Tesis Junior Adan Bernal Martinez PDF
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MATERIALES AVANZADOS, S. C.
POSGRADO
Director de Tesis:
Dr. Rafael Ramírez Bon
Agradezco a Dios por permitirme alcanzar una meta más en mí carrera académica, y en
mis logros personales.
A mi madre que desde niño me ha sabido guiar por buen camino y ha sido la persona que
me ha dado el apoyo moral para mí desarrollo.
Al Promep que me otorgo la beca de tesis nacional para obtener el grado de maestría con
número de oficio de la carta de liberación: PROMEP/103.5/12/4939, folio UTTT-016, lo
que me permitió solventar mis necesidades económicas para culminar mi trabajo de tesis.
Al Dr. Rafael Ramírez Bon por su paciencia, apoyo y guía durante la dirección de la tesis.
Al CINVESTAV Unidad Querétaro por abrirme las puertas para realizar esta investigación.
i
ÍNDICE
CAPITULO I INTRODUCCIÓN ................................................................................................ 3
1.1 Introducción ....................................................................................................................... 3
1.2 La Radiación Solar ........................................................................................................... 5
1.3 Energía Fotovoltaica ......................................................................................................... 6
1.4 Selenuro de Plomo (PbSe) .............................................................................................. 9
1.5 Objetivo principal ............................................................................................................ 11
1.6 Objetivos particulares ..................................................................................................... 11
CAPITULO II ANTECEDENTES............................................................................................ 12
2.1 Dispositivos fotovoltaicos y estructura de celdas solares ........................................... 12
2.2 Semiconductores tipo II-VI y IV-VI ................................................................................ 13
2.3 Selenuro de Plomo ......................................................................................................... 13
2.4 Óxidos e Hidróxidos de Plomo. ..................................................................................... 15
2.5 Plumbonacrita ................................................................................................................. 16
2.6 Técnica de depósito químico ......................................................................................... 17
2.7 Ventajas de Desventajas de la técnica de DBQ .......................................................... 18
CAPITULO III MATERIALES Y MÉTODOS .......................................................................... 19
3.1 Primera Etapa Películas de hidróxido óxido carbonato de Plomo (Plumbonacrita) . 20
3.2 Deposición por baño químico de películas de plumbonacrita .................................... 20
3.3 Tratamientos Térmicos de Películas de Plumbonacrita (Películas de Óxido de
Plomo) .................................................................................................................................... 22
3.4 Segunda Etapa Películas de PbSe (Proceso de inmersión)....................................... 22
3.5 Tratamientos Térmicos a Películas de PbSe ............................................................... 24
3.6 Tratamientos con CdCl2 ................................................................................................. 24
3.7 Caracterización de los materiales. ................................................................................ 25
CAPITULO IV RESULTADOS Y DISCUSIÓN ...................................................................... 27
4.1 Primera Etapa Películas de hidróxido óxido carbonato de Plomo (Plumbonacrita) . 27
4.1.2 Análisis Estructural de las películas de Plumbonacrita ........................................ 28
4.1.3 Dispersión Micro-Raman de películas de plumbonacrita ..................................... 31
4.1.4 Estudios de perfilometría de películas de plumbonacrita ..................................... 32
4.1.5 Morfología Superficial de las películas de Plumbonacrita.................................... 33
4.2 Tratamientos Térmicos a películas de Plumbonacrita (Películas de PbO)................ 34
ii
4.2.1 Análisis estructural de películas de películas de PbO .......................................... 34
4.2.2 Dispersión Micro-Raman de películas de PbO ..................................................... 38
4.2.3 Estudios de perfilometría de películas de PbO ..................................................... 41
4.2.4 Morfología superficial de películas de PbO ........................................................... 42
4.3 Segunda Etapa Películas de PbSe (proceso de inmersión) ....................................... 44
4.3.1 Análisis estructural de películas de PbSe.............................................................. 44
4.3.2 Dispersión Micro – Raman de películas de PbSe................................................. 45
4.3.3 Estudios de perfilometría a películas de PbSe ..................................................... 46
4.3.4 Morfología superficial de películas de PbSe ......................................................... 46
4.4 Tratamientos térmicos a películas de PbSe ................................................................. 48
4.4.1 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos..................... 49
4.4.2 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos ................ 49
4.5 Tratamientos térmicos con CdCl2 a películas de PbSe ............................................... 51
4.5.1 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos con CdCl2,
Serie D (0.015M) ............................................................................................................... 51
4.5.2 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos de CdCl2,
Serie D (0.015M) ............................................................................................................... 52
4.5.3 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos con CdCl2,
Serie E (0.03M).................................................................................................................. 53
4.5.4 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos con
CdCl2, Serie E (0.03M)...................................................................................................... 53
4.5.5 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos con CdCl2,
Serie F (0.09M) .................................................................................................................. 55
4.5.6 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos con
CdCl2, Serie F (0.09M) ...................................................................................................... 55
4.5.7 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos con CdCl2,
Serie G (0.15M) ................................................................................................................. 57
4.5.8 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos con
CdCl2, Serie G (0.15M) ..................................................................................................... 57
4.5.9 Estudios de perfilometría de películas de PbSe con tratamientos térmicos de
CdCl2, para las series D, E, F y G.................................................................................... 59
CAPITULO V CONCLUSIONES............................................................................................. 61
Bibliografía o Literatura citada: ................................................................................................ 63
iii
Lista de Figuras
iv
Figura 28. Tratamiento térmico en aire a 300º C durante 30 min. de películas de
plumbonacrita, lado grueso y delgado. ................................................................................... 36
Figura 29. Tratamiento térmico en aire a 400º C durante 30 min. de películas de
plumbonacrita, lado grueso. ..................................................................................................... 36
Figura 30. Tratamiento térmico en aire a 400º C durante 30 min. de películas de
plumbonacrita, lado delgado.
