par :
La loi de Gauss s’exprime par la relation suivante :
ௗாሺ௫ሻ ଵ
= ߩሺ‫ݔ‬ሻ
ௗ௫ ఌ
(Eq………………………...I.34)
L’expression du champ électrique s’écrira :
ௗ௏ሺ௫ሻ
‫ܧ‬ሺ‫ݔ‬ሻ = −
ௗሺ௫ሻ
(Eq…………………………I.35)
De plus la neutralité électrique globale du barreau impose la relation : Na Wd= Nd Wd

On peut remarquer que conformément à la relation de Boltzmann il existe une barrière de
potentiel qui constitue le potentiel de diffusion de la jonction.
La largeur de la zone de transition est donnée par :
ଶகబ க౩౟ ଵ ଵ
W଴ = ට ቀ୒ + ୒ ቁ V∅
୯
(Eq…………………………I.36)
౗ ౚ
ேೌ ே೏ ௄்
ܸ∅ = ்ܷ ݈݊ ቀ ቁ Où ்ܷ =
௡೔ ² ௤
(Eq…………………………I.37)
I.13.1-Polarisation de la jonction en direct

Si on polarise la jonction sous une tension Vdirect, elle réduit la hauteur de
barrière qui devient (Vф-Vdirect) entraînant une diminution de l’épaisseur de la Z.C.E
(dans l’équation (W0), Vф est remplacé par : Vф-Vdirect).
De nombreux électrons de la région N et de trous de la région P peuvent alors franchir
cette barrière de potentiel et, se présentant alors dans un “milieu hostile” (P pour
électrons et N pour les trous), ils sont recombinés (figure (I.13).Cette recombinaison
consomme près de la Z.C.E des trous dans la région P (des électrons dans la région N).
Pour rétablir l’équilibre, les trous de la région neutre P se mettent en mouvement vers
la zone où se produit la recombinaison (déficit en trous). Les électrons de la région
neutre N sont soumis à un phénomène analogue. C’est ce phénomène de
recombinaison locale qui explique la circulation du courant direct IA dans la jonction.
23
Ce courant s’écrit:
௏∅ ି௏೏೔ೝ೐೎೟
‫ܫ‬଴ ݁‫ ݌ݔ‬ቀ− ቁ (Eq……………………...I.38)
௎೅
Sachant que le courant de saturation IS correspondant aux porteurs minoritaires des zones N et
P qui se présentent en bordure de la Z.C.E. On obtient le courant total qui circule dans la
jonction :
௏೏೔ೝ೐೎೟
‫ܫ‬஺ = ‫ܫ‬ௌ ቂ݁‫ ݌ݔ‬ቀ ቁ − 1ቃ (Eq………………………..I.39)
௎೅
Figure (I.13): Jonction polarisée dans un sens direct. [9]
I.13.2. Polarisation de la jonction en inverse
Si on polarise la jonction en sens inverse la hauteur de barrière de potentiel

entre les régions P et N est renforcée par la tension extérieure appliquée et devient
Vф+Vinv et le champ électrique dans la zone de charge d’espace augmente.
24
Les porteurs majoritaires des régions N et P n’ont pas l’énergie nécessaire pour sauter
cette barrière de potentiel. La jonction est alors traversée par le très faible courant de
saturation IS. Ce courant issu du phénomène d’ionisation thermique du silicium,
dépend uniquement de la température.
La figure (I.14) nous montre l’origine du courant inverse de saturation IS de cette
jonction.
Figure (I.14): Jonction polarisée dans un sens inverse [9] [11]
I.14. Interface entre deux matériaux

Les composants électroniques utilisent de plus en plus les propriétés d’hétérostructures
réalisées par la juxtaposition de matériaux différents. Nous allons définir ici les grandeurs qui
caractérisent les interfaces et conditionnent les transferts de porteurs de charges entre les
matériaux.
I.14.1. Travail de sortie

Le problème essentiel dans l’étude des hétérostructures est la détermination de la
barrière de potentiel qui existe à différentes interfaces. L’énergie minimum qu’il faut fournir
pour extraire un électron du métal au niveau du vide (NV) est appelée travail de sortie du
métal ‫∅ݍ‬௠ .
Selon la figure (I.15), le travail de sortie d'un métal est donc :
25
‫߮ݍ‬௠ = ܸܰ − ‫ܧ‬ி (Eq…………………………I.40)
Figure. I.15 : Diagramme énergétique d’un métal
Tableu I.2. Travaux de sortie de quelques métaux. [7]

Métal Mo W Ni Ti Au Cu
qфm(eV) 4.53 4.55 5.22 4. 33 5.47 5.10
I.14.2. Affinité électronique

Si on considère un semi-conducteur non dégénéré ou un isolant, on le caractérise alors
par un autre paramètre qui est l’énergie qu’il faut fournir à un électron situé au bas de la
bande de conduction, pour l’extraire du semiconducteur et l’amener dans le vide sans vitesse
initiale ; C’est l’affinité électronique ‫ ݔݍ‬, une grandeur spécifique du sc ou de l’isolant.
Le tableau I.3 donne les affinités électroniques de quelques semiconducteurs.
Tableau I.3 : les affinités électroniques de quelques semiconducteurs [7]

Sc Si Ge 4H-SiC Diamand
q࢞ (eV) 4.01 4.00 3.30 2.7
26
Figure. I.16 : Diagramme énergétique d’un Sc illustrant l’affinité électronique qx.
I.14.3. Barrière de potentiel

Supposons que le métal et le Sc sont séparés par un intervalle très faible ߜ voisin de la
distance interatomique comme le montre la figure I.17. A la température ambiante l’électron
aura une certaine énergie d’origine thermique leur permettant de quitter la surface du métal
vers le Sc. Il en résulte que la barrière de potentiel que doit franchir l’électron pour passer du
métal vers le Sc est donnée par :
‫ܧ‬௕௡ = ‫∅ݍ‬஻௡ ଴ = ‫∅ݍ‬௠ − ‫ݔݍ‬ (Eq………………………..I.41)
Figure. I.17 : Contact métal/Sc avant et après contacte [11]
27
I.15. Le contact Métal Semi-conducteur (M/Sc)
I.15.1. Le contact redresseur

Lorsque ∅݉ > ∅‫ ݏ‬, q∅‫ ݏ‬travail de sortie du Sc, les électrons passent du Sc vers le
métal, le système se stabilise à un régime d’équilibre défini par l’alignement des niveaux de
Fermi et le diagramme énergétique résultant est différent suivant le type du Sc :
a. Semiconducteur de type n
Les électrons qui passent du semiconducteur vers le métal, entraînent des
modifications énergétiques dans chacun des matériaux :
Dans le sc, une zone de déplétion sera crée, les ions donneurs ionisés ne sont plus compensés
par les électrons, il apparaît une zone de charge d’espace positive.
Le niveau de Fermi étant horizontal, il en résulte une courbure des bandes vers le haut,
dans le métal il apparaît une accumulation d’électrons à l’interface.
A cette double charge d’espace sont associés un champ électrique et une tension de diffusion
dV (par fois prend le symbole ψbi) qui comme dans le cas de la jonction pn, équilibre les
forces de diffusion et détermine l’état d’équilibre.
Si on Polarise la structure par une tension métal-Sc V positive comme le montre la figure
(I.18) la bande de conduction du Sc s’élève de eV la courbure diminue. Ainsi la barrière (Sc /
métal) diminue alors que la barrière (métal / Sc) reste inchangée.
L’équilibre est rompus, les électrons diffusent du Sc vers le métal et créent un courant I.
Figure. I.18. Polarisation du contact M/Sc (n) [10]
28
Polarisons maintenant la structure par une tension métal-Sc V négative, la bande de

conduction est abaissée, ce qui augmente la hauteur de la barrière qui s’opposait à la diffusion
des électrons, la structure est polarisée en inverse.
La structure métal semi-conducteur (n) avec ∅௠ > ∅௦ , constitue donc un contact redresseur
c’est une diode Schottky.
b. Zone de charge d’espace (ZCE)

Considérons la structure métal–Semiconduceur (n) avec ∅௠ > ∅௦ , en intégrant l’équation de
poisson et nous supposons que le Sc (Semiconducteur) est homogène, avec une densité de
donneurs excédentaires Nd ionisés à la température ambiante et que la densité d’état
d’interface est négligeable.
Le champ électrique calculé à une direction ‫ ݔ‬est donné par :
௤ே೏
‫ܧ‬ሺ‫ݔ‬ሻ = ሺ‫ ݔ‬− ܹሻ (Eq…….…………………I.42)
ఌೞ
W est la largeur de la zone de charge d’espace et ߝ௦ est la constante diélectrique du Sc
La valeur du champ à l’interface est :
௤ே೏
‫ܧ‬௦ = − ܹ (Eq………………….……I.43)
ఌೞ
Le potentiel scalaire est donné par :
௤ே೏ ௫మ
ܸሺ‫ݔ‬ሻ = − ቀ − ܹ‫ݔ‬ቁ (Eq…………………….…I.44)
ఌೞ ଶ
La tension de diffusion résulte de la différence des travaux de sortie du métal et du Sc :
ܸௗ = ∅௠ − ∅௦ (Eq…………………………I.45)
ଵൗ
ଶఌೞ ଶ
ܹ=ቀ ܸௗ ቁ (Eq…………………………I.46)
௤ே೏
Si on prend en considération la contribution des porteurs libres, la densité de charge s’écrit :
ߩሺ‫ݔ‬ሻ = ሾܰௗ − ݊ሺ‫ݔ‬ሻሿ dans l’équation de poisson et la largeur devient:

29
ଶ
ଶఌೞ ௞்
ܹ=ቆ ቀܸௗ − ቁቇ (Eq………………………..I.47)
௤ே೏ ௤
c. Caractéristique courant-tension
Le courant dans la structure est essentiellement dû aux porteurs majoritaires, ce courant est
conditionné par des phénomènes physiques différents dans les différentes régions illustré par
la figure I.19 :
(1) A l’interface il est conditionné par l’émission thermoionique au-dessus la barrière de
potentiel (le processus dominant dans les diodes Schottky avec un dopage moyen du Sc, ex :
le Silicium avec ܰௗ ≤ 10ଵ଻ ܿ݉ିଷ à une température moyenne 300 K.
(2) Effet tunnel des électrons à travers la barrière (important dans les Sc plus dopé).
(3) Recombinaison dans la ZCE, identique comme une jonction pn.
(4) Courant de diffusion dans la ZCE du Sc.
(5) Les trous injectés du métal et diffuse vers le Sc (équivalent à la recombinaison dans la
région neutre).
Dans les Sc avec une grande mobilité le courant le plus probable est l’émission
thermoionique, tandis que dans les Sc avec petite mobilité c’est le phénomène de diffusion,
entre cet intervalle on fait la synthèse entre les deux phénomènes.
Figure. I.19 : Phénomènes de transport dans un contact M/S [10]
30
I.15.2. Contact ohmique
Un contacte semiconducteur /métal est ohmique lorsque le travail de sortie du

semiconducteur P qфsc est inférieur au travail de sortie du métal qфM.
Après contact, les électrons de la bande de valence du semiconducteur diffusent dans le métal
jusqu’à l’alignement des niveaux de fermi.
Il se forme alors une zone enrichie (zone d’accumulation) en porteurs majoritaires (trous)
dans le semiconducteur proche de l’interface.
Le métal se charge négativement et le semiconducteur positivement. Aucune barrière de
potentiel ne se forme à l’interface métal/semiconducteur et le courant peut passer dans un sens
comme dans l’autre : le contact est dit ohmique. Inversement, dans le cas d’un
semiconducteur de type n, il apparait un contact ohmique lorsque le travail de sortie du
semiconducteur qфsc est supérieure au travail de sortie du métal qфM.
I.16. Conclusion
Dans ce chapitre nous avons donné les notions fondamentales des semiconducteurs et
la jonction PN ainsi que les différentes types de recombinaison et la structure
métal/semiconducteur.
31
Chapitre II
Chapitre II La cellule photovoltaïque à base de silicium
II.1. Introduction
L’énergie solaire photovoltaïque est issue de la conversion directe de la lumière venant
du soleil, en électricité. Cette dernière est une forme d’énergie des plus pratiques car aisément
exploitable pour de très nombreux usages. En tant qu’énergie solaire, elle bénéficie d’une
source d’énergie permanente et qui est la plus abondante de toutes, fossiles ou renouvelables.
Donc pour étudier les cellules solaires à conversion photovoltaïque il est nécessaire dans un
premier temps de présenter la source originale d’alimentation, et de connaître le spectre du
rayonnement solaire reçu au sol, ce spectre est modifié par l’atmosphère à travers les
mécanismes suivants :
-absorption par les gaz de l’atmosphère
-la diffusion moléculaire
-la diffusion des aérosols, les poussières et les nuages
-la réflexion des reliefs
II.2. Le spectre solaire
Le soleil est une source quasi inépuisable d’énergie inonde en permanence la Terre de
lumière et de chaleur. Il est le siège d’une réaction de fusion nucléaire continue transformant
des atomes d’hydrogène en atomes d’hélium, dégageant ainsi une quantité phénoménale de
chaleur. Le spectre solaire qui arrive sur Terre est constitué de différentes longueurs d’onde et
présente la même allure que le spectre d’émission d’un corps noir. La notion d’AM (Air Mass)
sert à qualifier le chemin du spectre solaire dans l’atmosphère, et se définit :
ଵ
‫= ܯܣ‬ (Eq…………………..……II.1)
஼ைௌ(ఏ)
Avec θ, l’angle du soleil par rapport au zénith. Hors atmosphère, le spectre solaire est
AM 0 tandis que lorsqu’il arrive sur la surface de la Terre, il peut être définit par AM 1, AM
1.5, AM 2. Les cellules photovoltaïques sont caractérisées à 25 °C sous le spectre solaire AM
1.5 (1000 W/m²), c’est une convention.
Tableau.II.1.Répartition de l’énergie solaire par région

Eclairement Ultraviolet Visible Infrarouge référence
(0.1< λ <0,4 µm) (0.4< λ <0,75 µm) (0.75< λ <5 µm)
AM0 9% 43% 48% [12]

AM1 3% 42% 55% [13]
32
II.3. Nature du rayonnement solaire
Le rayonnement solaire est constitué de photons dont la longueur d’onde s’étend de

l’ultraviolet (0,2µm) à l’infrarouge lointain (2,5µm) [14].
À la surface de la Terre, le spectre solaire n’est plus le même que dans l’espace, car il
est pondéré par l’absorption des molécules présentes dans l’atmosphère (O3, CO2, H2O, …).
Les conditions climatiques ainsi que la présence de particules influencent également la valeur
réelle du spectre. Pour pouvoir comparer les performances des cellules solaires et qualifier les
différents spectres solaires utilisés, la notion d’Air-masse (AM), ou « masse atmosphérique »
a été créée. Sa valeur dépend de la pression, de l’altitude et de l’angle d’incidence des rayons
lumineux. L’intégration de l’irradiance sur la totalité du spectre permet d’obtenir la puissance
P (en W.m-2) fournie par le rayonnement. Pour simplifier on utilise les notations suivantes
(figure II.2) :
AM0 : Hors atmosphère (applications spatiales). P ≈ 1.36 kW.m-2

AM1 : Le soleil est au zénith du lieu d’observation (à l’équateur).
AM1.5G : Spectre standard, le soleil est à 45°. P ≈ 1 kW.m-2
On représente le rayonnement par un spectre donnant l’irradiance en fonction de la longueur

d’onde (Figure II.2). Pour le soleil, ce spectre est comparable à celui d’un corps noir à une
température d’environ 5800 K.
Figure II.2 : Spectres Solaires relevés dans plusieurs conditions selon la convention AM.
Source NREL solar spectrum. [15]
33
Figure II.2 : Différentes constantes d'illumination [15]
II.4. L’effet photovoltaïque

L’effet photovoltaïque a été découvert par Alexandre Edmond Becquerel en 1839. Il
est obtenu par absorption des photons dans un matériau semi-conducteur qui génère alors une
tension électrique.
L’énergie solaire photovoltaïque provient de la conversion directe du rayonnement solaire en
électricité. Elle utilise pour ce faire des modules photovoltaïques composés de cellules
solaires qui réalisent cette transformation d’énergie en produisant du courant continu, qui peut
être utilisé pour alimenter un appareil ou recharger une batterie. La conversion photovoltaïque
a été réalisée pour la première fois dans le laboratoire Bell en 1954 [16] sur une simple
jonction ࡼࡺ au Silicium. Par suite, plusieurs semi-conducteurs ont été utilisés pour cet
objectif.
Trois processus élémentaires interviennent dans l’effet photovoltaïque :
L’absorption de la lumière dans le matériau.
Le transfert d’énergie des photons aux charges électriques.
La collecte des charges.
Il est donc clair qu’un matériau doit avoir des propriétés optiques et électriques spécifiques
pour permettre la conversion photovoltaïque voir Figure II.3.
34
Figure II.3 – Structure d’une cellule solaire: a) Coupe transverse d’une cellule PV et
mouvement des charges à l’intérieur de la zone charge d’espace ε et b) La jonction p-n. [17]
II.4.1. Les constituants de base d’une cellule photovoltaïque

