法政大学イノベーション・マネジメント研究センターのシンポジウム「海外のジャイアントに学ぶビジネス・エコシステム」では、日本における電子半導体産業の未来を考えるシンポジウム「海外のジャイアントに学ぶビジネス・エコシステム」を開催。半導体露光機業界で日系企業がオランダのASMLに敗れた背景や理由について解説した。 法政大学イノベーション・マネジメント研究センターでは、日本における電子半導体産業の未来を考えるシンポジウム「海外のジャイアントに学ぶビジネス・エコシステム」を、2018年2月2日に市ケ谷キャンパス（東京都千代田区）で開催した。講演で登壇した法政大学 経営学部教授 イノベーション・マネジメント研究センター所長の田路則子氏は「露光機業界におけるプラットフォーム戦略」をテーマに、オランダのメーカーASMLが、日系メーカーのニコン、キヤノンに競り勝ち、シェア拡大を実現した背景について紹介した
オランダASML社は2017年4月19日の2017年度第1四半期の決算発表で、アナリストに向けて量産ライン向けのEUV（extreme ultraviolet）露光装置「NXE:3400B」を21台受注していることを発表しました（決算発表のプレゼン資料：PDF）。 プレゼン資料の16ページを見ると、NXE:3400Bの出荷開始（first shipment）は2017年中とあります。ASML社のEUV露光装置としては、すでにNXE:3300などが出荷されていますが、検証・評価目的での導入が中心です。NXE:3400Bは実際に量産ラインに投入できるレベルの製品となるのか、ペリクル（防塵カバー）などの関連製品のアップデート状況はどうなっているのか。2017年7月11日から米サンフランシスコで開催される半導体サプライチェーンの展示会「SEMICON West」で注目されるところです。 最初の量産
ASMLおよびCarl Zeissに対する半導体露光装置に関する特許侵害訴訟の提起について 2017年4月24日PRESS RELEASE/報道資料 株式会社ニコン（本社：東京都港区、社長：牛田一雄）は、半導体露光装置を製造販売する、 オランダのASML Holding N.V. およびその関連会社（以下「ASML」）と、ASMLに光学部品を供給する、ドイツのCarl Zeiss SMT GmbH（以下「Zeiss」）による当社の特許侵害行為の停止を求め、オランダ、ドイツ、日本において、本日、訴訟手続きを開始しました。 この訴訟において、当社は、半導体の製造に全世界で使われているASMLの露光装置において、ASMLおよびZeissが、当社の特許を無断で使用、侵害していることを明らかにしていきます。 ニコンは、豊富な実績を持つ調停人を交え、これまでASMLおよびZeissと本件の解決に向け協
ニコンは2017年4月24日、半導体露光技術に関して特許の侵害があるとして、ASMLと、ASMLのサプライヤーであるCarl Zeissを提訴した。この発表の直後となる4月28日（オランダ時間）、ASMLは特許侵害を強く否定し、ニコンに対して対抗訴訟を起こすと発表した。 ニコンは2017年4月24日、オランダの半導体露光装置メーカーであるASMLと、ASMLに光学部品を提供するドイツCarl Zeiss SMTに対し、半導体露光装置に関する特許侵害があるとして、提訴した。ニコンはプレスリリースで、「ASMLの露光装置において、ASMLおよびZeissが、ニコンの特許を無断で使用、侵害していることを明らかにしていく」と述べている。 ニコンはオランダ・ハーグ地方裁判所にてASMLに対し11件の特許侵害訴訟を提起、東京地方裁判所にも提訴した。Carl Zeissに対しては、ドイツ・マンハイム地方
ASMLは、2018年にEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置を20～24台出荷する計画だという。何度も延期を重ねながら開発を進め、ようやく出荷のメドが立ったようだ。 2018年にEUVリソグラフィ装置を出荷 オランダの大手半導体装置メーカーであるASMLは2017年4月19日（現地時間）、2018年に20～24台のEUV（極端紫外線）リソグラフィ装置を出荷する計画を発表した。同社は、何度も延期を重ねながら、次世代リソグラフィ装置の製品化に向けた開発を続けてきた。 ASMLのプレジデント兼CEO（最高経営責任者）を務めるPeter Wennink氏は4月19日、2017年第1四半期決算報告の後にアナリストに向けて、1時間当たり125枚のウエハーを処理できて、光源の有効性を90％に高めたEUV装置開発の進展状況を語った。Wennink氏は、IntelやSamsung Electronics、T
ASML、EUVリソグラフィ開発を加速：SPIE Advanced Lithography 2017（1/2 ページ） 半導体リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2017」において、ASMLがEUV（極端紫外線）スキャナーを発表した。 懐疑的な見方も強い ASMLは、米国カリフォルニア州サンノゼで2017年2月26日～3月2日に開催された、半導体リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2017」において、EUV（極端紫外線）スキャナー「NXE:3400B（以下、3400B）」を発表した。量産工場への導入を目指すという。3400Bの後継機種に関する詳細についても、初めて明らかにした。Carl ZeissとSamsung Electronicsも今回、EUV光と同じ波長でマスクを検査することが可能な