Figura 31. Tratamiento térmico en aire a 500º C durante 30 min. de películas de
plumbonacrita, lado grueso. ..................................................................................................... 37
Figura 32. Tratamiento térmico en aire a 500º C durante 30 min. de películas de
plumbonacrita, lado delgado. ................................................................................................... 38
Figura 33. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos
térmicos en aire a 200o C lado grueso y delgado. ................................................................. 39
Figura 34. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos
térmicos en aire a 300o C lado grueso y delgado. ................................................................. 40
Figura 35. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos
térmicos en aire a 400o C lado grueso y delgado. ................................................................. 40
Figura 36. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos
térmicos en aire a 500o C lado grueso y delgado. ................................................................. 41
Figura 37. Tratamientos térmicos en aire para películas de plumbonacrita a diferentes
temperaturas. ............................................................................................................................ 42
Figura 38. Morfologías superficiales para diferentes temperaturas de tratamientos
térmicos a películas de plumbonacrita, 200, 300 y 400º C, lado grueso y delgado
respectivamente. ....................................................................................................................... 43
Figura 39. Morfologías superficiales de 500º C de tratamientos térmicos a películas de
plumbonacrita, lado grueso y delgado. ................................................................................... 44
Figura 40. Apariencia de películas de PbSe obtenidas en un segundo proceso de
inmersión. .................................................................................................................................. 44
Figura 41. Patrón de difracción de rayos X de la película de PbSe ..................................... 45
Figura 42. Espectroscopia Raman de película de PbSe con un tiempo de inmersión en
iones de Se de 120 min. ........................................................................................................... 46
Figura 43. Morfología superficial SEM de PbSe .................................................................... 47
Figura 44. Formación gradual de cubos de PbSe en diferentes tiempos. ........................... 48
Figura 45. Patrón de difracción de rayos X para tratamientos térmicos de películas de
PbSe a diferentes temperaturas. ............................................................................................. 49
Figura 46. Micrografías SEM de tratamientos térmicos a películas de PbSe. .................... 50
Figura 47. DRX de películas de PbSe con tratamientos térmicos en CdCl2 (0.015M) a
diferentes temperaturas............................................................................................................ 51
Figura 48. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.015M) a diferentes
temperaturas. ............................................................................................................................ 52
Figura 49. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.03M) a diferentes temperaturas.
.................................................................................................................................................... 53
Figura 50. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.03M) a diferentes
temperaturas. ............................................................................................................................ 54
v
Figura 51. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.09M) a diferentes temperaturas.
.................................................................................................................................................... 55
Figura 52. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.09M) a diferentes
temperaturas. ............................................................................................................................ 56
Figura 53. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.15M) a diferentes temperaturas.
.................................................................................................................................................... 57
Figura 54. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.15M) a diferentes
temperaturas. ............................................................................................................................ 58
Figura 55. Perfilometría de las series D, E, F y G, de películas de PbSe con tratamientos
térmicos de CdCl2. .................................................................................................................... 59
Figura 56. Tamaño de grano de las series D, E, F y G de las películas de PbSe con
tratamientos térmicos de CdCl2. .............................................................................................. 60
Lista de Tablas
vi
Resumen
1
Abstract
2
CAPITULO I INTRODUCCIÓN
1.1 Introducción
11%
Hidroeléctrica
35% Nuclear
Renovables
Carbón
Gas Natural
25%
Petróleo
21%
3
permitiendo la vida en el mismo. Está producido por los llamados gases de efecto
invernadero, los cuales dejan pasar la radiación visible emitida por el Sol pero impiden
que salga la radiación infrarroja emitida por la Tierra por lo que se produce un
calentamiento neto en la misma, que se acentúa con los altos niveles de emisiones de
gases de efecto invernadero, y que es conocido como calentamiento global o cambio
climático antropogénico porque es producido artificialmente por las actividades humanas.