La cellule photovoltaïque est constituée de plusieurs couches, l’élément de base de ses
structures est la jonction ࡼࡺ qui joue le rôle principal dans le dispositif solaire. Elle est le
siège de la génération des porteurs et de leurs séparations. Bien que différentes structures
soient envisageables pour l’élaboration des cellules photovoltaïques, des parties similaires
sont présentées dans chaque composant. La structure d’une cellule photovoltaïque standard
industrielle est présentée sur la figure II.4.
Figure II.4 : Composition d'une cellule photovoltaïque [18]
35
a. Contacts face avant et arrière

Les contacts métalliques de l’émetteur et du substrat servent à collecter le courant de
porteurs photo générés. Les contacts doivent être ohmiques, c'est à dire que la caractéristique
ࡵ=ࢌ(V) du contact doit être linéaire. La résistance des contacts est un paramètre très
important. La forte résistance des contacts augmente la résistance série de la cellule et baisse
le facteur de forme ainsi que le rendement.
Les contacts sont généralement réalisés par sérigraphie. Les doits de sérigraphie possèdent
une largeur minimale de ૚૙૙ ࣆ࢓ et une épaisseur de ૚૙ ࣆ࢓ à ૜૙ ࣆ࢓ permettant de
conduire une forte densité de courant. Pour les cellules photovoltaïques à haut rendement, la
pulvérisation cathodique ou l’évaporation sous vide sont utilisées.
a. Couche anti-reflet
La quantité de photons pénétrant la cellule photovoltaïque dépend de la réflectivité de
sa surface. La réflectivité caractérise la quantité de photons réfléchie par la surface, soit une
perte du rayonnement incident. Pour minimiser la réflexion de la lumière en surface, cette
dernière est recouverte d’une couche anti-réfléchissante (Anti-Reflective Coatings ۱‫)܀ۯ‬. Le
rôle de la couche anti-réfléchissante est de réduire la réflectivité de la cellule au niveau de la
face avant. Sans couches anti-réfléchissantes, la cellule solaire agit comme un miroir et reflète
jusqu’à 33% de la lumière incidente sur la cellule. Cette couche réduit au minimum cette
réflexion, en ramenant les pertes de réflexion à moins de 5% de sorte que la lumière du soleil
va atteindre la surface de la cellule et diminuer les pertes optiques. Différentes couches anti
réflectives sont utilisées en photovoltaïque, elles peuvent être isolantes comme le TiO2, SiO2,
ZnS, MgF2 et SiNx ou conductrice comme le ZnO ou l’ITO.
La réflectivité dépend de l’indice de réfraction du matériau, de l’épaisseur de la couche

déposée, de l’angle d’incidence et de l’état de polarisation du rayon incident. Si l’épaisseur de
la couche diélectrique est égale à :
(૛ࡺା૚)∙ࣅ
ࢊ࡯࡭ࡾ = avec N = 0, 1, 2, 3, (Eq………………………II.2) [5]
૝࢔࡯࡭ࡾ
On obtiendra l’annulation des faisceaux réfléchis à l’interface air/ ۱‫ ܀ۯ‬et ۱‫ ܀ۯ‬/semi-

conducteur. Pour les cellules photovoltaïques à haut rendement, une double ۱‫ ܀ۯ‬est utilisée
avec deux diélectriques différents.
36
b. Texturation de surface
La Figure II.4 présente le principe de réflexions multiples propre à la texturation. Le
relief de la surface entraîne une baisse de la réflexion en face avant: un rayon arrivant à
incidence normale (par rapport au plan de la cellule) sur une pyramide sera réfléchi sur la face
d’une pyramide adjacente, cette double réflexion sur les pyramides diminue le coefficient de
réflexion totale, qui ne vaut plus ࡾ mais ࡾ૛. D’autre part, un rayon d’incidence normale sera
transmis dans la cellule avec un angle de réfraction ࣂ différent de ૙°. Le trajet de ce rayon
dans le silicium sera donc augmenté d’un facteur ૚/࢙࢏࢔ࣂ par rapport au cas d’une surface
plane et perpendiculaire à l’éclairement, ce qui aura pour effet d’augmenter la part de photons
absorbés par le matériau. Pour finir, la texturation de la surface entraîne un piégeage plus
important de la lumière pénétrant dans la cellule. Sur la face arrière de la cellule, il existe un
angle d’incidence critique ࣂࢉ à partir duquel le rayon est totalement réfléchi et prolonge son
trajet dans le semi-conducteur, augmentant là aussi l’absorption des photons. En appliquant la
loi de Descartes, on trouve que cet angle vaut ૚ૠ° dans le cas du silicium dans l’air.
c. BSF
Un ۰‫܁‬۴ (Back Surface Field) est une couche fortement dopée sur la face arrière de la
cellule. Cette zone a le même type de dopage que celui de la base, conduisant à une structure
ࡼ−ࡼ+. Ce dernier consiste à créer une barrière de potentiel sur la face arrière de la cellule
pour assurer une passivation. La barrière de potentiel induite par la différence du niveau de
dopage entre la base et le ۰‫܁‬۴ tend à confiner les porteurs minoritaires dans la base. Donc le
but du champ arrière est de diminuer la vitesse de recombinaison.
II.4.2. Principe de fonctionnement d’une cellule solaire

L'effet photovoltaïque utilisé dans les cellules solaires permet de convertir directement
l'énergie lumineuse des rayons solaires en électricité par le biais de la production et du
transport dans un matériau semi-conducteur des charges électriques positives et négatives
sous l'effet de la lumière. Ce matériau comporte deux parties, l’une présentant un excès
d'électrons et l’autre un déficit en électrons, dites respectivement dopée de type ࡺ et dopée de
type ࡼ.
Lorsque la première est mise en contact avec la seconde, les électrons en excès dans
le matériau ࡺ diffusent dans le matériau ࡼ. La zone initialement dopée ࡺ devient chargée
positivement, et la zone initialement dopée ࡼ devient chargée négativement. Il se crée donc
entre elles un champ électrique qui tend à repousser les électrons dans la zone ࡺ et les trous
vers la zone ࡼ. Une jonction ࡼࡺ est donc formée. En ajoutant des contacts métalliques sur les
37
zones ࡺ et ࡼ, une diode est obtenue. Lorsque la jonction est éclairée, les photons d'énergie
égale ou supérieure à la largeur de la bande interdite cèdent leur énergie aux atomes, chacun
fait passer un électron de la bande de valence dans la bande de conduction et laisse aussi un
trou capable de se mouvoir, engendrant ainsi une paire électron-trou. Si une charge est placée
aux bornes de la cellule, les électrons de la zone ࡺ rejoignent les trous de la zone ࡼ via la
connexion extérieure, donnant naissance à une différence de potentiel et un courant électrique
continu circule.
Le principe de fonctionnement d’une cellule solaire est illustré sur la figure II.5 [18].Les
photons incidents créent des porteurs dans les régions ࡺ, ࡼ et la zone de charge d'espace.
Le comportement de ces porteurs libres diffère suivant le lieu de leur création. Dans les zones
électriquement neutres ࡼ et ࡺ, les photoporteurs minoritaires diffusent.
Figure II.5. Structure et diagramme de bande d'une cellule photovoltaïque [18]
Ceux qui atteignent la région de charge d’espace sont propulsés par le champ électrique vers
la région où ils deviennent majoritaires. Ces photoporteurs contribuent donc au courant par
leur diffusion, ils créent un photocourant de diffusion. Dans la zone de charge d'espace, les
paires électrons trous créés par les photons sont dissociées par le champ électrique, l'électron
est propulsé vers la région de type ࡺ et le trou vers la région de type ࡼ. Les porteurs donnent
38
naissance à un photocourant de génération. Ces deux contributions s'ajoutent pour créer un

photocourant résultant ࡵ࢖ࢎ qui contribue au courant inverse de la diode.
Sous éclairement, la caractéristique J(V) de la diode est [19] :
௤௏
‫ܬ = ܬ‬଴ ቀ݁‫ ݌ݔ‬ቀ ቁ − 1ቁ − ‫ܬ‬௣௛ (Eq …………………………II.3)
௡௞்
II.4.3. Modélisation électrique de la cellule photovoltaïque

L’équation (Eq. II.3) correspond au fonctionnement d’une diode idéale. Dans une
cellule photovoltaïque, constitue de plusieurs couches.
Différents termes viennent s’ajouter :
La résistance série (Rs), qui correspond aux résistances entre chaque couche ;
La résistance parallèle (Rp), qui est liée aux courts-circuits dans la cellule ;
Une ou plusieurs diodes supplémentaires, traduisant les différents mécanismes de
recombinaison pouvant se produire dans la cellule (le facteur d’idéalité et la densité de
courant de saturation diffère pour chaque diode). Un modèle à deux diodes est souvent
utilisé pour les cellules photovoltaïques.
Finalement, le circuit équivalent d’une cellule photovoltaïque est représenté sur la Figure II-6
(pour un modèle a une diode). La caractéristique J(V) sous éclairement devient :
௤(௏ି௃ோೞ ) ௏ି௃ோೞ
‫ܬ = ܬ‬଴ ቀ݁‫ ݌ݔ‬ቀ ቁ − 1ቁ + − ‫ܬ‬௣௛ (Eq…………………………..II.4)
௡௞் ோ೛
Figure II.6 : Schéma équivalent d’une cellule solaire pour un modèle à une diode.
39
II.4.4. Caractéristiques électriques d’une cellule solaire
Un exemple de caractéristique J(V) d’une cellule solaire photovoltaïque à l’obscurité

(en noir) et sous éclairement (en rouge) est représenté sur la Figure II-7-a, et l’évolution de la
puissance délivrée selon son point de fonctionnement est représentée sur la Figure II-7-b.
Figure II.7 : (a) Caractéristique J(V) d’une cellule solaire à l’obscurité (en noir) et sous
éclairement (en rouge). (b)Puissance délivrée par la cellule en fonction du potentiel. [17]
Les différents paramètres caractérisant la cellule solaire, extraits de la caractéristique J(V)

sous éclairement, sont les suivants :
II.4.5. Paramètres issus d’une courbe J(V)

Les différents paramètres impliqués dans la conversion de l’énergie solaire en
électricité peuvent être déduits des caractéristiques d’une courbe courant (tension) J(V).
L’allure caractéristique des courbes J(V) d’une cellule dans le noir et sous éclairement est
représentée dans la figure (II.7.a).
La courbe noire représente le comportement J(V) de la cellule dans le noir.
L’augmentation exponentielle de la densité de courant en fonction de la tension représente le
comportement typique d’une diode. La courbe rouge représente la cellule sous illumination.
Cette dernière est décalée vers le bas et permet de déduire divers paramètres tels que :
Le courant de court-circuit Jcc ou Jsc (Short Circuit), relevé à l’intersection de la
courbe sous éclairement avec l’axe des ordonnées. Il représente le courant maximal
que peut débiter la cellule solaire sous une puissance donnée d’illumination. Le
40
courant de court-circuit donne une information l’efficacité de la séparation des charges

et de leur mobilité.
La tension de court ouvert Vco, relevée à l’intersection de la courbe sous éclairement
avec l’axe des abscisses. C’est la tension maximale atteinte par un éclairement avec
l’axe des abscisses. C’est la tension maximale atteinte par une cellule sous
éclairement. Ce paramètre varie peu avec l’clairement, il est mesuré en reliant la
cellule solaire à un voltmètre. Elle dépend essentiellement de la différence des
travaux de sorties des électrodes.
La puissance maximale Pmax est le produit de la tension maximale (Vmax) et du
courant maximal (Imax). Elle correspond à la puissance maximale pouvant être
délivrée par une cellule photovoltaïque.
ܲ௠௔௫ = ܸ௠௔௫ ∙ ‫ܫ‬௠௔௫ (Eq…………………..……II.5)
Le facteur de forme (FF) est le rapport de la surface de rectangle gris (Pmax) sur le
produit de la Vco et Icc :
௏೘ೌೣ ∙ூ೘ೌೣ
‫= ܨܨ‬ (Eq………………………..II.6)
௏೎೚ ∙ூ೎೎
FF donne donc une mesure de la qualité de la courbe I(V) caractéristique de la cellule solaire.
Ses valeurs limites sont comprises entre 25% (comportement ohmique de la cellule) et
100%(comportement rectifiant).
Le rendement quantique externe EQE, appelé aussi IPCE (Incident Photon to Current
Conversion Efficiency) est le nombre d’électrons générés par photon incident. Ce rendement
prend en considération les photons réfléchis et transmis. Cette valeur est donnée par la
relation :
୦∙ୡ ூ೎೎ ூ೎೎

IPCE = × IPCE = 1,24 × (Eq……………………II.7)
ୣ ீ∙ఒ ீ∙ఒ
41
Avec G (w .cm-2) l’éclairement reçu par l’échantillon, ߣ (nm) la longueur d’onde

monochromatique, h (J.S) comme constante de Planck, c (m.s-1) la vitesse de lumière, e (C) la
charge électrique et Icc en A.cm-2
Le rendement de conversion ߟ est un paramètre essentiel qui exprime l’efficacité de

conversion d’une cellule photovoltaïque. Il est défini comme le rapport de puissance
électrique maximale fournie par une cellule sur la puissance de l’éclairement incident
фe (100mW.cm-2) suivant la relation :
௉೘ೌೣ
ߟ= (Eq…………….………….II.8)
∅೐
Cette grandeur est très importante pour évaluer les performances d’un dispositif
photovoltaïque. Dans une certaine mesure, elle peut être un des éléments majeurs afin de
pouvoir comparer les cellules entre elles.
II.5. Les différentes filières photovoltaïques à base de Silicium

L’industrie photovoltaïque est concentrée à plus de 90% [20] sur l’utilisation de
silicium comme matériau de base. Ce semiconducteur présente en effet, différents avantages :
il est abondant à la surface du globe car facilement extrait à partir du sable ; c’est un matériau
stable et il n’est pas toxique comme certains semiconducteurs III-V; il possède un oxyde
naturel (SiO2) présentant d’excellentes propriétés électroniques et il peut être dopé
facilement (avec le phosphore ou le bore) [18].
Il existe différents types de modules photovoltaïques. Les modules faits de cellules de
silicium cristallin sont les plus répandus, cette technologie représente actuellement 80 % [18]
du marché (Figure II.8), les cellules sont constituées de plaquettes de silicium monocrstallin
ou multicristallin de 200 µm d’épaisseur environ, de forme carrée ou pseudo-carrée, de
dimensions allant jusqu’à 156 mm de côté. Ces cellules sont raccordées en série et assemblées
en module.
42
Figure II.8 : Evolution de la répartition des différentes filières industrielles du photovoltaïque

en parts de marché.
Les cellules au silicium cristallin occupent donc la quasi-totalité du marché photovoltaïque,

depuis les débuts de cette filière et probablement pour longtemps encore.
Cette filière est elle-même subdivisée en plusieurs technologies distinctes de part la nature du
silicium employé et/ou sa méthode de fabrication. Cette filière comporte les technologies
suivantes : le silicium monocristallin, le silicium polycristallin, le silicium amorphe [17] et le
silicium en couche mince.
II.5.1. Silicium monocristallin

Les cellules monocristal présentent un aspect parfaitement homogène de couleur gris
sombre. La structure homogène, ne présente pas de joints de grains et correspond à la
structure cristalline parfaitement ordonnée susceptible d’assurer un rendement optimum.
L’obtention du Silicium se fait par tirage d’un lingot de monocristal (méthode Czochralski),
ce qui lui confère des bords arrondis dont la couleur gris sombre offre un aspect visuel tout à
fait reconnaissable. La différence réside essentiellement dans l’obtention du silicium brut. Le
monocristal présente un rendement énergétique élevé de l’ordre de 20%, proche du maximum
théorique qui est de 30% [21].
La structure d’une cellule au silicium cristallin, est commune à toutes les autres cellules, c’est
à dire qu’elle est constituée d’une jonction de deux types opposés et qui lui confère une
charge d’espace.
43
Procédure de Czochralsky
La plus grande partie du silicium monocristallin consommé par l’industrie
électronique est produite par la méthode Czochralsky. On utilise un creuset en quartz nettoyé,
lavé à l’eau de-ionisée et séché sous vide. Dans le creuset, on met le silicium ulta pur en
morceaux et on lui ajoute du dopant. Le tout est introduit dans un four qui est refroidit par un
circuit de circulation d’eau. Le creuset est ensuite chauffé jusqu’à la fusion du silicium.On
descend alors le germe de silicium monocristallin jusqu’à le mettre en contact avec le silicium
en fusion [22].
Figure II.9 : Schéma de principe de la méthode Czochralski. [22]
Le germe tourne dans le sens des aiguilles d’une montre, le creuset dans le sens contraire.
Au départ, on imprime un mouvement rapide au germe pour obtenir un cylindre de silicium
de la grosseur d’un doigt environ. On ralentit ensuite le mouvement ; plus la vitesse est faible,
plus le diamètre du lingot est important.
II.5.2. Silicium polycristallin

