En Colombia el diseno y la construccion de puentes se ha efectuado siguiendo las recomendaciones de la AASHTO (Americana Association Standard Higway Transport Officials).
— Aluminum nitride (AlN) thin films were grown in a N 2 atmosphere onto a Si/Si 3 N 4 substrate by pulsed laser ablation. We have varied the substrate temperature for the thin film growth, using X-ray reflectometry analysis, we have... more
— Aluminum nitride (AlN) thin films were grown in a N 2 atmosphere onto a Si/Si 3 N 4 substrate by pulsed laser ablation. We have varied the substrate temperature for the thin film growth, using X-ray reflectometry analysis, we have characterized the thickness and density of the thin layer and the interface roughness from the X-ray reflectivity profiles. Experimental data showed that the root-mean-square roughness was in the range of 0.3 nm. The X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was employed to characterize the chemical composition of the films. These measurements detected carbon and oxygen contamination at the surface. In the high-resolution XPS Al2p data, binding energies for Al–N and Al–O species were identified but no Al–Al species were present. In the N1s data, N–O species were not detected, but chemically bonded O was present in the films as Al–O species. Furthermore, the value of optical energy gap, E g was ∼5.3 (±0.1) eV. The composition varied with process conditions, and the nitrogen content decreased in AlN films processed above 500 °C.
ABSTRACT Recibido 22 de Oct.2007; Aceptado 3 de Mar.2008; Publicado en línea 15 de Abril.2007 Resumen En este trabajo hemos estudiado las principales condiciones para la generación de plasmas del aire, cobre y aluminio, usando un láser... more
ABSTRACT Recibido 22 de Oct.2007; Aceptado 3 de Mar.2008; Publicado en línea 15 de Abril.2007 Resumen En este trabajo hemos estudiado las principales condiciones para la generación de plasmas del aire, cobre y aluminio, usando un láser Nd:YAG pulsado, con longitud de onda 1064 nm, con un pulso de 500 mJ de energía y 9 ns de duración a una tasa de repetición de 10 Hz. Mediante espectroscopia de emisió optica hemos analizado las líneas espectrales de emisión, las cuales fueron obtenidas variando la presión atmosférica para el cobre. La emisividad a presiones altas es mayor debido al confinamiento del plasma y al aumento de las colisiones entre las diferentes especies, en el caso del plasma en el aire se comparó los datos obtenidos de cada longitud de onda debida a cada transición electrónica y estado de ionización con las longitudes de onda características de cada elemento reportadas por la base de datos del NIST (National Institute of Standards and Technology) Palabras Clave: Espectroscopia de Emisió Abstract In this paper we studied the main conditions for the Plasmas generation air, copper and aluminum, using a laser Nd: YAG pulsed with wavelength 1064 nm with a pulse of 500 mJ Energy and 9 ns duration at a repetition rate of 10 Hz. Through spectroscopy, we have analyzed Optical Emission lines Spectral emission, which were obtained by varying the Atmospheric pressure. Emissivity to High pressure is greater because of the confinement of the plasma and Increasing collisions between different species, in the case Plasma in the air we compared the data obtained from each Wavelength due to each transition and electronic state of Ionization with wavelengths characteristic of each Element reported by the database of the NIST (National Institute of Standards and Technology).
ABSTRACT Mejía 3 Este artículo forma parte del "Volumen Suplemento" S1 de la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales (RLMM). Los suplementos de la RLMM son números especiales de la revista dedicados a publicar... more
ABSTRACT Mejía 3 Este artículo forma parte del "Volumen Suplemento" S1 de la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales (RLMM). Los suplementos de la RLMM son números especiales de la revista dedicados a publicar memorias de congresos. Este suplemento constituye las memorias del congreso "X Iberoamericano de Metalurgia y Materiales (X IBEROMET)" celebrado en Cartagena, Colombia, del 13 al 17 de Octubre de 2008. La selección y arbitraje de los trabajos que aparecen en este suplemento fue responsabilidad del Comité Organizador del X IBEROMET, quien nombró una comisión ad-hoc para este fin (véase editorial de este suplemento). La RLMM no sometió estos artículos al proceso regular de arbitraje que utiliza la revista para los números regulares de la misma. Se recomendó el uso de las "Instrucciones para Autores" establecidas por la RLMM para la elaboración de los artículos. No obstante, la revisión principal del formato de los artículos que aparecen en este suplemento fue responsabilidad del Comité Organizador del X IBEROMET.
Se presenta el análisis teórico mediante simulación del comportamiento micromagnético en películas delgadas de hierro puro, usando el software Object Oriented Micromagnetism Framework (OOMMF). Los resultados son comparados con datos... more
Se presenta el análisis teórico mediante simulación del comportamiento micromagnético en películas delgadas de hierro puro, usando el software Object Oriented Micromagnetism Framework (OOMMF). Los resultados son comparados con datos obtenidos de manera ...
ABSTRACT Manganese doped zinc oxide was ablated on (100) silicon using the fundamental harmonics of Nd:YAG laser at various oxygen ambient gas pressures and temperature substrate was kept at room temperature during the deposition. In all... more
ABSTRACT Manganese doped zinc oxide was ablated on (100) silicon using the fundamental harmonics of Nd:YAG laser at various oxygen ambient gas pressures and temperature substrate was kept at room temperature during the deposition. In all experiments we used ZnMnO target. Optical emission spectroscopy (OES) is used to survey the plasma composition during deposition. The intensities of the ZnI and ZnII emission lines are correlated to the oxygen gas pressure and composition and morphology of the films deposited. Strong emission lines of ZnI, Zn II and neutral oxygen are observed. Oxygen and Mn emission lines in its atomic or ionic states have not been detected in this investigation, which is thought ZnMnO as being exclusively produced on the substrate surface and not generated into the plasma, which is in agreement with previous studies of ZnO plasma plume. Atomic Force Microscopy (AFM) is used to study the influence of oxygen gas pressure on the ZnMnO film morphology. An X-ray diffraction was tried to verify a crystal structure of the sample. We have demonstrated that gas pressure is an important parameter for the quality and performances of ZnMnO structures obtained by pulsed laser deposition.