El cambio climático o calentamiento global es el problema ambiental más
importante a corto, medio y largo plazo.
Externos:
Internos:
Los factores externos producen cambios en largos períodos de tiempo, por lo que son
lentos y sólo se aprecian en períodos muy largos (100,000 años). En los últimos siglos, no
se ha detectado ningún cambio provocado por dichos factores.
Sin embargo, los factores internos si han cambiado significativamente en los últimos
siglos, por lo que los científicos han llegado a la conclusión de que esos cambios han sido
provocados por los seres humanos (origen antropológico del cambio climático), como
consecuencia del desarrollo insostenible que ha tenido lugar en dicho período. [2]
4
1.2 La Radiación Solar
5
Figura 4. Distribución media anual de la insolación en la República Mexicana. (Bahm, 1999)
6
• Es una tecnología que permite generar empleos y un desarrollo
industrial sustentable
• Es altamente confiable al ser el Sol una fuente de energía limpia,
inagotable y de acceso libre
• Es la mejor opción en fuentes renovables de energía para
introducir en un ambiente urbano
• Es fácil de producir e instalar a escala masiva
• Es el modo más accesible de proveer de energía a los miles de
millones de personas sin electricidad en el mundo.
7
perseguido es obtener la máxima eficiencia al mínimo coste. En esta carrera se han
conseguido importantes avances. Así, por ejemplo, se han ensayado en laboratorio celdas
con eficiencias próximas al 30 % mientras que las fabricadas industrialmente superan, con
frecuencia, el 15 %. [5]
El coste actual de la producción eléctrica fotovoltaica esta alrededor de
60$Cent/Kwh para zonas de clima templado y 30$cent/kwh para los de alta insolación
solar. La principal razón de este alto coste es que la principal materia prima de estas
celdas solares es el silicio monocristalino. Un módulo fotovoltaico de silicio monocristalino
de 1 m2 produce 125 Wp [10].
Las tecnologías del silicio se dividen en tres que son el silicio monocristalino con
un rendimiento de 14 al 16 %, el silicio policristalino del 10 al 12 %, y el silicio amorfo
entre 6 y 8 % de rendimiento.
Se clasifican otras celdas de segunda generación a las de lámina, capa o película
delgada, siendo todas aquellas en las que la capa activa o absorbente tiene un espesor
de unas cuantas micras. Las películas delgadas han tenido un papel importante en la
búsqueda de soluciones fotovoltaicas de bajo costo. Esta tecnología surgió a la par que la
del silicio cristalino, pero el desarrollo de ambas no ha alcanzado un nivel comparable. En
un principio la celda de sulfuro de cobre y sulfuro de cadmio (Cu2S-CdS) fue el dispositivo
fotovoltaico en película delgada dominante, más tarde se incorporaron otras tecnologías
policristalinas de seleniuro de cobre e indio (CuInSe2 o CIS) y teluluro de cadmio. Este
tipo de celdas tienen un rendimiento relativamente alto y un ahorro muy importante de
material con respecto al silicio usando el 1% de material semiconductor en comparación
con las obleas de silicio. Dentro de esta clasificación es posible depositar sustancias
semiconductoras mediante varias técnicas sobre muchos tipos de sustratos: cerámicos,
vidrio, materiales flexibles, etc. También cabe mencionar que se han desarrollado paneles
para la industria espacial de GaAS con rendimientos próximos al 30 %.
El silicio amorfo es el primer material de la tecnología de película delgada que
tiene productos comerciales, inicialmente se utilizó en aparatos de consumo, como las
calculadoras y se está utilizando en aplicaciones arquitectónicas especiales como
módulos semitransparentes para ventanas.
El diselenuro de Cobre Indio (CIS) es un compuesto atractivo debido a sus altos
coeficientes de absorción y sus capacidades eléctricas y ópticas. Su producción es más
costosa que la del silicio amorfo.
Hay diferentes familias de dispositivos donde se sustituye una parte del Indio por
otros elementos de las bandas I,III y IV, principalmente el Galio (CIGS) aumentando el
bandgap, también se puede mencionar que las principales aplicaciones del CIGS en un
70 % son para la construcción de monitores y Televisores. La eficiencia del CIGS se
puede ampliar con lentes de concentración hasta un 30 %.