Pour fabriquer une cellule photovoltaïque, il n’est pas nécessaire d’avoir un silicium
aussi pur et ordonné que le monocristal. Dans le cas du Silicium polycristallin l’élaboration
n’est pas aussi difficile à mettre en œuvre car au lieu d’effectuer un tirage de monocristal, le
44
silicium est versé dans un moule ou il va refroidir et se solidifier en prenant la forme du

moule.
Figure II.10: Four à silicium polycristallin [23]
Le silicium polycristallin, obtenu par refonte des chutes de silicium monocristallin issues des
opérations d’équarrissages (Figure II.10).
Les chutes sont placées dans un creuset porté à + 1430°C. Après la phase de fusion, le fond du
creuset est refroidi. On oriente de bas en haut la solidification, pour lui donner une structure
colonnaire multicristalline à gros grains. Le lingot obtenu est ensuite découpé, en briques de
101,5 x 101,5 mm ou 120 x 120 mm actuellement. Ces briques sont ensuite assemblées pour
être transformées [23].
La cristallisation s’effectue alors en de nombreux cristaux qui sont visibles même

après la fin du façonnage de la cellule. On peut tolérer un certain nombre de défauts et
impuretés dans le matériau dans la mesure où leur concentration n’affecte pas le rendement
admissible. Dans le cas du silicium polycristallin à gros grains (>quelques mm2), appelé aussi
polycristallin (mc-Si), si on accepte des défauts et impuretés (concentrations en impuretés
métalliques de l’ordre de 1014cm−3), on atteint des rendements de conversion moyens (η ~
16%). La baisse de rendement photovoltaïque lie à ces imperfections se trouve en partie
compensée par le meilleur remplissage sur la surface du panneau, puisque les cellules sont
45
géométriquement à angles droit, contrairement aux cellules ≪mono≫. D’un point de vue
économique, le record revient au polycristallin, l’écart étant surtout lie a la simplicité de
réalisation du lingot de silicium par rapport a la réalisation du monocristal de silicium.
Figure II.11 : (a) photographies de cellules monocristalline et (b) multicristalline.
II.5.3. Un exemple d’une cellule photovoltaïque en silicium monocristallin :

La cellule à haut rendement (PERL) et cellule photovoltaique industrielle en silicium
cristallin
La structure de la cellule photovoltaïque à haut rendement en silicium monocristallin
est présentée sur la figure (II.a).Cette cellule a été élaborée en laboratoire avec des procédés
de la microélectronique en utilisant la technologie PERL (Passived Emitter with Rear Locally
diffused).
Figure II.12 :a)Structure d’une cellule photovoltaïque en Si monocristallin à haut rendement

(24,7%), b). Structure d’une cellule photovoltaïque industrielle en silicium cristallin. [18]
46
Cette cellule est réalisée sur un substrat de Si FZ (Float Zone) de type P. La face avant (face
éclairée) de la cellule est texturée en « pyramides inversées ». Ce type de texturation permet
une réduction importante du coefficient de réflexion et ainsi de pertes optiques dans la cellule.
Une jonction p-n peu profonde est réalisée sur toute la surface avant la séparation des porteurs
de charge. L’émetteur ainsi réalisé est peu dopé afin de limiter les recombinaisons. Le contact
ohmique sur l’émetteur est déposé sous forme de grille. La géométrie de cette grille doit
assurer une faible résistance série tout en limitant l’ombragement de la cellule. Pour obtenir
un contact ohmique, la région sous le contact avant est surdopée n+ (émetteur sélectif).
Une fine couche d’oxyde thermique (de haute qualité) est formée sur l’émetteur pour réduire
la recombinaison sur la face avant de la cellule. Sur l’oxyde, une double couche anti-
réfléchissante est déposée pour réduire les pertes par réflexion.
De même que la face avant, la face arrière de la cellule est passivée par l’oxyde thermique
avec des trous pour prendre le contact. Pour assurer un bon contact arrière, la région du
contact est dopée p+. Néanmoins, le contact entre le métal et le silicium n’est pas continu afin
de limiter la recombinaison sur le contact et dans la région fortement dopée p+.
Par contre, la métallisation de la face arrière est continue : elle couvre les zones de contact et
l’oxyde de passivation servant ainsi de réflecteur arrière.
Et pour la Structure d’une cellule photovoltaïque industrielle en silicium cristallin en figure

(II.12.b) à une structure moins complexe que la PERL afin de réduire son prix, elle présente
un rendement compris entre 15% et 17% pour les cellules conventionnelles en silicium
monocristallin et 14% environ pour les cellules en silicium multicristallin.
II.5.4. Cellules photovoltaïques en couches minces
Le prix des plaques de silicium (c'est-à-dire le prix de la matière première, de la mise

en forme des lingots et de la découpe des lingots) constitue la part la plus importante du prix
des cellules photovoltaïques. Il est donc clair que la réduction du coût du module nécessite de
réduire le coût de l’élaboration du substrat. La méthode la plus accessible pour les industriels
est la réduction de l’épaisseur des plaques de silicium tout en améliorant la passivation des
surfaces et le confinement optique. Il est cependant difficile de descendre en dessous de
150µm d’épaisseur sur des plaques de grande surface car il y a de risque de casse lors de la
réalisation de la cellule.
47
Une autre possibilité pour réduire le prix de substrat de manière importante est la réalisation
des cellules photovoltaïques sur couche minces de silicium.
Les couche minces cristallines de silicium peuvent être obtenues typiquement selon deux
voies : basse température (T < 600°C) et haute température (autour de 1000°C). A basse
température, le dépôt de silicium peut être effectué sur des verres, métaux ou plastique, mais
la couche de silicium est en phase amorphe ou polycristalline avec des petits grains. A haute
température, du silicium multicristallin à gros grains ou même du silicium monocristallin
peuvent être obtenus. Ainsi, du point de vue du rendement, les approches à haute température
sont plus prometteuses.
a. Cellules à base de silicium amorphe

Le silicium amorphe est un matériau obtenu de façon simple par dépôt en phase vapeur sur
des substrats économiques tels que le verre, le quartz ou l’aluminium. La décomposition en phase
vapeur de silane SiH4 à basse température (200 à 400°C) permet de déposer du silicium amorphe
hydrogéné avec une vitesse avoisinant la dizaine de nanomètres par minute.
Les cellules solaires à base de silicium amorphe, ont une structure moléculaire non
cristalline, ils nécessitent moins d’énergie pour leur production que les cellules cristallines,
car ils sont composées de couches minces. Leur rendement actuel atteint 9% [14] en industrie
et environ 11% en laboratoire. Cependant, le silicium amorphe permet de produire des
panneaux de grandes surfaces à faible coût en utilisant peu de matière première. La
technologie du silicium amorphe permet de fabriquer des cellules semi transparentes qui
laissent passer 10% à 20% du rayonnement solaire incident.
Cependant, la grande densité de défauts du silicium amorphe (liaisons pendantes, états
d’interface, structure multicristalline) limite son rendement de conversion, rendement inférieur
à10 % [28] pour les cellules solaires industrialisées.
b. Cellules photovoltaïques en couches minces avec d’autres matériaux
D’autres matériaux semiconducteurs sont également utilisés pour fabriquer des

cellules solaires :
Cellules CIS (cuivre-indium-seleniure)
Matériau polycristallin à couches minces, qui atteint une efficacité de 10,2% sur un module
prototype et 17,7% en laboratoire. Une tendance est aux multicouches associant deux
semiconducteurs de sensibilité spectrale complémentaire pour augmenter le rendement. La
48
difficulté de cette technologie est liée au procédé de fabrication permettant d’obtenir des
couches très uniformes et d’éviter l’apparition de défauts lors de la phase de déposition du
diséléniure de cuivre.
Cellules CdTe (tellurure de Cadmium)

Cette filière a été une des premières étudiées en 1960, du fait de ses propriétés optiques
optimales, c'est-a-dire une bande interdite directe de l’ordre de 1,5eV et une grande
absorption dans tout le spectre solaire. Ce matériau polycristallin à couche minces (1 à 2µm),
réalise par électro-déposition, brumérisation et évaporisation, tient la promesse d’une
production à faible coût. L’efficacité de ces modules a été mesurée entre 6% et 8,5% (16,5%
en laboratoire). Les hétérojonctions CdTe/CdS/SnO2/verre sont apparues en 1964 et le
premier module CdS/CdTe date de 1972. Malgré les remarquables rendements obtenus et
excédant les 16% [24], des problèmes freinent encore cette filière à savoir :
-La difficulté de réaliser des contacts électriques stables,
-La sensibilité de cette cellule à la vapeur d’eau (problème de moisissure),
-L’agressivité pour l’environnement, du fait de la présence du Cadmium qui est
toxique et polluant.
Cellules CIGS
La filière CIGS (cuivre indium gallium sélénium), utilisée sous forme d’une couche mince
polycristalline. A la différence des cellules issues du silicium utilisant le principe de la
jonction pn, la structure du CIGS forme une jonction complexe appelée hétérojonction. Les
meilleurs rendements obtenus étaient de 19,9% en laboratoire [25]. Au vu du potentiel
d’évolution de cette technologie, de grandes entreprises se sont lancées dans la fabrication de
ce type de cellules, les procédés de dépôt en couches minces étant particulièrement bien
adaptés à la production en grandes séries. Le rendement de ces cellules industrielles atteint
14%. Cependant il reste un grand nombre de points à améliorer afin de réduire le prix de ces
cellules. Le principal challenge de la technologie CIGS couche mince est la réduction du prix
des matériaux. Divers pistes existent pour essayer de remplacer les matériaux chers comme
l’InGa par l’Al. De plus il est nécessaire de trouver des solutions pour moins gaspiller la
matière première active pendant la fabrication.
49
Cellules GaAs (arseniure de Gallium)

Ce composé III-V l’arséniure de gallium sont des cellules très onéreux ont un très haut
rendement qui atteint 30% pour un spectre AM0, ces cellules sont généralement réservées
pour des applications spatiales.
L’idée pour réduire leurs coûts est d’utiliser du concentrateur photovoltaïque (CPV) en
focalisant les rayons lumineux sur une cellule solaire.
Toutes les technologies évoquées précédemment sont de nature inorganique, mais il existe
également des cellules organiques. Les cellules à colorant et celles en matériaux polymères,
elles ont des coûts de fabrication très faibles et des rendements de 2-4 %.
II.6. Les cellules multijonctions en couche mince

Aujourd'hui, la plupart des cellules photovoltaïques inorganiques sont constituées
d’une simple jonction PN. Dans cette jonction, seuls les photons dont l'énergie est égale ou
supérieure à la bande interdite du matériau (notée Eg en eV) sont capables de créer des paires
électron-trou. En d'autres termes, la réponse photovoltaïque d’une cellule simple jonction est
limitée. Seule la proportion du spectre solaire dont l’énergie des photons est supérieure au gap
d’absorption du matériau est utile, l’énergie des photons plus faible n’est donc pas utilisable.
D’autre part, même si l’énergie des photons est suffisante, la probabilité de rencontrer
un électron est faible. Ainsi, la plupart des photons traversent le matériau sans avoir transférer
leur énergie. Une première réponse pour limiter les pertes est connue de longue date du point
de vue technologique, il suffit d’utiliser des systèmes à plusieurs niveaux, en empilant des
jonctions possédant des gaps décroissants, (Figure II-13). Ainsi il est possible d’exploiter le
spectre solaire dans sa quasi-totalité avec des rendements de conversion très importants.
Figure.II.13. Principe de la cellule à hétérojonction.

50
II.6.1. Exemple d’une cellule photovoltaïque multijonction

a. cellules tandem à base (a-Si/µc-Si)
Les cellules tandem à base de silicium à la fois amorphe et polycristallin (a-Si/µc-Si) ont
des meilleurs rendements stabilisés en laboratoire qui sont de l’ordre de 14% [26]. Il s’agit
comme pour les multi-jonctions d’empiler deux cellules photovoltaïques qui absorbent des
photons de longueurs d’onde différentes. Par ce mécanisme, l’ensemble tandem composé de
l’association de deux cellules, permet d’absorber un plus large spectre lumineux et ainsi
produire plus d’énergie qu’une cellule simple jonction. La première couche en silicium
amorphe absorbe une partie du spectre alors que l’autre partie, qui la traverse, est absorbée par
la seconde couche en silicium microcristallin Figure(II.14). Le procédé de fabrication est le
même que pour les couches minces, les différentes couches qui composent la cellule sont
déposées par plasma (PECVD) sur un substrat de verre.
Figure II.14 : Cellules tandem à base de silicium à la fois amorphe et polycristallin (a-Si/µc-
Si) [26]
51
Figure II-15. Caractéristique courant-tension d’une cellule Tandem a-Si/µc-Si. [27]
On peut observer en Figure (II-15) les caractéristiques électriques réelles d’une cellule
tandem a-Si/µc-Si. Contrairement aux autres cellules simple jonction, la tension de circuit
ouvert de cette cellule s’élève à 1.39V. Cette hausse de tension s’explique par l’architecture
tandem équivalente à la mise en série de deux cellules. Par conséquent, les tensions Voc de la
cellule a-Si et de la cellule µc-Si s’additionnent. Cette configuration lie cependant
électriquement les deux cellules. Ainsi, le courant produit par cette association dépend de la
cellule produisant le plus faible courant. Généralement, on optimise conjointement les deux
cellules afin d’optimiser la puissance fournie par l’ensemble tandem.
II.7. Les techniques d’élaborations de silicium de qualité électronique

Le silicium est l’élément le plus abondant sur terre après l’oxygène, il représente 25%
de la croute terrestre, qui présente un gap indirect 1,12 eV. Le prix élevé du silicium « qualité
électronique » vient de la pureté exigée par l’industrie des semiconducteurs. Cette pureté est
atteinte après plusieurs étapes industrielles que nous allons les résumés dans le diagramme ci-
dessous :
52
(Silice) SiO2+2C (Carbone) → Si + 2CO

Réduction à 200°C
Trichlorosilane SiHCl3
Si (solide) + 3Hcl → SiHcl3 + H2 (gaz)
Purification par HCl
Silicium polycristallin
Croissance par la méthode

de Czokralsky
Déchets
Croissance par la méthode
De solidification
directionnelle
Lingot Si monocristallin
Lingot de Si multicristallin Sciage
Sciage Polissage, nettoyage
Plaquette de Si multicristallin
Plaquette de Si monocristallin
Figure II.16. Diagramme représentant les étapes de fabrication des Si monocristallin et

multicristallin.
53
II.8. Conclusion
L’utilisation du silicium pour la fabrication de modules photovoltaïques se justifie par
l’excellente connaissance physique de ce matériau, son abondance sur la croûte terrestre, sa
non toxicité et sa stabilité dans le temps, la maitrise de sa technologie, la présence des
plateaux techniques légués par l’industrie micro-électroniques et aussi par des qualités
photovoltaïques assurant au final un bon rendement de conversion, mais Le coût élevé de la
production industrielle photovoltaïque reste une question majeure.
Afin de réduire le coût de production il est essentiel de trouver un équilibre entre une
technologie efficace et un prix raisonnable, tout en contrôlant l’impact environnemental du
procédé de fabrication. Parmi les différentes cellules solaires destinées à améliorer l’efficacité
et le prix ; les cellules solaire à base de chalcogénures de métaux de transitions (MoS2, WS2,
MoSe2, WSe2).
Nous allons voire dans le chapitre qui suit l’utilisation de ces matériaux dans le domaine
photovoltaïques.
54
Chapitre III
Chapitre III Les dichalcogénures de métaux de transition MX2
III.1. Introduction
Les dichalcogénures lamellaires constituent environ deux tiers des dichalcogénures de
métaux de transition MX2 répertoriés dans la littérature. Dans les années 1970 et 1980, ils
ont donné lieu à de nombreuses études menées au laboratoire sous la direction du Pr. Jean
Rouxel. Ces composés possèdent une forte anisotropie de liaisons : des liaisons fortes au sein
des couches et des interactions plus faibles, les interactions de van der Waals, assurant le lien
entre ces couches. L’une des conséquences directes d’une telle organisation structurale est la
possibilité de réaliser des clivages, d’obtenir des propriétés de lubrification ou d’observer des
propriétés physiques anisotropies. L’un des points les plus intéressants dans la famille des
chalcogénures lamellaires réside dans la possibilité d’intercaler entre les couches divers types
d’ions, voire de molécules plus ou moins complexes.
Les disulfures de molybdène et de tungstène ainsi que leurs diséléniures font partie de cette
grande famille des chalcogénures lamellaires qui adoptent des structures cristallographiques
bidimensionnelles (2D).
L’objectif de ce chapitre est l’étude des propriétés électroniques et structurales des

composés lamellaires WS2 et MoS2 ainsi que leurs voisins chimiques le MoSe2 et le WSe2
dont les propriétés cristallines et électroniques sont semblables.
On passe en revue les propriétés électriques et optiques des composés lamellaires en vue de
leur utilisation dans la photovoltaïque sous forme de couches minces.
Ce chapitre inclut également les techniques d’élaboration de ces matériaux sous forme de
couches minces ainsi que les techniques de leurs caractérisations.
III.2. Les solides lamillaires

