Tetrafluoreto de silício

Silicon tetrafluoride Alerta sobre risco à saúde


Nome IUPAC	Tetrafluorosilane Silicon tetrafluoride
Outros nomes	Silicon fluoride Fluoro acid air
Identificadores
Número CAS	7783-61-1
PubChem	24556
Número RTECS	VW2327000
SMILES	`FSi(F)(F)F`
Propriedades
Fórmula molecular	SiF₄
Massa molar	104.0791 g/mol
Aparência	colourless gas, fumes in moist air
Densidade	1.66 g/cm³, solid (−95 °C) 4.69 g/L (gas)
Ponto de fusão	−90 °C
Ponto de ebulição	−86 °C
Solubilidade em água	decomposes
Estrutura
Forma molecular	tetrahedral
Momento dipolar	0 D
Riscos associados
MSDS	ICSC 0576
Índice UE	Not listed
Principais riscos associados	toxic, corrosive
NFPA 704	0 3 2 W
Compostos relacionados
Outros aniões/ânions	tetracloreto de silício tetrabrometo de silício tetraiodeto de silício
Outros catiões/cátions	tetrafluoreto de carbono tetrafluoreto de germânio tetrafluoreto de estanho tetrafluoreto de chumbo
Compostos relacionados	ácido hexafluorossilícico
Página de dados suplementares
Estrutura e propriedades	n, ε_r, etc.
Dados termodinâmicos	Phase behaviour Solid, liquid, gas
Dados espectrais	UV, IV, RMN, EM
Exceto onde denotado, os dados referem-se a materiais sob condições normais de temperatura e pressão Referências e avisos gerais sobre esta caixa. Alerta sobre risco à saúde.

Tetrafluoreto de silício ou tetrafluorsilano é o composto químico de fórmula SiF₄.Essa molécula tetraédrica é notável por ter uma fase líquida "estreita" (seu ponto de ebulição é somente 4°C acima de seu ponto de fusão).Foi sintetizado pela primeira vez por John Davi em 1812.^[1]

Síntese

SiF₄ é um produto secundário da síntese fertilizantes à base de fosfatos, resultando do ataque do HF em silicatos.Em laboratório, o composto pode ser sintetizado aquecendo-se BaSiF₆ (hexafluorosilicato de bário) acima de 300Cº, o SiF₄ é volatilizado, deixando um resíduo sólido de BaF₂.O BaSiF₆ requerido para a reação é obtido pelo tratamento de uma solução aquosa de ácido hexafluorossilícico com cloreto de bário.^[2]O análogo GeF₄ é preparado similarmente, excepto de que sua temperatura de "quebra" é de 700Cº.^[3]

Usos

Esse composto volátil tem usos limitados em microeletrônica e síntese orgânica.^[4]

Ocorrência

Plumas vulcânicas tem quantidades significativas de tetrafluoreto de silício, a produção pode chegar á várias toneladas diárias.^[5]Parte do tetrafluoreto de silício é hidrolisado para gerar ácido hexafluorossilícico.

Referências

↑ John Davy (1812). «An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid». Philosophical Transactions of the Royal Society of London. 102: 352–369. ISSN 0261-0523. JSTOR 107324. doi:10.1098/rstl.1812.0020
↑ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.
↑ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.
↑ Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011
↑ T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu (2002). «High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation» (PDF). Earth Planets Space. 54: 249–256

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Data da tradução: 2011-12-14.

[1] John Davy (1812). «An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid». Philosophical Transactions of the Royal Society of London. 102: 352–369. ISSN 0261-0523. JSTOR 107324. doi:10.1098/rstl.1812.0020

[2] Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.

[3] Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.

[4] Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011

[5] T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu (2002). «High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation» (PDF). Earth Planets Space. 54: 249–256

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