El Teluluro de cadmio (CdTe) es un excelente semiconductor para el uso en celdas
solares. Su bandgap es de 1.4 eV lo que se adapta muy bien al espectro solar. Su
estructura incluye una película muy delgada de sulfuro de cadmio, que permite pasar una
gran cantidad de luz solar a través de ella. Su depósito sobre un sustrato es sencillo y
permite su producción a gran escala. Sin embargo el cadmio es muy tóxico.
8
En la clasificación de tercera generación, se busca reducir la pérdida de potencia
en las células de una sola banda, manifestada en la incapacidad de absorber fotones con
energía menor que del bandgap y la termalización que se entiende como el exceso de
calor de la energía del fotón que excede la banda de energía prohibida. Para resolver
dichos problemas se incrementó el número de celdas formando un sándwich de celdas
con semiconductores con ancho de banda de energía prohibida intermedias (varias celdas
solares con distintas bandgaps, idealmente de 0-3.5 eV), se capturan portadores de pares
electrón-hueco antes de la termalización, también múltiples portadores electrón-hueco son
obtenidos por fotones de alta energía o portadores únicos con múltiples fotones de baja
energía [9].
La primera generación, basada en uniones p-n de silicio está limitada por el uso
del silicio, cabe mencionar que el 70% de su aplicación se da en la industria
microelectrónica con rendimientos de 20 % y costo de manufactura de 3.5$/W como se
puede apreciar en la Figura 6.
La segunda generación en un futuro próximo tendrá costos inferiores a los del
silicio, sin la limitación del tamaño de las obleas de silicio con rendimientos igual o
ligeramente superiores a los de la primera generación.
La tercera generación deberá proveer mayores rendimientos a costos más bajos
quizás un 50% superior al actual y costos de 0.4$/W instalado. [10].
9
logra convertir el material en fotoconductor [6]. El PbSe tiene un band gap de 0.28 eV y
una estructura cristalina cubica con una constante de red de a=0.61224 nm.[7],
dependiendo las características estructurales, ópticas, morfológicas y eléctricas del
método de preparación que pudiera ser alguno de los siguientes que se han utilizado para
sintetizarlo: electrodepósito, epitaxia de haces moleculares, depósito por láser pulsado,
depósito por baño químico, depósito por evaporación térmica al vacío, método de
reacción sonoquímica y fotoquímica [8]. Retomando lo que se mencionó antes acerca de
la segunda generación, se considera como tecnología fotovoltaica de capa delgada a
todas aquellas celdas y módulos en los que la capa activa o absorbente tiene un espesor
de unos pocos micrómetros [9]. Dadas las características de este material,
específicamente su bajo valor de bandgap y la posibilidad de depositar películas de varias
micras de espesor, da pie a la posibilidad de utilizar el PbSe como capa absorbente en
una celda solar de película delgada.
10
1.4 Hipótesis
Aplicar tratamientos térmicos con cloruro de cadmio (CdCl2) para mejorar las
propiedades y tamaño de grano de las películas de PbSe.
11
CAPITULO II ANTECEDENTES
Las celdas solares están constituidas de una capa fina de óxido transparente como
contacto que conduce muy bien la electricidad y permite el paso de los fotones. En estas
celdas existe una interfaz entre dos materiales semiconductores diferentes llamada
heterounión que crea fácilmente un campo eléctrico en la interface de los dos
semiconductores. Dos capas son las que constituyen los dos materiales semiconductores
una llamada capa ventana que su función es absorber el fin del espectro de la energía
solar que debe ser de menos de 0.1 micras de espesor permitiendo así minimizar la
absorción de luz y disminuir la resistencia eléctrica en serie, el material es del tipo n y con
un gap de 2.5 eV o más de modo que sea posible transmitir una máxima cantidad de luz a
la capa absorbente. El CdS ha sido el material más usado como capa ventana en las
celdas policristalinas, debido a su alta eficiencia alcanzada de 19.4 %[11]. La capa
llamada absorbente que se ubica por debajo de la capa ventana, del tipo p, con una alta
capacidad de absorción de fotones, de normalmente 1 a 2 micras de espesor y el ancho
de banda prohibida ideal a emplearse es de 1.5 eV, El CdTe es el semiconductor más
empleado en este tipo de capas, debido a su ancho de banda prohibida de 1.45 eV, ya
que absorbe la máxima cantidad del espectro solar con las mínimas pérdidas. La
eficiencia del CdTe en aplicaciones solares es de 16.4%[12].