Les solides lamellaires sont des matériaux constitués de feuillets bidimensionnels
empilés selon une même direction ; la nature des liaisons interafeuillets est covalente alors
que les liaisons interfeuillets sont de faible interaction (de type de Van Der Waals).
On distingue trois familles de solides lamellaires qui différent par la constitution de leurs
feuillets (Figure III.1) :
feuillets atomiques
feuillets moléculaires
feuillets multiples
55
Figure III.1 : les solides lamellaires :a) : feuillets atomiques (Graphène)

b) : feuillets moléculaires (MX2)
III.2.1. Les chalcogénures de métaux de transitions MX2 (M = Ta, Nb, Ti, Re,W, Mo; X
= S, Se, Te):
Ce sont des composés chimiques formés de deux éléments chimiques simples M est un métal
de transition et X c’est un chalcogénure.
Dans notre travail on a choisi le molybdène et le tungstène comme métaux de
transition sachant que ; le molybdène est un élément chimique, de symbole Mo et de numéro
atomique 42, avec deux configurations électroniques dont l’une est instable : 4d5 5s1 et
l’autre stable : 4d45s15px1 ce qui donne naissance a un état d’hybridation sp, et le duxième
métal c’est le tungstène qui est un élément chimique du tableau périodique de symbole W et
de numéro atomique 74, c'est un métal de transition gris-acier blanc, très dur, et lourd, leur
configuration électronique est 4f14 5d4 6s2.
On a choisi aussi le sélénium et le soufre comme chalcogénures sachant que le premier est
un élément chimique de la famille des chalcogènes, de symbole Se et de numéro atomique
34,sa configuration électronique 4s24p4.
Le sélénium ne réagit pas avec l'eau. Il brûle dans l'air. Il réagit avec les bases et l'acide
nitrique. Il est souvent toxique par inhalation et ingestion, il se trouve souvent sous deux
formes l’une est de la couleur rouge et l’autre grise ; tendit que le deuxième chalcogénure est
un élément chimique de couleur jaune, de symbole S et de numéro atomique 16, sa
configuration électronique 3s2 3p4.
56
III.3. Les dichalcogénures de métaux de transition MX2 sous forme massif
Les dichalcogénures de métaux de transition (TMDC) MoS2 et le WS2 se trouvent dans la

nature sous forme de minéraux [41] [30] appelés molybdénite et tungsténite (wolframite).
Tandis que les séléniures de ces deux métaux de transition le MoSe2 et le WSe2 ne se trouvent
pas naturellement à la surface de la terre.
Figure III.2 : Des Photographies du MoS2 (Molybdenite) Massif [31],[32]
III.4. Les propriétés structurelles du MX2 (M = W, Mo; X = S, Se)
Les dichalcogénures de métaux de transition (en anglais Layred Transition Métal

Dichalcoginides, TMDC) qui sont l’objet de notre étude, ont une formule générale MX2 (où
M = W, Mo; X = S, Se) ils contiennent un élément de transition métallique M du groupe VI B
(Mo,W) à l’état d’oxydation +4 et deux éléments de la colonne des chalcogènes (S,Se) à l’état
d’oxydation -2. Leur structure lamellaire résulte d’un empilement de feuillets bidimensionnels
infinis selon l’axe C, comportant trois couches atomiques selon la séquence X-M-X X-M-X,
les couches externes de chaque feuillet sont constituées d’atomes de chalcogène (S,Se) en
arrangement hexagonal compact et en coordination trigonale prismatique par rapport aux
atomes de métal. Tandis que la couche centrale est composée d’atome métallique (Mo,W)
Figure III.3.
57
Figure III.3 : La structure cristallin de MX2 [33]
Les liaisons M-X à l’intérieur des feuillets sont fortes, de natures covalentes et les liaisons
entre feuillets (X-X) sont beaucoup plus faibles de type van der Waals (VdW) faibles. Ces
forces sont assez faibles pour permettre aux couches voisines de glisser les un par apport aux
autres (Figure III.4).
Figure III.4: La structure trigonale prismatique de MX2 et les plans van der Waals. [34]
Les feuillets peuvent s’empiler de deux manières qui se traduisent par l’existence de deux
polytypes appelés 2H et 3R.
• Le polytype 2H
Dans le polytype 2H, le feuillet supérieur est tourné de 60° par rapport au feuillet précédent,
les anions et cations du feuillet supérieur se plaçant respectivement au-dessus des cations et
anions du feuillet précédent (Figure III.5). Il y a dans ce cas périodicité de la structure selon
58
l’axe c tous les deux feuillets. Le 2H-MX2 (exemple MoS2) a une symétrie hexagonale avec
deux feuillets selon l’axe c et le groupe d’espace est D4 6h (P63/mmc).
Figure III.5: a) La structure 2H-MoS2 selon l’axe c [35].

b) Projection selon [001] de deux feuillets du polytype 2H. [30]
• Le polytype 3R
Dans le polytype 3R, de symétrie rhombohédrale C53v (R3m), chaque feuillet garde la même
orientation que le précédent mais est translaté dans la direction [2,1,0] de 1/3 de la constante
de réseau. Les anions se placent dans ce cas au-dessus des interstices du feuillet précédent et
les cations au-dessus des chalcogènes. Il faut trois feuillets pour obtenir la périodicité selon
l’axe c (Figure III.6).
59
Figure III.6: a) La structure 3R pour le MoS2 selon l’axe c. [35]

b) Projection selon [001] de deux feuiets du polytype 3R. [30]
La distance de répétition des feuillets selon l’axe c est semblable pour les deux polytypes,
pour le MoS2 elle vaut 0.615 nm. Dans les plans (002), les distances interatomiques X-X sont
égales aux constantes de réseau et valent a = b = 0.315 nm. Selon l’axe c, la constante de
réseau vaut 1.23 nm pour le polytype 2H et 18.45 nm pour le polytype 3R.
Les paramètres de maille des composés pour chaque structure sont listés dans le tableau.III.1
ci-dessous:
Tableau III.1 : Paramètres de maille des quatre composés étudiés pour chaque polytype
connu, d’après [36]
Composé polytype Paramètre a Paramètre Distance interfeuillet, plans de Densité

(A°) c vdw (A°) (g /cm3)
(A°)
MoS2 2H 3.160 12.294 6.147 4.96
3R 3.163 18.37 6.123 5.02
MoSe2 2H 3.288 12.903 6.451 6.9
3R 3.296 19.392 6.464
WS2 2H 3 .155 12.35 6.175 7.5
3R 3.162 18.35 6.117
WSe2 2H 3.286 12.976 6.488 9.2
60
III. 5. Les Propriétés optiques du MX2 (M = W, Mo; X = S, Se)

III.5.1. La structure de bande
Les dichalcogénures de métaux de transition sont des semiconducteurs
diamagnétiques, la structure électronique de ces composés indique que le haut de la bande
valence(VBM) correspond au états dz2 du métal Mo ou W (partiellement hybridés aux états p
(px,py) du chalcogène S ou Se) et le minimum de la bande de conduction (CBM) étant liée au
états dxy et dx2-y2 de celui-ci. (Figure III.7).
De nombreuses mesures d’optique ont été réalisées sur ces matériaux et il apparaît que deux
gaps électroniques existent : le premier est indirect, le second est direct.
Les propriétés de la structure de bande électronique de semi-conducteurs TMDCs dépendent
du nombre de couches le long de l’axe C dans le cristal, sachant que pour un matériau TMDC
multicouche on trouve une bande de gap interdite indirecte au point Γ de la zone de brillouin
et pour une épaisseur réduite à une seul couche (monocouche) on aura une transition de gap
d’indirect vers direct au point K de la zone de brillouin voir figure(III.8), cette transition de
gap est due à l’effet de confinement quantique.
Le gap change avec le changement de l’épaisseur de film de cristal selon l’équation:

∆ = ; où est l’épaisseur de film.

(Eq…………………III.1) [35]
Figure III.7 : La structure de bande électronique des dichacogénures de métaux de

transitions MX2 (M = W, Mo; X = S). [37][38]
61
Les transitions excitoniques directes au point K reste relativement inchangée avec le

changement de nombre de couche, ce qui est dû à l’effet du confinement quantique aussi
qu’au changement résultant de l'hybridation entre les orbitals Pz sur les atomes S et les
orbitales d sur les atomes Mo. Cependant, les états près du point Γ sont dus à des
combinaisons des orbitales Pz antiliante des atomes S et les orbitales d des atomes Mo et la
transition au point Γ est translatée de façon significative d'indirecte au directe.
Figure III.8: La structure de band des TMDCs. Les structures des bands sont calculées par
DFT (density functional theory) pour multicouche et monocouche de MoS2 (a) et WS2 (b)
[39] [40].
Tableau III.2 Bandes interdites indirectes (Egind) et directes (Egdir) pour les quatre composés
lamellaires étudiés dans notre travail à température ambiante. [41]
Matériau Bande interdite Bande interdite

Indirecte
[eV] directe
[eV]
WS2 1.3 2.04

MoS2 1.25 1.90
WSe2 1.2 1.70
MoSe2 1.2 1.58
62
III.5.2. Le spectre d’absorption, l’indice de réfraction et la transmittance

Tout comme le graphène, les propriétés physiques des dichalcogénures à base de
métaux de transitions (TMDC) changent de manière spectaculaire lorsque l’épaisseur du
matériau est réduite à une mono-couche (ML). Ainsi les semiconducteurs bidimensionnels de
la famille MoS2, MoSe2, WS2 et WSe2 possèdent un gap direct dans le spectre visible et
présentent une forte absorption optique (>10% / ML) [42]. Ils présentent un fort potentiel
pour les dispositifs électroniques (transistors) et l’optoélectronique (photodétecteurs, LED ou
cellules solaires).
Ces matériaux sont caractérisés par une bande d’énergie interdite indirecte de 1.1-1.3 eV et
des transitions directes dès 1.6-2.0 eV.
Aux transitions directes sont associées des excitons de Wannier (délocalisés) avec des
énergies de liaison de l’ordre de 50 à 100 meV [30]. Ces hautes énergies de liaison des
excitons impliquent que, même à température ambiante, les structures éxcitoniques sont
visibles dans les spectres des constantes optiques. La figure (III.9) montre l’indice de
réfraction n et le coefficient d’absorption α d’un monocristal de WS2 déterminés par
ellipsométrie. Les pics A et B sont associés à l’absorption excitonique. Au-dessus de 1.92 eV,
la valeur de α est supérieure à 107 m-1, ce qui signifie qu’au moins le 90% de l’intensité
lumineuse est absorbée sur 0.23 µm. Entre 1.5 et 3 eV, l’indice de réfraction n varie entre 3.5
et 5.
L’anisotropie cristalline des composés lamellaires entraîne une anisotropie des propriétés
optiques.
Figure.III.9. Coefficient d’absorption optique α et l’indice de réfraction n du WS2 à

température ambiante. n et α ont été déterminés par ellipsométrie sur un monocristal de WS2
[30]
63
Pour les semi-conducteurs avec une bande interdite directe des photons avec une énergie
supérieure à l'énergie de bande interdite peuvent être facilement absorbés ou émis. Par contre
pour ceux qui ont une bande de gap indirect, un phonon supplémentaire doit être absorbé ou
émise par souci de conservation de cristal, l'absorption de photons ou d'un processus
d'émission est beaucoup moins efficace.
La Figure ci- dessous présente des spectres photoluminescences de MX2 :
Figure III.10 : (a) :Le spectre de photoluminescence pour les différentes

épaisseurs de film MoS2 sur un substrat de Si/SiO2 excité avec un Laser d’une onde de
532nm. [39] et (b) : Le spectre de photoluminescence des monocouches de MoS2, MoSe2 et
WSe2 à température ambiante [43].
64
Figure III.11: Le spectre de transmittance optique d’une couche mince (few-layer) de MoS2
déposé sur un substrat de verre par la méthode spin-caoting et mesuré avec un spectroscope
optique d’une longueur d’onde de 300 à 2550 nm. [44]
On observe sur cette figure que la transmittance optique augmente d’une façon abrupte au
début de la région visible (Vis) à 400 nm, elle est plus remarquable autour de 550-750 nm, et
elle continue a augmenté dans la région proche-infrarouge(NIR) jusqu’au milieu infrarouge à
2750nm où elle atteinte la valeur la plus élevée. On observe aussi des intéressants coefficients
d’absorptions 89.1%, 91% et 91.3 % qui correspond respectivement aux longueurs d’ondes
1066, 1565 et 2032 nm.
III. 6. Propriétés électriques des TMDCs
Contrairement aux semiconducteurs utilisés couramment en microélectronique comme

le Si, le GaAs ou le Ge, il est difficile d’obtenir des données précises sur les paramètres-clés
des semiconducteurs lamellaires par exemple sur la mobilité intrinsèque, les possibilités de
dopage, les masses effectives,….Ceci est lié en partie à la difficulté de préparation des
monocristaux.
Même en utilisant des matériaux de base de même pureté nominale (à une pureté de
99,9999%) mais de sources différentes, il se peut que le type de dopage, la mobilité et la
conductivité des monocristaux obtenus soient complètement différents [37], c’est pour cette
raison que la maitrise des techniques d’élaboration de ces matériaux est nécessaire.
65
III.6.1. La conductivité et la mobilité

La structure cristalline anisotrope des composés lamellaires entraîne une anisotropie de la
conductivité et de la mobilité.
II.6.1.1. Le dopage des TMDCs

Le dopage dans les dichalcogénures de métaux de transition est en général une
réaction d'oxydoréduction qui consiste à introduire, par voie électrochimique ou chimique,
des espèces accepteuses (dopage de type p réalisé par des oxydants) ou donneuses d'électrons
(dopage de type n réalisé par des réducteurs) entre les couches des MX2 [45] de nature
semiconductrice.
Dans le cas particulier du MoS2 et WS2, il semble qu’un excès d’anions de soufre induise une
conductivité de type p alors qu’un manque de soufre se traduise par une conductivité de type
n. Il n’existe cependant pas de modèle qui prédise de manière fiable le type de dopage et les
concentrations de porteurs obtenus par addition d’éléments donnés lors de la croissance.
Même sans dopage intentionnel, les monocristaux sont généralement dopés (n ou p), avec des
concentrations de porteurs [30] de l’ordre de 1021 à 1024 m-3.
Tableau III.3 : les propriétés de transport électrique d’une structure hexagonale de MoS2 et
WS2 de type n et p. [33]
Materiau , , Ea S
(S cm-1) (cm-3) (cm2/Vs) (eV) (µV K-1)
n-WS2 25 1,2-2,4.1015 103-150 0,25
15
p-WS2 0,03-6,67 0,2-5,9.10 70-290 0,10
n-MoS2 0,6-7,9 ≈2.1017 2-200 0,07-0,16
p-MoS2 0,01-4,2 1,8-3,0.1017 86 0,015 360-580
A savoir est la conductivité électrique perpendiculaire à l’axe c, , c’est la densité

électronique des électrons et des trous, , est la mobilité des électrons et des trous, Ea est
l’énergie d’activation et S c’est le coefficient de seebek.
III.6.1.2. L’effet de dopage sur les porteurs de charges

La structure friable de ces matériaux due à la nature des liaisons chimiques entre les
feuillets [X-M-X] induit un fort couplage électron-phonon. Une charge introduite lors du
66
dopage provoque une déformation locale de la chaîne et crée un état localisé dans la bande
interdite; on parle alors de défauts chargés localisés.
En effet, ces quasis particules (défauts + charge) provoquent un désordre dans le
cristal. Ce désordre a pour effet la localisation des états électroniques particulièrement
drastique à basse dimension. Les causes du désordre sont multiples et se manifestent à
différentes échelles. On parlera de défauts homogènes lorsqu’on se place à l’échelle
moléculaire et de désordre hétérogène pour les échelles microscopiques et macroscopiques
[45]. L'organisation du matériau, donc la quantité et le type de défauts rencontrés, est
déterminante quant aux propriétés de la conduction. Le mode de synthèse chimique et la mise
en forme interviennent de façon critique dans l'existence de l’ordre au sein des MX2.
La structure cristalline anisotrope des composés lamellaires entraîne une anisotropie de la

conductivité et de la mobilité. Les rapports mesurés d’anisotropie parfois très élevés sont à
mettre sur le compte de défauts d’empilement et sur leur pouvoir de diffusion des porteurs.
Les anisotropies élevées mesurées sur certains monocristaux sont par conséquent de nature
extrinsèque. Par exemple, à la création de défauts lors de la manipulation des échantillons.
III.6.1.3. Les effets de défauts sur les propriétés physiques

