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※ ChatGPTを利用し、要約された質問です(原文:フォトレジストの基板密着性について)
フォトレジストの基板密着性について
このQ&Aのポイント
- 実験で、熱酸化膜付きのSi基板やガラスにポジ型のフォトレジストをスピンコート塗布~パターニングしてエッチング処理を行っています。
- 熱酸化膜とフォトレジストの密着性は良いのですが、ガラス(おそらく石英)とフォトレジストの密着性が悪いです。
- どちらもSiO2だと思うのですが、なぜ密着性に差が出るのかご教授いただけませんか。
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- akira0723
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