Una serie de celdas fotovoltaicas conforman a lo que se llama panel solar, en la
celda o celda fotovoltaica, es el lugar donde se realiza una transformación de energía
proveniente del sol (fotones) en electricidad. La luz proveniente del sol activa la formación
de corrientes eléctricas produciendo un efecto fotoeléctrico.
Las celdas solares policristalinas de dos materiales semiconductores se componen
de un semiconductor con conductividad tipo p donde los llamados huecos son los
portadores mayoritarios y el otro semiconductor con conductividad tipo n donde los
portadores mayoritarios son electrones. En una celda solar típica de CdS/CdTe, existe
una heterounión donde el material tipo p es el CdTe y el material tipo n es el CdS, tal
como se muestra en la Figura 7.
12
Al haber incidencia de fotones provenientes del sol sobre la celda solar, que tienen
energía menor al ancho de banda prohibida del CdS, que es de Eg= 2.42 eV, pasan a
través de esta capa ventana para ser absorbidos por el CdTe, que es la capa absorbente,
con un ancho de banda prohibida de Eg= 1.45 eV. Por consecuencia se genera un
electrón libre en esta red cristalina, produciéndose un hueco con carga en signo contrario
pero misma magnitud que la del electrón, en pocas palabras es un par electrón-hueco en
el semiconductor tipo n. En cambio los fotones con energía mayor a la banda prohibida
del CdS se absorben y también generan pares electrón-hueco. Los electrones en el CdTe
y los huecos en el CdS, que son los portadores minoritarios, producen una corriente
eléctrica al ser movidos por la influencia del campo eléctrico.
La corriente de los portadores minoritarios es conducida por los contactos de la
celda. Estos contactos son dos. El primero se le puede llamar contacto frontal o
permanente, que es el material que primero se expone a la luz que incide en la celda y
que puede ser de óxido de estaño (SnO2), óxido de zinc dopado con aluminio (AZO) y el
óxido de indio dopado con estaño (ITO). El segundo llamado contacto posterior o
metálico, que es depositado sobre el CdTe, que generalmente es de oro (Au) o cobre
(Cu), pero se pueden emplear una gran cantidad de conductores.
13
calentamiento y degradación de este tipo de detectores, lo que ha implicado la utilización
de sistemas refrigerantes. Se han logrado producir sistemas de bajo costo no refrigerados
para automóviles, control de procesos, etc.
Propiedades
Peso Molecular 286.15 g/mol
3
Densidad 16.14 g/cm
Color Negro- grisáceo
14
2.4 Óxidos e Hidróxidos de Plomo.
Durante muchos años, los humanos han usado metales para crear tanto
instrumentos útiles como artísticos. La mayoría de los objetos metálicos sufren procesos
de corrosión a lo largo del tiempo, principalmente debido a procesos de oxidación con el
aire. Los productos de corrosión son, normalmente, óxidos, hidróxidos, sulfuros, sulfatos y
carbonatos, dependiendo del metal y de las condiciones ambientales. Las aleaciones de
plomo fueron muy usadas en la antigüedad, sobre todo en la red de cañerías y en la
fabricación de monedas y sellos. El plomo es un elemento muy reactivo y forma, en
función de las condiciones ambientales en que se encuentre, compuestos como anglesita
(PbSO4), cerusita (PbCO3), hidrocerusita (Pb3(CO3)2(OH)2) ó plumbonacrita
(Pb5O(OH)2(CO3)3). La presencia de carbonatos de plomo es responsable de la herrumbre
blanca y polvorienta que puede localizarse en la superficie del plomo o sus aleaciones
[13] como se observa en la Figura 9.
La formación de dióxido de plomo depende de varios parámetros tales como el tipo
de sustratos, la técnica de depósito utilizada incluyendo las condiciones de solución ácida
o básica y la presencia de agente formador [14].
La síntesis de nanoestructuras de Pb(OH)2 raramente ha sido reportada
probablemente debido a que la presencia de hidróxido Pb(OH)2 en el estado sólido es
dudosa. Estudios anteriores han demostrado que precipitaciones de Pb(OH)2 se pueden
formar en soluciones de hidróxido de sodio a ciertas concentraciones. Sin embargo, la
morfología de precipitados de Pb(OH)2 raramente ha sido reportada.