Dans les matériaux que nous étudions dans notre travail ils existent inévitablement
des défauts dont l’origine est assez variée. Les irradiations provoquent de nombreux
déplacements d’atomes dans le cristal. A chaque site vacant correspond un atome interstitiel
situé dans une lacune de Van der Waals : ce sont des défauts de Frenkel. Le désordre ainsi
introduit, provoque une modification importante des propriétés physiques de ces matériaux.
Les conditions locales d’écrantage autour d’un défaut modifient la répartition électronique et
affectent l’onde de densité de charge. Au-delà d’une densité critique de défauts, les transitions
de phase disparaissent et il ne subsiste plus qu’une phase incommensurable, correspondant à
une structure désordonnée.
Un autre type de défauts est obtenu par dopage ou substitution. Nous rappelons les principaux
résultats :
- La création de défauts dans les sous-réseaux des anions, par exemple en remplaçant
une partie des atomes du sélénium par des atomes de soufre. Ceci ne supprime pas ces
transitions de phase.
67
- Hormis les défauts obtenus par substitution, les techniques utilisées pour la création
de défauts comme l’irradiation par les neutrons et l’irradiation par les électrons de très haute
énergie. Ces irradiations présentent des avantages intéressants : homogénéités des défauts
créés, et des concentrations en défauts contrôlés, mais lorsqu’elles sont très faibles.
Par irradiation avec des particules de haute énergie, des lacunes se créent dans les plans
d’atomes du métal de transition et se logent dans les lacunes de Van der Waals entre les
feuillets. Dans ce cas 1% [45] d’atomes déplacés suffisent pour détruire les transitions de
phase.
Ceci montre l’importance de la nature des défauts créés. L’onde de densité de charge est
beaucoup plus affectée, en raison de la grande influence du défaut sur le système électronique.
III.6.2. La longueur de diffusion et la Duré de vie
Il existe peu de données sur les longueurs de diffusion LD et les temps de vie τ dans les
semiconducteurs MX2 (M = Mo, W, X = S, Se). Des longueurs de diffusion typique ont
comme ordre de grandeur LD⊥c = 10-200 µm dans le WS2 le long des feuillets et de quelques
micromètres perpendiculairement aux feuillets.
Des temps de vie de l’ordre de 10-6 s [60] ont été mesurés sur des cristaux de WSe2. Les
phénomènes de piégeage et de relâchement de porteurs induisant des longs temps de réponse
ont été observés dans des mesures de photoconductivité sur MoS2 ou sur des poudres pressées
de MoS2.
III.7. Les propriétés mécaniques et chimiques
Les matériaux lamellaire MX2 (M = Mo, W, X = S, Se) sont utilisés depuis longtemps
comme lubrifiants solide, ils présentent des bonnes propriétés pour réduire les frottements grâce
au clivage facile entre les feuillets. Néanmoins l’environnement dans lequel sont utilisées les
couches de ces derniers matériaux influe sur leur performance. Ainsi, dans le cas d’un contact
entre deux surfaces métalliques lubrifiées par un revêtement de MoS2, le coefficient de
frottement augmente avec l’humidité jusqu’à 65% RH, puis diminue ensuite [46]. Une
augmentation de la pression de contact ou de la vitesse entraîne une diminution du coefficient
de frottement. En effet, à pression ou vitesse élevée, il y aurait échauffement dans le contact
68
entraînant une évaporation d’eau présente entre les films de MoS2. La durabilité du film est
donc largement contrôlée par le taux d’humidité.
L’augmentation du coefficient de frottement avec l’humidité est généralement attribuée à la

formation d’hydroxydes ou d’oxydes de molybdène (MoO3) ou de tungstène (WO3).
On peut également envisager que les molécules d’eau réagissent avec les liaisons pendantes
des bords des cristallites, gênant ainsi le mouvement relatif entre les feuillets ou leur rotation
dans le contact.
Concernant les propriétés chimiques ces matériaux sont stable chimiquement et à une
résistance active à la photocorrosion [60].
Autre propriétés sont présentées dans le tableau suivant :
Tableau III. 4 : Bande de gap direct, la masse effective des électrons, constante diélectrique
pour une monocouche de MX2 [47]
MX2 Bande de gap me* /me Dielectric Constant

[ev]
MoS2 1.8 0.56 4.8
MoSe2 1.51 0.62 6.9
WS2 1.93 0.33 4.4
WSe2 1.62 0.35 4.5
III.8. Techniques d’élaboration des MX2 sous forme de couche mince
Une couche mince d’un matériau est un élément de ce même matériau dont
l’épaisseur, qui est l’une des dimensions, a été vigoureusement réduite de façon à être
exprimée usuellement en nanomètre.
Les couches minces sont actuellement utilisées dans de nombreux domaines tels que l’optique
(couches anti-reflets, miroires…), l’électronique (transistors, capteurs solaire…), la
mécanique (couches résistant à l’érosion ou à l’usure, couches dures pour outils de coupe…),
la chimie (couches anti-corrosion…) et la décoration (bijouterie, lunetterie…).
Les couches minces peuvent être élaborés suivant deux procédés ; physique et chimique. La
classification des techniques de déposition est présentée sur le tableau ci-dessous :
69
Tableau III.5 : Classification des procédés de dépôt de couche mince [48]

Techniques générales pour une couche mince
Procédé physique (PVD) Procédé chimique
En milieu vide En milieu plasma En milieu de gaz En milieu liquide
poussé Pulvérisation réactif -Spray pyrolyse
Evaporation sous cathodique Dépôt chimique en -Déposition par bain
vide phase vapeur (CVD) chimique.
- sol-gel
III.8.1. Dépôt physique en phase vapeur (PVD)

Les dépôts physiques en phase vapeur consistent à utiliser des vapeurs du matériau à
déposer pour réaliser un dépôt sur un substrat. Le transport des vapeurs de la source au
substrat nécessite un vide assez poussé de (10-5 à 10-10 Pa) afin d’éviter la formation de
poudre ou toute forme de pollution.
III.8.1.1. Dépôt par évaporation sous vide

Cette technique consiste à évaporer le matériau à déposer en le portant à une
température suffisante. Dés que la température de liquéfaction est dépassée, il se trouve que la
pression du matériau est sensiblement supérieure à celle résiduelle dans l’enceinte. Alors des
atomes du matériau s’échappent et se propagent en ligne droite jusqu’à ce qu’ils rencontrent
un obstacle.
Cette rencontre peut être le fait soit d’une surface solide (substrat, paroi de l’enceinte) soit
d’un atome ou d’une molécule se déplaçant dans l’espace. Dans le cas de rencontre d’une
surface, il y aura séjour de l’atome sur la surface avec échange d’énergie et si la surface est
sensiblement plus froide que l’atome il y’a condensation définitive. Le schéma de principe est
présenté sur la figure III.12, le système d’évaporation sous vide est composé de :
• Une chambre de dépôt : qui est une simple enceinte en verre ou en acier inox à joint
étanche, capable de résister aux grandes différences de pression. La chambre doit
pouvoir être chauffée à 50°C quand elle est ouverte à l’atmosphère pour éviter la
condensation de vapeur d’eau.
70
• Un système de pompage :le vide poussé sera obtenu en deux étapes une étape dite
pompage primaire » à palette qui exploitera un principe de pompage mécanique et
conduira à des pressions réduites de l’ordre de 10-2 Pa et suivie d’une étape de «
pompage secondaire » à diffusion d’huile amenant l’enceinte à des très basses
pressions (10-5 jusqu’à 10-10 Pa) munie d’un piége à azote liquide pour éviter la
contamination de la chambre par des vapeurs d’huile.
• Un système de chauffage : qui se constitue d’une source de chauffage et d’un creuset

pour déposer le matériau à évaporer.
La procédure de chauffage du matériau à évaporer peut être réalisée de plusieurs façons qui
seront choisies en général en fonction de critères de qualité du résultat attendu.
Figure III.12 : Schéma descriptif d’un système d’évaporation sous vide
On note fréquemment l’emploi d’un creuset chauffé par effet Joule, limité aux
matériaux s’évaporant à relativement basse température. Une seconde technique consiste à
utiliser un canon à électron à déflexion électromagnétique permettant en théorie l’évaporation
de tout matériau sans risque de pollution par le support. Une troisième technique plus récente
utilise un faisceau laser focalisé sur le matériau à évaporer. La méthode consiste à diriger un
faisceau laser pulsé, généralement les radiations laser sont dans l’UV, sur une cible constituée
du matériau à déposer ; au contact de ce faisceau, de la matière va s'arracher pour venir se
déposer sur le substrat placé en face de l'impact laser.
71
III.8.1.2. Dépôt par pulvérisation cathodique (en milieu plasma)

La pulvérisation cathodique est un procédé de dépôt utilisant un plasma froid
luminescent dans un gaz sous pression réduite pour vaporiser un solide. La pulvérisation est
basée sur l’érosion du matériau par les ions produits par la décharge luminescente des gaz
rares ; les ions Ar+ sont les plus communément utilisés. Comme le solide à déposer passe en
phase vapeur à la suite d’un processus mécanique (transfert d’énergie des ions incident vers
les atomes de surface au moment de la collision) plutôt que par un processus chimique, les
matériaux simple ou composé, conducteur ou diélectrique peuvent être déposés par cette
technique. Trois éléments essentiels constituent une installation de pulvérisation classique :
Une enceinte de dépôt équipée pour la pulvérisation.
Un système de pompage (primaire et secondaire) permettant une pression avant dépôt
inférieur ou égale à 10-4 Pa.
Un générateur de courant haute tension continu ou radiofréquence.
Le solide à déposer se présente sous la forme d’un disque de quelques millimètres
d’épaisseur, appelé cible; est soumise à un bombardement par des particules énergiques. La
cible est fixée sur une électrode refroidie par circulation d’eau (la cathode), qui est reliée à la
borne négative du générateur. Parallèlement à la cible et à quelques centimètres de celle-ci, se
trouve une seconde électrode (l’anode) utilisée en tant que porte substrat et connectée à la
masse. Le dispositif de pulvérisation cathodique est décrit sur la figure III.13.
Le principe de la pulvérisation cathodique est le suivant. Après avoir réalisé un vide poussé
10-4 Pa dans l’enceinte, un gaz (essentiellement l’Argon) est introduit dans cette dernière de
sorte que la pression atteigne environ 10-1 Pa. Le matériau à pulvériser que l’on appelle alors
cible, est polarisé négativement, ce qui permet d’amorcer une décharge électrique. Cette
polarisation est continue lorsque la cible est conductrice, par contre, elle est alternative
lorsque cette dernière est isolante. Le milieu ionisé ainsi crée contient des ions énergétiques
qui bombardent la cible et par conséquent la pulvérisent. Les particules pulvérisées diffusent
dans toute l’enceinte, et sur le substrat, et sur lequel formant une couche mince.
a- pulvérisation cathodique en courant continu

La cathode sur laquelle le matériau à pulvériser est fixé, est reliée au pôle négatif d’un
générateur de tension. L’anode, sur laquelle se trouve le substrat, est reliée à la masse. La
tension appliquée au cours de la pulvérisation en courant continu est une tension continue de
72
l’ordre de 3 à 5 KV. Cette méthode est généralement utilisée pour des dépôts de couches
métalliques ou semiconductrices. Au cours du dépôt, la cible se charge positivement sous
l’impact des ions positifs, si cette dernière est isolante, la charge positive qui y paraît ne peut
s’écouler. Par conséquent le plasma s’éteint et le dépôt ne peut se produire. Ce qui explique la
restriction de l’utilisation de la pulvérisation en courant continu pour les dépôts de couches
conductrices.
Figure III.13 : Bâti de dépôt par pulvérisation cathotique.
b- Pulvérisation radiofréquence (RF)

Le problème rencontré dans le cas d’une cible isolante dans la pulvérisation en courant
continu, peut être évité si la tension appliquée aux bornes des électrodes est alternative à
fréquence élevée, la fréquence du signal utilisé en mode RF est de 13,56 MHz. Lors de
l’alternance négative du signal, les ions sont attirés vers la cathode (cible), au cours de
l’alternance positive suivante, ce sont les électrons qui vont être attirés à leur tour vers la
cible, neutralisant ainsi la charge positive sur la cible qui est apparue au cours de la
précédente alternance.
III.8.2. Techniques de dépôt par voie Chimique

Les techniques de dépôt chimique en milieu de gaz réactif CVD (Chemical Vapor
Deposition) ou en milieu liquide CDS (Chemical Solution Deposition) permettent de réaliser
des dépôts à partir de précurseurs qui réagissent chimiquement pour former un film solide
déposé sur un substrat.
73
III.8.2.1.Dépôt en milieu de gaz réactif (CVD)

Le dépôt en phase vapeur chimique CVD (Chemical Vapor Deposition) est une
méthode dans laquelle les constituants d’une phase gazeuse réagissent pour former un film
solide déposé sur un substrat. Les composés volatils du matériau à déposer sont
éventuellement dilués dans un gaz porteur et introduits dans une enceinte où sont placés les
substrats. Le film est obtenu par réaction chimique entre la phase vapeur au niveau du substrat
chauffé. La réaction chimique détermine la nature, le type et les espèces présentes.
• La sulfurisation de MoS2 et le WS2 par la techniques CVD

Le principe de cette technique est que la couche mince de MoS2 est obtenue par
sulfurisation de poudre de MoO3 pure à (99,99%) en utilisant la technique de la CVD à haute
température.
Dans un tube en quartz une quantité de10mg de poudre de MoO3 pure est mise au centre de la
zone à chauffé avec une quantité de 0.15-0.20 g de sulfure (S) en poudre pure à (99,99%)
posé à l’un des cotés du tube en quartz situé à une distance de 10-20 cm du MoO3 .Dans
l’autre coté du tube un substrat de SiO2/Si d’une épaisseur de 300 nm est placé afin de
recevoir le dépôt de la couche mince de MoS2. En suite le tube en quartz est chauffé à une
température de l’ordre de 650°C sous un environnement de Nitrogène [37].
Sous l’effet de la haute température le MoO3 se transforme en MoO3-x, cet oxyde se diffuse
vers le substrat grâce au flux de Nitrogène et réagie avec la vapeur de sulfure et donne ainsi
naissance à une couche mince de MoS2 de l’ordre du nanomètre.
Figure III.14 : Illustration d’un schéma de synthèses d’une couche mince par la sulfurisations
de MoOx via la méthode CVD. [37]
74
Cette technique est basée sur le même principe pour l’obtention des couches minces de WS2 à
part l’utilisation WO3 comme source de tungstène [49].
Et pour l’obtention de couches minces de MoSe2, WSe2 on parlera de sélénisation au lieu de
sulfurisation. [50] [51].
III.8.2.2. Dépôt en milieu liquide
a- Dépôt par spray pyrolyse

Le spray pyrolyse est une technique de dépôt utilisée pour préparer les films minces et épais.
A la différence de beaucoup d’autres techniques de dépôt de film, le spray pyrolyse représente
une méthode très simple, n’exige pas de produits chimiques de haute qualité. Cette méthode a
été utilisée pour le dépôt des films denses et poreux. Même des films multicouches peuvent
être facilement préparés en utilisant cette technique. L’équipement typique du spray pyrolyse
se compose d’un atomiseur, une solution de précurseur, réchauffeur de substrat et un
régulateur de température. Les atomiseurs ultrasoniques sont utilisés dans la technique de
spray pyrolyse. Dans un atomiseur ultrasonique les fréquences ultrasoniques produisent les
ondes courtes nécessaires pour l’atomisation fine.
Le dépôt de couches minces par la technique spray pyrolyse se traduit par la pulvérisation
d’une solution d’un sel de métal sur un substrat chauffé (Figure III.15). Les gouttelettes
arrivant sur le substrat conduisent à la formation d’un dépôt après décomposition et réaction
chimique en surface.
Figure III.15 : Schéma synoptique d’un équipement de dépôt par spray pyrolyse
75
b- Dépôt par bain chimique

Le dépôt par bain chimique (Chemical Bath Deposition ; CBD) se rapporte au dépôt des films
sur un substrat solide par une réaction produite dans une solution aqueuse. Le dépôt par bain
chimique peut se produire de deux façons selon le mécanisme de dépôt : par nucléation
homogène en solution ou par hétéronucléation sur un substrat. Dans la nucléation hétérogène,
les particules, ou même les ions individuels, peuvent adsorber sur le substrat.
L'énergie exigée pour former une interface entre les particules et le substrat solide est souvent
inférieure à celle exigée pour la nucléation homogène. La nucléation hétérogène est donc
énergétiquement préférée à la nucléation homogène.
c-Méthode de sol gel