ニコンは８日、今年度中に国内従業員の１割にあたる約１千人を減らし、約５５０人を配置転換すると発表した。赤字が続く半導体製造装置や、市場が縮小するデジタルカメラの事業を縮小する。 半導体露光装置を組み立てる熊谷製作所（埼玉県熊谷市）などで希望退職を募る方針だ。装置の世界シェアは１９９０年代に５０％超あったが、いまはオランダ企業に競り負けて１０％未満。巻き返しは困難とみて開発や生産を縮小する。 ニコンの売上高の約半分を占めるデジカメも、市場は毎年１０％超の縮小が続いており、低価格帯の商品から撤退する。市況の底入れを期待していたが、読みを誤ったという。 ８日発表の２０１６年９月中間…
［フェルトホーフェン（オランダ） ２２日 ロイター］ -オランダの半導体製造装置大手ＡＳＭＬは第４・四半期決算を発表し、今年上期の業績についてタブレット端末やスマートフォンへの需要が好調なことから強気の見通しを示した。
オランダASML社 EUV Marketing Vice PresidentのNigel Farrar氏は「SEMICON Japan 2014」（2014年12月3日～5日、東京ビッグサイト）の「半導体エグゼクティブフォーラム」に登壇。「EUV Lithography: Growth, Industrialization & Beyond」と題し、EUV露光装置の開発の進捗について説明した。 Farrar氏はまず、10nm世代以降の論理（ロジック）LSIを製造するうえでは、高い解像性能が得られ、複雑な回路パターンにも対応できるEUV露光が欠かせないと強調した。10nm世代の論理LSIは「液浸露光（のマルチパターニング）でも製造できるが、プロセスの複雑さが増しコストも増える」。7nm世代にいたっては、液浸露光のステップ数は33にも達し、これをEUV露光では9ステップに抑えられるとした。 現
EUV露光技術のインフラ開発を担うEUVL基盤開発センター（EUVL Infrastructure Development Center：EIDEC）は2013年5月21日、同センターの活動を報告する「EIDEC Symposium 2013」を東京都内で開催した。 EIDECには、国内の半導体メーカーや装置・材料メーカーなど計13社が参加しているほか、海外からも米Intel社、韓国Samsung Electronics社、米SanDisk社、韓国SK Hynix社、台湾TSMC（Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.）が参加している。NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）の支援のもと、産業技術総合研究所（AIST）のスーパー・クリーンルームでEUV露光に関する五つのインフラ技術を開発している。（1）マスク・ブランクスの検査技術、（
ASML（日: エーエスエムエル、蘭: ASML Holding N.V.）は、オランダ北ブラバント州フェルトホーフェンに本部を置く半導体製造装置メーカーである。ステッパーやフォトリソグラフィ装置など半導体露光装置を販売する世界最大の会社で、16か国に60以上の拠点を有し、世界中の主な半導体メーカーの80パーセント (%) 以上がASMLの顧客である。日本法人はエーエスエムエル・ジャパン株式会社。ユーロネクスト・アムステルダム、NASDAQ上場企業 (Euronext: ASML 、NASDAQ: ASML)。 IDMやファウンドリなどの半導体メーカーは、製造する集積回路 (IC) を微細化させている。ICの製造工程は、感光材料（フォトレジスト）の膜で覆われたシリコンウェハー上にパターンを光学的に結像させて露光する手順を1枚のウェハー上で30から40回くり返したのちに加工され、シリコン上に
Intelが、露光装置製造会社の最大手「AMSL」に対して研究開発資金を提供すると発表。Intelの出資で半導体製造技術が2年前倒しされる？ 連載目次 Intelが、オランダのAMSLに対して研究開発資金を提供すること、そして株式の購入を約束することに関するニュースリリースが流れてきた（インテルのニュースリリース「インテル コーポレーションと AMSL、次世代半導体製造の中核技術の開発促進で合意」）。新しいプロセッサの発表でもないので、一般の消費者を念頭においた派手なニュースリリースではない。淡々と合意した金額を述べることが主体の、地味な、しかし投資家や規制当局の承認を得るために必要不可欠な類の公表である。Intelといえば、あちらこちらの会社に投資や買収をしてきているので、1件1件の投資案件をいちいちフォローすることもないだろうと思うかもしれない。しかし今回のニュースリリースからは、今後
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