Una forma de sintetizar Pb(OH)2 es por una reacción en fase de solución de Pb (II)
y iones de hidróxido. Para llevar a cabo la síntesis controlada de Pb(OH)2, cloruro de
sodio se ha añadido en las soluciones precursoras además de nitrato de plomo. En el
experimento reportado, la concentración de iones de hidróxido es de aproximadamente
0.03M, y la fórmula de reacción para la preparación de hidróxido de plomo es:
15
Figura 9. Sello de Plomo de la colección del ayuntamiento de Sevilla, España (A. Duran Benito et al. 2007)
2.5 Plumbonacrita
Un carbonato básico de plomo, fue descrito por primera vez en 1889 por Heddle
en Wanlock head, Escocia. La formula química es: 6PbCO3. 3Pb(OH)2PbO ó
Pb10(CO3)6O(OH)6. Se sugirió que difiere de la hidrocerusita 2PbCO3Pb(OH)2 ó
Pb3(CO3)2(OH)2. En su contenido de carbonato, Olby(1966) señaló la presencia de
plumbonacrita provoca la corrosión de productos tecnológicos, donde se produce una fase
intermedia de plomo y su óxido carbonatización.
La plumbonacrita es metaestable y se trasforma fácilmente a hidrocerrusita, lo que
explica su extrema rareza en la naturaleza. Haacke y Williams (1981) señalaron que el
único otro suceso notificado de manera natural sobre plumbonacrita fue en la mina de
Mammoth, Tiger, Arizona.[18]
Propiedades
Estructura cristalina Hexagonal
Propiedades ópticas Traslucido
Color Blanco
Dureza = n.d.
Propiedades físicas D(compases) = 7,07
D(calc) = [7,069]
Raro en la zona oxidada
de depósitos
Ocurrencia
hidrotermales
polimetálicos.
Anglesita, linarite,
Asociación galena (Tiger, Arizona,
EE.UU.).
16
2.6 Técnica de depósito químico
17
Figura 10. Vaso de precipitado para deposición por baño químico.
Ventajas:
• Es una técnica sencilla
• No se utilizan equipos sofisticados ni de alto vacío
• El consumo de energía es mínimo
• Se generan niveles de contaminación relativamente bajos
• Es adecuada para la producción en área grande
Desventajas:
• Baja razón de deposito
• Generación de residuos
• Problemas de inestabilidad por reacciones con el medio ambiente
18
CAPITULO III MATERIALES Y MÉTODOS
Este trabajo se divide en dos etapas principales que son: 1) la síntesis de películas
delgadas de plumbonacrita por el método de baño químico (DBQ), 2) Proceso de
intercambio iónico por inmersión en solución de iones de Se (Na2SeSO3). Así como
también los tratamientos, térmico y con CdCl2 de los materiales obtenidos y la
caracterización estructural de estos materiales. Como se muestra en la Figura 11.
Figura 11. Etapas llevadas a cabo con las películas precursoras de plumbonacrita.
19
3.1 Primera Etapa Películas de hidróxido óxido carbonato de Plomo
(Plumbonacrita)
Las películas fueron obtenidas por baño químico (DBQ), a temperatura ambiente.
El experimento consistió en utilizar un vaso de precipitado de 100 ml, que contiene la
solución de reacción y los sustratos de vidrio sumergidos verticalmente en la solución de
reacción, recargados en la pared del vaso.
5.- Al transcurrir el tiempo deseado de reacción, se retiraron los sustratos ya con las
películas depositadas y se enjuagaron con agua desionizada, haciéndoles pasar un
algodón húmedo por la superficie con el propósito de retirar partículas no adheridas.
20
Reactivo Formula Concentración A B C
Acetato de plomo (CH COO) Pb.3H O 0.125 M 10 ml 10 ml 10 ml
3 2 2
21
3.3 Tratamientos Térmicos de Películas de Plumbonacrita (Películas de
Óxido de Plomo)
Figura 13. Mufla Felisa FE-340 empleada para llevar a cabo los tratamientos térmicos de Plumbonacrita a
diferentes temperaturas.
22
observan precipitados de Se. Des
Después de este proceso, la solución se enfría a
temperatura ambiente
e manteniéndose cerrado el tubo,
tubo, como se observa en la Figura 14.
23
3.5 Tratamientos Térmicos a Películas de PbSe
Serie Concentración
D 0.015 M
E 0.03 M
F 0.09 M
G 0.15 M
24
3.7 Caracterización de los materiales.
Características
Características
Láser de Argón sintonizable a 488 y 514 nm con
potencia 60 mW.
Tabla 6. Características del micro espectrómetro Raman ubicado en el laboratorio de propiedades ópticas en
Cinvestav Unidad Querétaro.
25
Se estudió la morfología de la superficie de las películas por microscopia
electrónica de barrido usando un microscopio marca Philips modelo XL30 ESEM y con las
siguientes características:
Características
Permite al usuario caracterizar de manera
superficial y morfológica una amplia gama
de materiales, cuenta además con un
Espectro de Dispersión de Energía de
Rayos X (EDS).