Le principe de base du procédé sol-gel (correspondant à l’abréviation de « solution
gélification » est le suivant: Une solution à base de précurseurs en phase liquide, se
transforme en un solide par un ensemble de réactions chimiques de type polymérisation à
température ambiante. Le processus sol-gel comprend trois étapes :
- Préparation de la solution de déposition.
- Formation des couches minces par la méthode de trempage ou bien par la méthode de
tournette.
- Traitement thermique.
Dans le cas des couches minces, plusieurs types de procédés sont utilisés pour former les
films minces de MX2, les plus utilisés sont :
La méthode de trempage ou "Dip coating"
La méthode de tournette ou "Spin coating"
• La méthode de trempage ou "Dip coating"

Le principe est de plonger le substrat dans une solution contenant le précurseur. Après
chaque trempage, le substrat est séché et recuit sous air ou sous atmosphère d'oxygène, ces
deux opérations (trempage et recuit) sont répétées plusieurs fois afin d'obtenir des couches
épaisses. Finalement, les échantillons sont recuits sous Argon à 550 °C ou sous hydrogène
afin d’étudier l’effet de ce recuit sur les propriétés de photocatalyse [34].
76
Figure III.16: Schéma représentant le principe de préparation de film mince par la méthode
de trempage.
• La méthode de tournette ou "Spin coating"
La méthode est basée sur le même principe que la précédente, sauf que la solution
contenant le précurseur tombe goutte à gouttes sur un substrat en rotation sur un support.
Figure III.17: Schéma représentant le principe de préparation de film mince par La méthode
de tournette
III.9. Les techniques de caractérisations
Pour des études approfondies et détaillées des couches minces du bisulfure de

molybdène et de tungstène et leur disélinure, plusieurs méthodes de caractérisation peuvent
être utilisées.
III.9.1. Caractérisations structurale et morphologique des TMDCs (MX2)

III.9.1.1. Diffraction de rayons X (DRX)
L’outil principal utilisé, pour la détermination de la cristallinité des matériaux, est la
diffraction des rayons X (DRX). Lorsqu’un faisceau de rayon X frappe un cristal (solide
ordonné), sous un angle ɵ (figure.III.18), l’interaction des rayons X avec la matière entraîne
une diffusion cohérente laquelle est caractérisée par le fait que le champ électromagnétique
77
des rayons X incidents fait vibrer les électrons des atomes du cristal. Chaque atome devient
alors une source de rayons de même longueur d’onde que les rayons X incidents.
Figure III.18 : Géométrie pour la diffraction des rayons X.
Les ondes diffractées à partir de différents plans d’atomes s’interfèrent entre elles et donnent
un diagramme de diffraction. Les atomes qui sont arrangés d’une manière périodique donnent
des figures de diffraction avec des maxima d’interférence fins dits pics de diffraction.
Les pics de diffraction sont reliés aux dimensions de la maille élémentaire. Un pic de
diffraction apparaît si la loi de Bragg est vérifiée. Cette loi relie la distance dhkl entre les plans
cristallins parallèles, la longueur d’onde des rayons X et l’angle ɵ par
2 ! = " (Eq ………………………..III.2)

n=1,2………………ordre de diffraction
La résolution structurale consiste à déterminer les positions atomiques dans la maille et cela à
partir de la mesure des intensités diffractées ; ainsi, on peut décrire la façon dont les atomes
sont arrangés et le lien qui existe entre eux à l’aide de différentes considérations que l’on peut
faire à partir des distances inter atomiques et des angles de valence.
Le diffractogramme est un enregistrement de l’intensité diffractée en fonction de l’angle 2ɵ
formé avec le faisceau direct (figure.III.19). L’étude du diffractogramme permet de remonter
à un grand nombre d’informations sur les caractéristiques structurelles de l’échantillon.
78
Les positions angulaires des pics de diffraction sont les caractéristiques des paramètres du
réseau cristallin. L’étude des positions des pics de diffraction permet donc de remonter au
réseau cristallin de chacune des phases cristallisées de l’échantillon. Une fois le réseau
déterminé, les positions angulaires des pics permettent de calculer les distances
interréticulaires des plans atomiques diffractant et d’accéder ainsi aux paramètres de la maille.
Figure III.19 : Schéma de principe d’un diffractogramme
Les positions et les intensités des pics de diffraction de la plupart des matériaux connus ont
été étudiées et elles sont répertoriées dans des bases de données. L’analyse des spectres de
diffraction des rayons X permet d’obtenir les informations suivantes :
Les phases cristallines (positions des pics)
La finesse du pic renseigne sur la qualité cristalline.
Le nombre de pics donne des indications sur le caractère mono ou polycristallin.
La largeur à mi-hauteur des pics permet de mesurer la taille des grains.
a-Diagrammes de diffraction des RX d’un film de WS2

Un film de disulfure de tungstène est caractérisé avec un diffractomètre des RX (Philips PW-
1710),2! varie de 10 à 80° [52].
Sur le diffractogramme de la figure III.20 on remarque que suivant la direction (002) le pic
de diffraction des rayons X est très fin et de hauteur assez importante ce qui signifie que les
couches minces de WS2 sont cristallines.
79
On observe aussi un grand nombre de pics accompagnés au plan (002) qui sont (101), (006),
(110), (114), (116), ce grand nombre de pics indique que le film de WS2 est polycristallin.
Figure III.20 : Diffractogramme d’un échantillon de film de WS2 [52]
La taille de filme de WS2 est calculée à l’aide de pic le plus intense (002) qui est égale à
37nm.
b-Diagrammes de diffraction des RX d’un film de MoS2
Figure III.21 : Diagrammes de diffraction des RX d’un film de MoS2 [53]
Le Diagrammes de diffraction des RX d’un film de MoS2 de la figure III.21 présente quatre
pics de difractions de fortes intensités à 13.4°, 28.3°, 33°et 37.7 qui correspondent
respectivement aux plans (002), (004), (100), et (110).
80
III.9.1.2. Spectroscopie Raman

La spectroscopie Raman est une technique de caractérisation structurale très utilisée
pour l’analyse des solides, de couches minces et des solutions.
Lorsqu’ un échantillon est excité par un rayonnement Laser monochromatique, la plus grande
partie des photons incidents le traverse sans perturbation de l’énergie, c’est l’effet Rayleigh
(diffusion élastique), la lumière est diffusée à la même fréquence υ0 que la radiation
incidente). Cependant, quelques photons échangent de l’énergie avec le système et sont alors
diffusés inélastiquement: c’est l’effet Raman. Le photon émis dans ce cas possède donc une
énergie qui diffère d’une quantité discrète de celle du photon incident. Dans cet effet on
trouve deux processus:
- Si la fréquence du photon diffusé est inférieure à celle du photon incident (υ0), il y a
gain d’énergie vibrationnelle pour la molécule (et perte d’énergie pour le photon) : on
parle de processus Stokes.
- Si au contraire le photon incident est diffusé à une fréquence υ0+υ, il y a perte
d’énergie vibrationnelle pour la molécule (et gain d’énergie pour le photon) : on parle
de processus anti-Stokes.
Cette variation d’énergie, correspondant aux quantas d’énergie associés à la vibration ou à la
rotation des molécules considérées est traduit en spectre de raies. On étudie en général les
raies de stockes, car le processus anti-stockes étant moins fréquent, les raies associés sont
moins intenses (Figure III.22).
Figure III.22 : Spectre Raman où les processus Stokes et anti-Stokes sont représentés par des
raies de diffusion. La raie Rayleigh correspond au cas des diffusions quasi-élastiques [54].
Les informations tirées d’un spectre Raman sont multiples (voir Figure III.23) :
81
La position des raies renseigne sur les espèces chimiques en présence dans
l’échantillon,
La largeur des pics à mi-hauteur fournie des informations sur la structure de
l’échantillon,
L’intensité d’un pic peut être reliée à la concentration de l’espèce,
Le déplacement des pics est fonction de l’état de contrainte et/ou de la température.
Figure III.23: Informations qualitatives et quantitatives fournies

par une raie Raman [54]
• Le spectre Raman des quatre matéiaux étudiés
La visualisation des échontillons des quatre matéiaux étudiés avec un spectroscopie Raman
montre deux modes actifs le mode E12g et A1g.
82
Figure III. 24 : Le spectre Raman en fonction de nombre des couches de (a) WS2 [54], (b)
MoSe2, (c) WSe2 [54] et (d) MoS2 [40] .e-Illustration des modes E12g au borde des feuillets
et le mode A1g des plans basaux (couches externes) [40]. f - en noire : Les modes E12g et
A1g en fonction de l’épaisseur de MoS2et en rouge : la différence de fréquence ente les deux
modes [40].
Pour un nombre croissante de couche de MoS2 les pics Raman sont assoocés au modes E12g
et A1g qui sont observés au tour de 320 cm-1 et au tour de 406 cm-1 réspectivement Figure(d),
83
une telle dépondance de pics avec le nombre de couche nous offre une methode effective pour
la détermination de nombre de couches de MX2.
Pour un nombre croissante de couches on ovserve une augmentation de fréquence au mode
A1g , tendis qu’au mode E12g on observe la diminution de la fréquence Figure (f).
Principalement le changement observé dans MX2 en deux modes sa revient au vébration des
atomes M et X, tel que pour le MoS2 les vébration des atomes Mo et S au mode E12g sont
limités au plan horizontal,alors qu’au mode A1g les atomes S se deplacent le long de plan
vertical Figure(e).
III.9.1.3. Microscopie électronique à Transmission MET

La microscopie électronique à transmission (MET) est un outil indispensable pour la
caractérisation structurale des nanotubes et nanofils. Cette technique permet l’observation à
l’échelle atomique de ces nano-structures et la caractérisation de leur morphologie (nombres
de feuillets, défauts.). Elle permet également d’analyser de manière locale l’environnement
chimique des éléments qui les constituent. Dans le paragraphe ci-dessous nous décrirons les
principes de l’imagerie par MET et de l’analyse par spectroscopie de perte d’énergie des
électrons.
• Appareillage et modes de formation des images

Les limites de résolution de la microscopie sont données approximativement par la longueur
d’onde du rayonnement utilisé. Dans son principe de fonctionnement, le MET est similaire à
un microscope optique traditionnel. Les différences essentielles proviennent de la nature du
faisceau. En effet, l’observation d’objets de dimensions nanométriques et subnanométriques
nécessite l’utilisation d’un faisceau de taille égale ou inférieure, de ce fait si nous voulons
observer des objets nano ou subnanométrique nous devons utiliser des rayons X. Or il n’existe
pas de lentilles adaptées pour les rayons X. Le comportement ondulatoire des électrons qui
possèdent une longueur d’onde " = ℎ⁄$% ~0,03 Å, inférieure aux distances interatomiques
~1 Å constituent le principe du MET. Le premier microscope électronique fut conçu en 1931.
Sa résolution correcte (quelques dizaines de nm) et son inventeur Ernst Ruska furent
récompensés du prix Nobel en 1986.
Les différents éléments qui constituent le MET sont présentés à la figure suivante :
84
Figure III.25: Schéma fonctionnel d'un MET
1:Canon à électron. 2: Anode. 3: Système de condenseurs. 4:Diaphragme condenseur.

5: Objet mince. 6: Objectif. 7: Diaphragme objectif. 8:Plan image de l'objectif. 9:Lentilles de
projection. 10:Ecran fluorescent d'observation. 11: Pompe à vide.
Le MET comprend un canon à électrons et un ensemble de lentilles dont les fonctions sont
analogues à celles d'un microscope optique. Similairement à la source d'électron des MEB, le
MET peut avoir une source d'électrons thermique ou une source d'électrons à effet de champ.
A la suite du canon, on trouve un système de condenseurs qui ont pour rôle de changer la
densité de courant électronique tombant sur l'objet et l'ouverture du faisceau sous laquelle un
point de l'objet est éclairé. Dans la majorité des microscopes, on utilise des lentilles
électromagnétiques alimentées par un courant stabilisé. Le système comprenant 2 à 4 lentilles
conditionne ainsi le mode d'éclairement de l'objet.
85
Figure III.26: Images TEM de couches minces de MoS2 élaborées par (CVD) et
hydrothermalisation. c) Image TEM haute résolution de couches minces de MoS2 élaborées
par le procédé hydrothermique. d,e)Images de couches minces de WS2 élaborées
respectivement par la méthode d’intercalation (méthode d’exfoliations assistée par solvant)
et par la méthode (CVD). [39]
III.9.1.4. Microscopie Electronique à Balayage (MEB)

Le principe général des microscopie électroniques conciste à envoyer un faisceau d’électrons
qui interagit avec l’échontion (FigureIII.27). En réponse, l’échontillon examiné renvoie
plusieurs rayonnements spécifiques qui sont détectés et analysés selon la technique choisie.
86
Figure III .27: a/ Principe du MEB – b/ JOEL JSM-5900 LV. [55]
Le principe de fonctionnement du MEB est basé sur l’intéraction

rayonnement /matière. En effet, quand un faisceau d’électrons incident interagit avec la
surface de l’objet à analyser divers phénomènes se produisent : diffusion et diffraction
d’électons, émission d’électrons secondaires, d’électrons rétrodiffusés, d’électrons Auger, de
photons X,…Si on assosie à chaque type d’émission le détecteur correspondant, une grande
diversité d’informations sur l’échantillon peut être obtenue. L’optique électronique et la
courte longureur d’onde du faisceau permettent l’obtention des images avec une grande
résolution (ordre de grandeur 4 nm) et une bonne profondeur de champ.
La production du faisceau d’électrons se fait dans un canon à électrons par effet

thermoélectronique à partir d’un filament de tungstène porté à une température de l’ordre de
3000°C.
Les électrons produits sont accélérés grâce à une tension appliquée entre le canon à situent
entre 0 et 30 kV. Des bobines électromagnétiques et des diaphragmes assurent le guidage, la
focalisation et le balayage du faisceau jusqu’à la surface de l’échontillon.
Les électrons secondaires et rétrodiffusés sont récoltés chacun par leur détecteur respectif. Le
signal est modulé par une chaîne électronique et synchronisé avec le balayage d’un tube
cathodique.
L’opération se déroule sous un vide se situant entre 10-4 et 10-5 Pa constamment maintenu
dans la colonne et la chambre d’analyse afin d’éviter tous risques de contamination de
87
l’enceinte, d’oxydation de la source ou de l’échontillon et pour éviter les collisions qui

peuvent se produire entre électrons et particules de l’air (phénomène de freinage). Les
échontillons ne nécessitent pas de préparation spécifique mais le dépôt de film conducteur
d’or ou de carbone s’impose lorsque l’on veut observer des échontillons diélectrique.
La préparation des échontillons se réduit à un nettoyage à l’éthanol éventuellement dans un

bain d’ultrasons. Dans le cas de matériaux diélectriques, la recherche d’une imagerie de
grande qualité se fera après évaporation d’une couche d’or ou de carbone. Par ailleurs, le
fonctionnement en mode « vide partiel » permet d’obtenir une très bonne qualité d’image sans
application d’aucun revêtement spécifique et autorise ainsi l’analyse des surfaces.
III.9.2. Mesure optique

III.9.2.1. La photoluminesence
La spectroscopie de photoluminescence (PL) est une technique optique permettant de
caractériser les semi-conducteurs et les matériaux isolants. Son principe est basé sur
l’excitation des électrons par une source radiative monochromatique de faible longueur
d’onde de type laser ou autres lampes. Le spectre émis en retour par cette excitation radiative
est appelé phénomène de photoluminescence.
• Principe physique
Dans la spectroscopie de photoluminescence, les photons sont dirigés sur la surface du

semiconducteur avec une énergie plus élevée que l’énergie du gap du matériau étudié. Les
photons incidents monochromatiques de la source laser, sont soit réfléchis, soit absorbés ou
encore transmis par le matériau. Les photons ainsi absorbés créent des pairs électrons-trous
dans le semi-conducteur.
En effet, l’électron absorbant le photon incident passe de la bande de valence à la bande de
conduction. Quand l’électron perd son énergie par recombinaisons radiatives et se recombine
avec le trou, les photons émis composent le spectre de photoluminescence. Les différentes
longueurs d’onde composant ce spectre reflètent les différents niveaux d’énergie de
transitions autorisées dans le matériau. Par conséquent, le spectre PL donne des informations
sur la nature des défauts comme des lacunes, des atomes interstitiels ou des impuretés dans le
réseau.
88
III.9.2.2. Spectroscopie d’ablation UV-Visible