Excelente resolución 3 – 10 nm.
Caracterización de muestras no
conductoras u orgánicas en estado nativo
Obtención y determinación de
composición química elemental a partir del
carbono (EDS).
Características
Mide una pista comprendida entre: 10 nm
a 131µm con una resolución de:
0,1 nm /6,5 µm
1,0 nm/65, 5 µm
2,0 nm/131, 0 µm
26
CAPITULO IV RESULTADOS Y DISCUSIÓN
Se depositaron 3 series a las cuales se les varió los mililitros de KOH de 3 a 4 ml,
donde por consecuencia se observaba como aumentaba el pH de la solución de manera
proporcional como se muestra en la Figura 16, el efecto se observó en el espesor de las
películas obtenidas.
12.0
11.57
11.5
11.1
11.0
pH de la solucion
10.5
10.0
9.5 9.36
9.0
8.5
8.0
3.00 3.25 3.50 3.75 4.00
Figura 16. Variación del pH en función de los mililitros de KOH en la solución de reacción para el depósito de
películas de Plumbonacrita.
27
Figura 17. Películas de apariencia blanca con tiempo de crecimiento de 96 hrs. y bien adheridas al sustrato.
La difracción de rayos X “XRD” fue medida usando el equipo Rigarku Dmax 2100
(usando 40 kV y 30 mA, con una fuente de Co Kα con una longitud de onda de
λ=1.78897Å).
Los difractogramas de rayos X de las películas delgadas de plumbonacrita se
analizaron para diferentes tiempos de crecimiento efectuados en la deposición.
Los picos o planos difractados encontrados en el difractograma correspondiente a
la plumbonacrita de acuerdo a la carta PDF#19-0680 [30].
En las Figura 18, 19 y 20, se presentan los difractogramas de rayos X de las
películas de plumbonacrita para las series A, B, y C respectivamente.
En la Figura 18, se aprecian los picos de difracción de los planos (114) (212) y
(222) los cuales pierden intensidad mientras los tiempos de depósito fueron aumentando.
En la Figura 19, se mantienen los picos de difracción (114) (212) y (222), y
aparecen los picos (213) (300) (303) (216) (221) (225) (402) (227) (3010) (412) (4010) y
(0017), siendo el más intenso (221). Picos de la fase hexagonal de Pb10(CO3)6(OH)6O
PDF# 19-0680 que es una fase de hidróxido de óxido cristalino.
En la Figura 20, se mantienen los mismos picos de difracción a partir del patrón de
plumbonacrita pero siendo más intensos y definidos.
La medición de la orientación preferencial para la técnica de difracción de rayos X,
es comparar la intensidad del patrón de difracción de la película con la del patrón de un
polvo, este caso podemos apreciar en las Figuras, 18, 19 y 20, el cambio de intensidad de
forma gradual para las series A, B y C de los planos (114) (212) y (222) sin sobrepasar los
planos principales.
28
Serie A
pH= 9.38
750 Plumbonacrita PDF#19-0680
(114)
(212)
(222)
Intensidad (u. arb.)
96 hrs
500
72 hrs
48 hrs
250
24 hrs
0
20 30 40 50 60
2θ (grados)
1500
(114)
(212)
Serie B
(221)
pH= 11.51
1250 Plumbonacrita PDF#19-0680
(115)
(202)
(116)
Intensidad (u. arb.)
(213)
(222)
(300)
1000
(402)
(0017)
(303)
(4010)
(227)
(216)
(3010)
(412)
(225)
96 hrs
750
72 hrs
500
48 hrs
250
24 hrs
0
20 30 40 50 60 70
2θ (grados)
29
1500
(212)
Serie C
pH= 11.57
1250
Plumbonacrita PDF#19-0680
(114)
(221)
Intensidad (u. arb.)
1000
(222)
(116)
(115)
(213)
(202)
(4010)
(300)
(3010)
(303)
750
(227)
(216)
(0017)
(412)
(225)
(402)
96 hrs
500
72 hrs
48 hrs
250
24 hrs
0
20 30 40 50 60 70
2θ (grados)
Al realizar varios depósitos, se pudo observar que por el lado del substrato de
vidrio corning que se encuentra hacia la pared interior del vaso, se depositaba una
película menos gruesa que la que se encuentra por el otro extremo. Esto debido a que la
superficie del lado que se encuentra hacia el interior del substrato recibe adicionalmente
material precipitado que se forma en la solución, contribuyendo a incrementar el espesor
de la película, como se observa en la Figura 21.