La spectroscopie ultraviolet-visible ou spectrométrie ultraviolet-visible est une
technique de spectroscopie mettant en jeu les photons dont les longueurs d'onde sont dans le
domaine de l'ultraviolet (200 nm – 400 nm), du visible (400 nm – 750 nm) ou du proche
infrarouge (750 nm -1 400 nm). Soumis à un rayonnement dans cette gamme de longueurs
d'onde, les molécules, les ions ou les complexes sont susceptibles de subir une ou plusieurs
transitions électronique(s). Les substrats analysés sont le plus souvent en solution, mais
peuvent également être en phase gazeuse et plus rarement à l'état solide.
À partir du spectre d'absorption, il est possible de calculer la valeur de l'énergie de la bande

interdite d'un semi-conducteur à transition directe ou indirecte, Eg (eV), en utilisant
l'équation :
01
αhυ = A(hυ − E.)
(Eq……………………..III.2) [56]
Où α est le coefficient d'absorption (cm-1), hʋ est l'énergie des photons incidents (eV), A est
une constante, h est la constante de Planck et n est un facteur associé au type de transition (n=
1 pour une transition directe; n = 4 pour une transition indirecte).
Le spectrophotomètre UV-visible Il mesure aussi l'intensité de la lumière (I) passant au

travers d'un échantillon et la compare à l'intensité de la lumière passant dans un échantillon de
référence contenant le même solvant que celui utilisé pour l'échantillon, dans une cuve
I
identique (I0). Le rapport I , appelé transmittance T, est habituellement exprimé en
0
pourcentage (%). L'absorbance, A, est exprimée à partir de la transmittance :
4 = − log(8)
89
Figure III.28 : Un schéma de principe d'un spectromètre d'absorption UV- visible double
faisceau.
Les éléments de base d’un spectromètre UV-visible suivants :
• Source:
Le rôle de la source est de fournir la radiation lumineuse.
Dans la région de l’UV (190 à 400 nm), la source est une lampe à décharge au deutérium.
Une lampe à filament de tungstène est utilisée pour la région allant de 350 à 800 nm.
• Monochromateur :
Le monochromateur a pour rôle de disperser le rayonnement polychromatique provenant de la
source et d’obtenir des radiations monochromatiques.
Les monochromateurs les plus utilisés sont composés en général d'une fente d'entrée, d'un
dispositif de dispersion comme un prisme ou un réseau et d'une fente de sortie.
L'échantillon et le détecteur, placés juste derrière le monochromateur, ne seront donc traversés
que par un domaine étroit de longueurs d'onde.
• Diviseur de faisceau ou photomètre :

La lumière monochromatique qui émerge du monochromateur est séparée en deux faisceaux
qui traversent les compartiments de l’échantillon et de la référence.
• Détecteur :
Le détecteur est un tube photomultiplicateur qui convertit la lumière reçue en courant. Ce type
de détecteurs est de plus en plus remplacé par des photodiodes (semi-conducteurs) plus
sensibles.
90
Le détecteur est relié à un enregistreur qui permet de tracer un spectre d’absorption de

l’échantillon analysé.
Remarque : En UV-visible, le porte-échantillon est placé à la sortie du monochromateur, et

non après la source, afin d’éviter de détériorer l’échantillon avec le rayonnement UV
provenant de la source.
III.9.2.3. Ellipsométrie
L’ellipsométrie est une technique optique leur principe est basé sur la mesure de la
variation de l’´etat de polarisation de la lumière après réflexion sur la surface d’un
échantillon.
Lorsqu’un faisceau de lumière polarisé atteint une surface, il est réfléchi et voit sa,
polarisation modifiée. Cette modification dépend des propriétés structurales et optiques du
milieu et de la nature de la source lumineuse. L’analyse du changement de polarisation permet
de remonter aux propriétés optiques du milieu.
Les mesures ellipsométriques ont l’avantage d’être non destructives, non perturbatrices et
rapides.
Figure.III.29 : Schéma descriptif de la technique d’ellipsométrie. [57]
91
Le montage décrit ci-dessus permet de mesurer les angles de polarisation permettant par la
suite le calcul des constantes optiques n et k du matériau analysé.
• Appareillage
La méthode d’ellipsométrie la plus couramment utilisée est celle dite à polariseurs tournants.
Ce type de dispositif est divisé en deux parties mobiles (voir Figure III.29) pouvant être
orientées par rotation autour d’un goniomètre haute résolution fixé sur un axe passant par la
surface de l’échantillon :
- 1) Le bras source portant une lampe balayant tout le spectre visible (généralement une
lampe au Xénon émettant sur la plage 180-2500nm à polarisation résiduelle très
faible) et le polariseur tournant qui module le faisceau collimaté en polarisation.
- 2) Les bras de détection portant l’analyseur fixe, et le détecteur relié au spectromètre
(un photo-multiplicateur fonctionnant sur la bande spectrale de la source).
A partir des mesures d’angles de polarisation du faisceau réfléchi et de déplacements du
goniomètre, on estime les constantes optiques du matériau observé.
III.9.3. Méthode de caractérisations électriques

III.9.3.1. Effet Hall
La technique de mesure par effet Hall permet de déterminer deux grandeurs
fondamentales : la concentration des porteurs libres et leur mobilité. Elle permet aussi de
connaître le type des porteurs (trous ou électrons).
Soit un métal ou un semiconducteur de largeur W et d’épaisseur d parcouru par un courant I
(Figure III.30). Si on applique un champ magnétique B perpendiculaire au plan de
l’échantillon, les porteurs de charges négatives animés d’une vitesse 9 sont soumis à une force
de Lorentz ;;;;;< ;< .Ils sont de ce fait déviés vers l’une des forces de l’échantillon ;
: = −=. 9< ∧ @
par conséquent, il apparaît un champ électrique normal au champ A de drainage responsable
du courant I.
92
Figure.III.30 : Schéma de mesure de l’effet Hall
Le champ B croit avec l’accumulation des électrons. La force électrostatique agissant sur les
électrons à cause de ce champ électrique B , tend à s’opposer au déplacement latéral des
porteurs de charges négatives. Au bout d’un certain temps, il y aura suffisamment de charges
sur les deux faces latérales (parallèles au champ B), pour que la force électronique compense
exactement la force magnétique :
:< = −:< (Eq……………………..…III.3)

⟹ =;<B = −= ν;< ∧ @
;< (Eq…………………..…….III.4)
⟹ B = 9. @ (Eq…………….…………..III.5)
A ce moment là, les porteurs cessent d’être déviés et retrouvent leur trajectoire rectiligne
initiale. Par la suite ils n’alimentent plus en charges électriques les deux faces latérales de
l’échantillon. On dit qu’un régime permanant est atteint.
Ce régime est caractérisé par la présence dans le cristal d’un champ électrique perpendiculaire
à I et B, c’est le champ de Hall :
B = E = 9. @ (Eq……………………….III.5)
93
La vitesse des électrons :
H J
9 = −F G = −F = −F . I
I K.L
(Eq………………….……III.6)
Et comme, la mobilité des électrons est :
M O
F = =
NF JNF
(Eq………………………III.7)
Donc,
O J Q
9=− . P=−
JNF KL N.F.K.L
(Eq……………..………...III.8)
Par ailleurs, le champ de Hall :
HR
B = E = K
(Eq………………..………III.9)
Donc, la tension de Hall est :
%E = SE = S. 9. @ (Eq………………………III.10)
En remplaçant 9 par son expression dans celle de %E , on obtient la tension de Hall :
O Q
%E = − NF . L @ (Eq……………………...III.11)
Où,
O
TE = − NF est la constante de Hall pour les électrons.
La pésence de la concentration des porteurs libres (n) dans le dénominateur de %E permet de

comprendre le manque d’importance de l’effet Hall dans les métaux où la concentration des
porteurs est très élevé (n=1022 cm-3). En revanche, l’effet Hall est important quand la
concentration des porteurs y est plus faible (1016 cm-3).
94
Si le courant longitudinal I est dû à des trous, au lieu des électrons, il suffit de remplacer dans
l’expression de %E :
−q par q
U et ]
n par p
Soit :
O Q
%E = .@
N L
( Eq……………………..III.12)
Où
O
TE = N est la constantede Hall pour les trous.
Le signal de la tension Hall permet de nous renseigner sur la nature des porteurs libres qui
assurent le transport. Si %E est négative, le courant est transporté par les électrons, par contre,
si elle est positive, le courant est transporté par les trous.
En mesurant la tension de Hall, nous pouvons déterminer la concentration n des porteurs
libres (électrons) et leur mobilité d’après les équations :
O Q
=− .@
N.HR L
(Eq……………………..III.13)
Et
O
F =
JNF
(Eq…….……………….III.14)
Si on tient compte de la dispersion des porteurs suite aux collisions avec les impuretés et les
atomes du réseau, les porteurs présenteraient une distribution de vitesse, et non pas une
vitesse unique. Les coefficients de Hall devront donc être corrigés en considérant la
dispersion. Dans ce cas, les constantes de Hall doivent être multipliées par un terme correctif
(^) compris entre 1.18 et 1.93.
Si le courant est transporté simultanément par des électrons et trous, l’expression de la
constante de Hall s’écrit :
a _
_`
TE = −
b
(Eq………………………III.15)
N cF _` d _b e
95
III.9.3.2. Méthode de Van der Pauw

Van der Pauw a proposé une méthode expérimentale pour déterminer la résistivité et l’effet
Hall dans un échantillon de forme quelconque. Sur cet échantillon, on applique quatre
contacts A, B, C et D et on définit les résistances suivantes (Figure III.31) :
R gh = Vjk /Igh (Eq……….………………III.16)
On fait circuler le courant entre A et B et on mesure la tension entre Cet D.
Figure.III.31: Schéma électrique pour la mesure de la résistivité parla méthode de Van der
Pauw.
On mesure de même Tmnop et on déduit la résistivité q (en Ω/cm) de l’échantillon :
L (uvwxyduwxyv )
q= z
r.st
(Eq………………………III.17)
La fonction z est tracée en fonction du rapport(Tpmno ⁄Tmnop ) , tel que Tpmno = TO et

Tmnop = T
.
96
Figure III.32 : Coefficient correcteur pour la relation entre la résistivité et les résistances de
Van de Pauw.
Pour déterminer la constante de Hall on fait passer le courant entre A et B et on mesure la

tension entre B et D une fois le champ magnétique est appliqué.
R { = Vhk . d⁄B. Igj (Eq………………….….III.18)
Afin d’avoir z = 1 on a intérêt à prendre autant que possible un échantillon comportant

quatre parties symétriques (tel un trèfle proposé par Van der Pauw).
Au bord de cet échantillon, on dispose arbitrairement de quatre contacts A, B, C, D.
Si un courant parcourt l’échantillon de A vers B (IAB), et si la tension est relevée entre C et D
(VCD), on définit les résistances :
R ghjk = Vjk ⁄Igh (Eq……………….…...…III.19)

Et
R hjkg = Vkg ⁄Ihj (Eq………………………III.20)
En pratique, les contacts ne sont ni idéalement ponctuel ni parfaitement à périphérie de

l’échantillon. Pour minimiser l’influence de la position et de la dimension des contacts, la
méthode de Van der Pauw préconise une forme d’échantillon la plus symétrique possible
comme un carré avec des contacts aux quatre coins ou encore un trèfle. Dans cette condition
z=1.
97
III.9. 3.3. Mesure de la résistivité par la méthode des quatre pointes

La méthode des quatre pointes est utilisable aussi bien pour un matériau épais que
pour une couche mince (déposée sur un substrat isolée par une jonction). C’est une technique
qui s’applique très bien pour des couches implantées en surface d’un substrat. Elle permet de
mesurer rapidement la résistivité de tous types de semiconducteurs.
Le principe de cette méthode consiste à appliquer sur l’échantillon quatre pointes métalliques
ou disposées en carré (Figure. III.33).
Figure.III.33 : Schéma du principe de la méthode des quatre pointes. [58]
Notons que l’écart « S », entre les différentes pointes, est en général fixé à 1mm [59].
Dans le cas des pointes alignées, les deux pointes externes servent à amener le courant et les
pointes internes servent à mesurer la différence de potentiel ∆V, ce qui va permettre de
|H| |H|
Q Q
déterminer le rapport .Dans le cas des échantillons semi infinis, le rapport est relié à
la résistivité du matériau par la relation suivante :

|H|
q = 2
Q
(Eq……………………..III.21) [60]
La mesure de la tension, permet de mesurer la résistivité en se basant sur les hypothèses

suivantes [59]:
• Le diamètre du contact des pointes sur l’échantillon est petit devant S.
• L’épaisseur de la couche « w » est très inférieure à la distance entre les pointes S.
• La vitesse de recombinaison à la surface pointes-échantillon est élevée de sorte que les
porteurs injectés s’y recombinent et ont un effet négligeable sur la conductivité du
matériau.
98
III.10. Les domaines d’application des dichalcogénures de métaux de transitions MX2

Les disulfures de molybdène et de tungstène ainsi que leurs diséléniures dû à ses
bonnes propriétés optiques et électriques ainsi que leur structure cristallin unique. Ils sont
employés en couches minces dans divers dispositifs. Ils sont également utilisés dans
l’industrie électronique (transistors à effet de champ), dans le domaine de l'optoélectronique
(diodes luminescentes, détecteurs optiques, filtres optiques, fibre optique les cellules
photoélectriques).
III.10.1. Domaine de l’industrie
a- Utilisation comme catalyseur
L’utilisation principale du MoS2 et WS2 est liée au monde de la pétrochimie. Les mélanges
Ni/MoS2, Co/MoS2, Ni/WS2 ont une action catalytique lors d’un certains nombres de
réactions chimiques. Ils sont utilisés en particulier pour la désulfuration et l’hydrogénation du
pétrole.
b- Utilisation comme lubrifiant
Les couches minces de MoS2 trouvent un grand nombre d’applications liées à leurs propriétés
lubrifiantes et à leur résistance à l’usure dans des conditions extrêmes. Elles sont le plus
souvent obtenues par pulvérisation et elles sont utilisées comme lubrifiant solide pour les
applications spatiales.
Pour la coupe de certains métaux comme l’aluminium, le titane ou le cuivre, des mèches
recouvertes d’une couche de MoS2 permettent de travailler à plus hautes vitesses de coupe et
avec une utilisation moindre d’huile.
Un coefficient de friction = 0.001 [29] a été mesuré pour des couches de MoS2 obtenus par
pulvérisation cathodique et utilisées comme revêtement sous ulta vide.
c- Utilisation dans les batteries

La flexibilité des dichalcogénures de métaux de transitions (TMDCs) et la possibilité
d’intercalation/désintercalation des ions à travers ces feuillets lui donnent un grand potentiel
d’application dans le domaine des batteries.
Les batteries Li-ions (LIB) ont été considérées comme des éléments de stockage de l’énergie les
plus prometteuses, il a montré que l’intercalation des ions de Lithium entre les feuillets de
MoS2 (préparé par la méthode d’exfoliation et d’intercalation de Lithium sous forme d’une
99
solution) donne à la batterie LIB une grande stabilité cyclique et une capacité de stockage de
l’ordre de 750 mA h g-1 après 50 cycles [39].
III.10.2. Dans le domaine électronique
a-Dans les transistors FET

Le premier transistor à effet de champ FET à base de WSe2( de type p ) a été fabriqué en 2004
il présente une mobilité des électrons inférieur à 500 cm-2 v-1 s-1 à température ambiante ) un
ration on/off ~108 [61] et en comparant à un FET à base de silicium qui a une mobilité au
tours de 1000 cm-2 v-1 s-1, donc on peut dire que FET à base de dichalcogénure de métaux de
transitions est moins chauffé que celui de silicium (Si).
Et un transistor à MoSe2 (à quelques couches) présente une mobilité des électrons de 43 cm-2
v-1 s-1 (à 300K) et un courant de ration on/off égale à 106 [61].
Figure III.34 : Schéma d’un tronsistor FET à base de MoS2 [30]
b-Utilisation comme couche mince dans les cellules photovoltaïques

Les couches minces de dichacogéneurs de métaux de transition sont potentiellement
intéressantes pour des applications photovoltaïques puisque les matériaux sont
semiconducteurs avec un gap direct entre 1.5 et 2 eV associé à un fort coefficient d’absorption
de la lumière visible. De plus, ils peuvent être déposés directement sur leurs métaux, ceux-ci
pouvant servir de contact ohmique arrière.
100
Figure III.35: Un schéma d’une cellule solaire à couches minces de MoS2 sur un
substrat ITO et de contact Au. (b) caractéristique courant-tension tel que l’épaisseur de
couche MoS2 est ~10nm.[39]
Les meilleures cellules solaires à l’état solide sont des hétérojonctions p-MoSe2/n-ZnO
(rendement = 6.1%) et p-WSe2/ITO ( = 6.8-8.5%) [30]. Pour le WS2 et le MoS2 il n’y a eu
que peu de tentatives d’optimisation et les rendements restent modeste, (max = 1-2%).
Les rendements éloignés des rendements théoriques maximaux sont à mettre en relation avec
les impuretés qui induisent des pièges profonds, aux sites actifs aux marches et aux bords des
plans basaux, qui sont des centres de recombinaison importants. La déposition par
pulvérisation de l’électrode supérieure (ZnO, ITO) est également responsable de la création de
défauts de surface qui réduisent les rendements quantiques.
Autre types de cellules solaires à TDMCs tiré de quelques revues sont résumés dans le tableau
ci-dessous :
101
Tableau III.6 : les caractéristiques de quelques types de cellules photovoltaïques à MX2 en

couches minces :
Type de cellule Voc Jsc FF ɳ Substrat et Condition
(V) (mAcm-2) (%) électrode d’illumination Référence
solaire
SiO2/n-Si,
Trilayer-
0.56 33.4 0.60 11.1 Indium AM 1.5 [62]
graphene/MoS2/n- électrode
Si
~0.47 1.2 nA - ~9.9 [63]

n-WS2/p-WSe2
ITO/glass,
0.66 227 10-3 0.22 - Au 100 mW [64]
p-MoS2/n-Cds
électrode
ITO,
0.14 3.2 42.4 1.3 électrode 15 mW [65]
n-MoS2/p-Si
% In
- - - 8.5 - - [30]
p-WSe2/ITO
Dans les cellules photoélectrochimiques, les rendements sont beaucoup plus élevés (jusqu’à
17%, [30]) grâce à la passivation de certains centres de recombinaison par l’électrolyte.
III.11. Conclusion
On a vue dans ce chapitre les disulfures de molybdène et de tungstène ainsi que leurs
diséléniures avec leurs propriétés électroniques et structurelles uniques qui les qualifient pour
être des meilleurs candidats dans différente domaines tel que le domine de l’énergie solaire.
Comme on a vue aussi les différentes méthodes de leurs caractérisations et de leurs synthèses
sous forme de couches minces.
102
Chapitre IV
Chapitre IV Simulation des cellules photovoltaïques à base des TMDC
IV.1. Introduction
Durant les dernières années, à cause des couts élevés de l’expérimentation (techniques
de fabrication des cellules), les chercheurs se sont orientés vers la simulation. Il existe
principalement quatre type de simulateurs, nous citons à titre d’exemple les simulateurs
fonctionnels ou logiques, les simulateurs électriques ou analogiques, les simulateurs
technologiques et ceux de composants ou de dispositifs comme : AFORS HET, PC1D,
SILVACO…etc.
Dans notre travail nous avons utilisé le simulateur des dispositifs AFORS HET.
IV.2. Presentation du logiciel de simulation AFORS-HET
Le logiciel AFORS-HET (Automate For Simulation of Heterostructure) est un outil

de simulation numerique à une dimension, developpé en Allemagne par le laboratoire
Helmohlotz Zentrum Berlin (HZB) , ce logiciel est adapté d’une manière particuliere à la
simulation des cellules solaires a hétérojonction et homojonction à base de silicium.
AFORS HET posséde une interface graphique qui nous permet de définir, de créer
facilement des structures différentes, dont on peut contrôler la plupart des paramètres, tel
que :l’affinité électronique, énergie du gap du materiau , la mobilité des électrons et trous… ,
cette interface est répartie en 3 zones (voir figureIV.1):
a. Zone de contrôle : program control ;

b. Zone de paramètres externes : external parameters ;
c. Zone de mesure : mesurment.
Figure IV.1 : Fenêtre principale de l’interface graphique du logiciel de simulation.
103
La zone de contrôle sert à définir la structure de la cellule à simuler, ainsi que les
paramètres de chaque couche utilisée, les paramètres externes tels que la temperature externe,
le spectre d’illumination ainsi que les conditions aux limites sont déclarés dans la deuxième
zone (external parameters), La troisième zone où les mesures sont effectuées s’appelle
mesurments.
IV.3. Etapes de simulations
La première étape de simulation avec AFORS-HET est habituellement de définir la

structure que nous allons simuler. Une structure est composée toujours d’un contact avant et
arrière et un nombre variable de couches entre les quelles existent des interfaces, on peut les
définir en cliquant sur le boutton correspendant dans la fenêtre principale de AFORS-HET
(figure IV.2).
Définir une structure
Contact avant
Interface
Couche (semi-conducteur)
Contact arrière
Figure IV.2: Fenêtre correspondante à la définition de la structure.
Après la définition de la structure, nous introduisons les paramètres nécessaires tels

que l’épaisseur et les propriétés électriques (le gap, le dopage ….etc.), voir figure IV.3
104
Épaisseur
Propriétés
électrique
Figure IV.3: Introduction des différents paramètres de la cellule.
Une fois la cellule est créée et enregistrée, le calcul des conditions d’équilibre
thermodynamique est effectuée comme illustré sur la figure suivante.
105
Figure IV.4 : Calcul des conditions thermodynamiques de la cellule.
Pour l’illumination de la cellule, on choisit d’abord le mode de polarisation AC ou

DC, on sélectionne ensuite la lumière spectrale ou monochromatique avec laquelle on veut
travailler (figure IV.4). On pourra ensuite effectuer de nombreuses simulations.
106
Choix du mode de calcul
Mettre l’illumination en « On »
Choisir le spectre d’illumination
Mettre les conditions aux

limites =0
Figure IV.5: Mode de calcul et illumination de la cellule.
Ce logiciel AFORS-HET est utilisé par de nombreux chercheurs dans la simulation des
cellules solaires.
IV.4. Présentation des cellules solaires à simuler

Notre étude de simulation concerne les cellules solaires à homojonctions de
ZnO/MoS2(n)/MoS2(p)/Ag, ZnO/MoSe2(n)/MoSe2(p)/Ag et ZnO/WSe2(n)/WSe2(p)/Ag.
Dans toutes les simulations, nous avons choisi le ZnO comme un bon TCO qui joue un
double rôle : celui d’une couche conductrice permettant de conduire les porteurs de charges
jusqu’à l’électrode de collecte et de couche antireflet permettant de diminuer les pertes
optiques dans la cellule.
La figure suivante présente la structure de la cellule à simple homojonction

(ZnO/MoS2(n)/MoS2(p)/Ag).
107
Figure IV.6 : Cellule solaire à homojontion à base de MoS2
Les simulations de ces structures sont effectués sous un spectre solaire AM 1,5 avec
une puissance P=1000 w/m2 et une température de la cellule de 25°C. Dans toutes les
simulations, la résistance parallèle est considérée infiniment grande et la résistance série est
nulle.
IV.5. Les paramètres de la cellule solaire à simuler
IV.5.1. Paramètres de la couche ZnO et la couche Ag
Comme nous l’avons cité précédemment, la couche ZnO est utilisée comme couche
anti reflet et Ag comme contact métallique arrière. Les épaisseurs de ces couches sont
représentées dans le tableau suivant :
couche épaisseur
ZnO 6 .10-6 cm
Ag 0.001cm
Tableau IV.1: Les paramètres de la couche ZnO et la couche Ag.
108
IV.5.2. Propriétés électroniques de MoS2, MoSe2, WSe2 utilisées dans la simulation
L’ensemble des propriétés des matériaux utilisés dans la simulation sont donnés dans
le tableau ci-dessous
Tableau IV-2: Les paramètres des différentes couches des cellules
Les propriétés des WS2

MoS2 MoSe2 WSe2
matériaux utilisées
Ԑ(constante -
13 15,4 12,75
diélectrique)
X(affinité électronique) 3,9[67] ~ 4,0[68]

4.2 [67], [69] 3.8
(eV) 3,4 - 4,0
Gap indirect (eV) 1.25 1,2 1,2 1,3
ND 1,2.1017 2.1017 [66]

Dopage (cm-3) 1.1017 [69] [66] -
NA 5.1015 [66]
Concentration en
2,2.1018/ 1,05.1018/ 2,5.1019/ -
porteurs de charges
1,8.1019 [69] 1,04.1019 3. 1019
Nc /Nv (cm-3)
Mobilité des porteurs µ p=500[67]
~470/480[67] µ n=10~50
(cm2 V-1 sec-1) µ n=100~150 -
100-150[69] [66]
electron/trou [66]
Dans la partie suivante, nous présentons les résultats de simulation des cellules solaires à
homojonction citées au paravent :
IV.6 .Les résultats de simulations
IV.6.1.Les Diagrammes des bandes d’énergies
A l’équilibre thermodynamique, les niveaux de fermi sont alignés, ce qui implique une
courbure de bandes de conduction et de valence ; la figure (IV.7) représente les diagrammes
des bandes des cellules solaires à homojonctions.
109
Figure IV.7 : Diagrammes des bandes d’énergies des cellules solaires à l’équilibre
thermodynamique : (a) cellule à base de MoS2, (b) Cellule à base de MoSe2, (c) cellule à
base de WSe2.
110
IV.6.2. Caractéristiques courant-tension
La figure (IV.8) représente les caractéristiques courant-tension des cellules

homojonction ZnO/MoS2(n)/MoS2(p)/Ag, ZnO/MoSe2(n)/MoSe2(p)/Ag et
ZnO/WSe2(n)/WSe2(p)/Ag que nous avons simulées sous AFORS-HET.
111
Figure IV.8 : Caractéristiques I(V) des cellules solaires simulées,

(a) :ZnO/MoS2(n)/MoS2(p)/Ag, (b) : ZnO/MoSe2(n)/MoSe2(p)/Ag et (c) :
ZnO/WSe2(n)/WSe2(p)/Ag
Tableau (IV.3) : Paramètres électriques des cellules solaires simulées
Performances Vco Jcc FF ɳ

(mV) (mA/cm2) (%) (%)
Cellule à
n-MoS2 /p-MoS2 668 8,526 75,96 4,326
n-MoSe2/p-MoSe2 440,2 8,403 67,57 2,5
n-WSe2/p-WSe2 669,5 8,476 76,27 4,328
Les résultats de simulation que nous avons obtenus montrent que les diochalcogénure de
métaux de transistion étudiés dans notre travail présentent des propriétés photovoltaiques
intéressents ce qui les rend des candidats potentiels pour leur integration dans des applications
photovoltaiques.
112
IV.7. Conclusion
Dans ce chapitre nous avons présenté le logiciel de simulation AFORS HET qui peut
être considéré comme l’un des simulateurs les plus efficaces pour la simulation des cellules à
homojonction. Nous avons présenté trois types de cellules solaires à homojontion à base des
chalcogénures de métaux de transitions. Il semble que ces matériaux ont grâce à leurs
propriétés d’absorption d’une grande partie de spectre solaire un grand intérêt dans le
domaine photovoltaïque.
113
Conclusion
générale
Conclusion générale
Les résultats de simulation que nous avons obtenus montrent bien que les
dichalcogénure de métaux de transistion étudiés dans notre travail présentent des proprietés
photovoltaiques intéressantes, les rendant ainsi des candidats potentiels prometteurs pour
diverses applications photovoltaiques.
Les matériaux MoS2, WS2, MoSe2 et WSe2 suscitent un intérêt particulier car leurs
caractéristiques comblent certains défauts des cellules solaires conventionnelles.
Il y a tout d’abord le facteur prix: les cellules au silicium monocristallin sont onéreuses non
seulement à cause de la quantité importante de matière nécessaire, mais aussi à cause des
exigences de qualité. La faible absorption optique du Si cristallin, due à la nature indirecte de
sa bande interdite, implique la nécessité d’une épaisseur de 200 à 400 µm [30]. Une grande
pureté du silicium est nécessaire afin d’assurer une durée de vie importante et aussi une
longueur de diffusion suffisante pour que les porteurs générés à près de 200 µm de la zone de
déplétion, puissent y arriver avant de se recombiner.
En revanche, les matériaux à haut coefficient d’absorption optique comme le MoS2 ou

le WS2 ainsi que MoSe2 et WSe2 absorbent la plus grande partie de la lumière sur une distance
de l’ordre du µm. Il est donc possible de réaliser des dispositifs minces et également de moins
grande pureté puisqu’il n’est plus nécessaire, comme dans le cas du Si.
Les techniques de déposition de couches minces permettent, de plus, une production à large
échelle avec une consommation moindre des constituants de base, et donc un temps de retour
en énergie beaucoup plus court.
Mais du point de vue de la toxicité, il serait préférable de travailler avec les matériaux MoS2
et le WS2 car le MoSe2 et WSe2 contient le Se qui peut se combiner avec l’hydrogène et
fournir du H2Se qui est hautement toxique.
Donc nous pouvons dire que ces matériaux nous ouvrent un nouvel axe de recherche
intéressent dans le domaine photovoltaïque qui pourra permettre de réaliser des structures
pour des dispositifs photovoltaïques plus performantes et moins onéreuses.
114
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8
Résumé :
Notre travail consiste sur l’étude de la cellule photovoltaïque à base de silicium sous
ses différentes structures mono et milti-jonction, il porte aussi une étude approfondie sur les
chalcogénures de métaux de transition (MoS2,WS2,MoSe2,WSe2) en passant en revues leurs
propriétés électroniques et structurales et les technique de leur élaboration sous forme de
couches minces ainsi que les techniques de leur caractérisation et finalement la simulation de
ces couches comme couches actives dans la cellule photovoltaïque avec le logiciel Afors-Het.
Mots-clés : Les semiconducteurs, la cellule photovoltaïque, chalcogénures de métaux de

transition MX2 (M = W, Mo; X = S, Se), Afors-Het.

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MINISTERE DE L’ENSEIGNEMENT SUPERIEUR ET DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE

UNIVERSITE MOULOUD MAMMERI DE TIZI-OUZOU

Faculté de Génie Electrique et d’Informatique

Melle MECHAI Fazia

Etude et simulation des structures photovoltaïques à base de chalcogénures de

MEGHERBI Mohammed Professeur à l’UMMTO Président

Soutenu le: 07 / 04 / 2016

Avant tout, je remercie ALLAH le tout puissant de m’avoir donné le courage, la

J’exprime toute ma profonde gratitude, ma profonde reconnaissance et mes sincères

Je remercie très chaleureusement Madame Loundja CHIBANE Enseignante à

Je remercie vivement Monsieur BENNAMANE Kamal, Maître de Conférence A à

Mes remerciements vont aussi à mes collègues du laboratoire LATAGE.

A mes chers parents

Chapitre I : Des généralités sur les semiconducteurs

I.4. Les propriétés électrique des semiconducteurs ………………………………………….05

I.5.1.Recombination SRH (Schokley-Read-Hall) ………………………………….09

I.11.1. Gap direct et indirect …………………………………………………..19

a. Gap direct ………………………………………………………………… 19

I.12. Interaction rayonnement - semi conducteur ………………………………………20

I.13.1-Polarisation de la jonction en direct ……………………………………….23

I.15.1-Le contact redresseur …………………………………………………………28

Chapitre II : La cellule photovoltaïque à base de silicium

II.4.4. Caractéristiques électriques d’une cellule solaire ……………………………………40

II.4.5. Paramètres issus d’une courbe J(V) ………………………………………………….40

a. Cellules à base de silicium amorphe …………………………………………48

II.6. Les cellules multijonctions en couche mince……………………………………………50

Chapitre III. Les chalcogénures de métaux de transition MX2 (M = W, Mo; X = S, Se)

III.1. Introduction …………………………………………………………………………….55

III.4. Les propriétés structurelles du MX2 (M = W, Mo; X = S, Se) ………………………..57

III.7. Les propriétés mécaniques et chimiques ………………………………………………68

III.8.1. Dépôt physique en phase vapeur (PVD) ……………………………………70

III.10.2. Dans le domaine électronique ……………………………………………100

III.11. Conclusion ………………………………………………………………………………102

Chapitre IV : Simulation des cellules solaires à base des TMDC

IV.1. Introduction …………………………………………………………………………103

IV.2. Presentation du logiciel de simulation AFORS-HET ……………………………………103

IV.3. Etapes de simulations ………………………………………………………………104

IV.4. Présentation des cellules solaires à simuler …………………………………………107

IV.5. Les paramètres de la cellule solaire à simuler ……………………………………….108

IV.5.1. Paramètres de la couche ZnO et la couche Ag ……………………………108

IV.5.2. Propriétés électroniques de MoS2, MoSe2, WSe2 utilisées dans la………

IV.6.1.Les Diagrammes des bandes d’énergies ……………………………………109

IV.6.2. Caractéristiques courant-tension …………………………………………...111

IV.7. Conclusion ……………………………………………………………………………113

Conclusion générale ……………………………………………………………………114

L’énergie solaire photovoltaïque est un thème au centre de l’actualité depuis la prise

Face à cette crise environnementale et énergétique, les énergies renouvelables (géothermie,

En produisant de l’électricité à partir du rayonnement solaire, l’énergie photovoltaïque

Bien que plusieurs filières et technologies photovoltaïques se partagent le marché, on

Pour mener à bien ce travail nous l’avons structuré comme suit :

Le premier chapitre de ce présent travail est dédié à l’étude des semiconducteurs,

Le troisième chapitre est consacré à l’étude approfondie des chalcogénures de métaux

Le quatrième chapitre est consacré à la composition et à la simulation de différentes structures

I.2. Structures cristallines

Les cristaux ioniques

Les cristaux moléculaires

I.3. Réseaux cristallins

Tableau I.1 : les 7 systèmes cristallin [2]

I.4. Les propriétés électrique des semiconducteurs