Figura 21. Depósito de lado grueso y lado delgado de película por cada cara del corning respectivamente.
30
4.1.3 Dispersión Micro-Raman de películas de plumbonacrita
-1 -1
1056cm
-1
1378cm
1378cm
8000
Serie C, 96 hrs
-1
6000
170cm
-1
-1
460cm
420cm
-1
-1
4000
305cm
682cm
2000
31
4.1.4 Estudios de perfilometría de películas de plumbonacrita
A Lado Grueso
8
B
7 C
6
Espesor(µm)
0
20 30 40 50 60 70 80 90 100
Tiempo(hrs.)
Figura 23. Gráfica de medición de perfilometría de películas de plumbonacrita por el lado grueso.
4.5
A Lado Delgado
4.0 B
C
3.5
3.0
Espesor(µm)
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
20 30 40 50 60 70 80 90 100
Tiempo(hrs.)
Figura 24. Gráfica de medición de perfilometría de películas de plumbonacrita por el lado delgado.
32
4.1.5 Morfología Superficial de las películas de Plumbonacrita
a) b)
c) d)
Figura 25. Se observa la morfología superficial de la Serie C depositada en a) 24, b) 48, c) 72 y d) 96 hrs. La
superficie muestra formaciones irregulares de cristales de plumbonacrita. Con algunos espacios vacios que
indican porosidad.
33
4.2 Tratamientos Térmicos a películas de Plumbonacrita (Películas de PbO)
Figura 26. Películas de plumbonacrita con tratamientos térmicos a diferentes temperaturas. Se observa una
apariencia de color anaranjado que se incrementa conforme la temperatura aumenta.
34
P
b
O
2
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
(212)
1400
s
o
b
r
e
l
a
d
a
g
r
u
e
s
o
y
d
e
l
g
a
d
o
1200
(114)
Pb10(CO3)6(OH)6O
(222)
Plumbonacrite PDF# 19-0680
Intensidad (u. arb.)
1000
800
(115)
(116)
(303)
(202)
600
(0017)
(213)
(402) (227)
(216)
(404)
(221)
(3010)
(4010)
(412)
(224)
(225)
(413)
(415)
400
grueso
200
delgado
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 27. Tratamiento térmico en aire a 200º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado grueso y
delgado.
En la
Figura 28 están graficados los patrones de difracción de películas de plumbonacrita
tratadas térmicamente a temperatura de 300oC. En estos patrones desaparecen los picos
de difracción de la fase de plumbonacrita y aparecen nuevos picos asociados a fases
cristalinas de óxidos y carbonatos de plomo, tales como: Pb2OCO3 shannonita
ortorrómbica con PDF#48-1888, Pb3O2CO3 óxido carbonato de plomo con PDF#19-0681,
PbCO3 cerusita ortorrómbica con PDF#47-1734 y PbO litarge tetragonal con PDF#05-
0561.
En los patrones de difracción de la Figura 29 de las películas de plumbonacrita
tratadas a 400 oC se encuentra presente la fase hidrocerusita (carbonatos OH)
romboédrica PDF#13-0131 y también aparece la fase de PbO, en el lado grueso del
corning, con picos de difracción a 34º, 36º, 42º, 54º, 57º, 64º, y 72º correspondientes a los
planos (110) (111) (102) (211) (202) (212) (301) de la fase tetragonal PbO PDF#65-2809.
Esto para el lado de la película gruesa, mientras que por el lado delgado se muestra el
patrón de difracción en la Figura 30. En este patrón aparecen picos de difracción a 34º,
36º, 42º, 54º, 57º, 64º, 72º y 79º correspondientes a los planos (110) (111) (102) (211)
(202) (113) (301) (311) de la fase tetragonal PbO PDF#05-0561 y también de la fase de
hidrocerusita PDF #13-0131.
En las Figuras 31 y Figura 32 se presentan los patrones de difracción de la
película tratada a 500 °C en los cuales la fase de hidrocerusita desaparece casi por
completo. En el lado grueso aparecen picos en 34º, 36º, 42º, 54º, 57º, 64º, 70º , 72º y 79º
correspondientes a los planos (110) (111) (102) (211) (202) (212) (221) (301) (311) de la
35
fase PbO tetragonal PDF#65-2809, mientras que por el lado delgado aparecen picos de
difracción a 34º, 36º, 42º, 49º, 54º, 56º, 64º, 70º, 71º, 77º y 79º correspondientes a los
planos (110) (002) (102) (122) (211) (202) (113) (301) (310) (222) (311) de la fase
tetragonal PbO PDF#05-0561.
P
b
O
3
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
700
s
o
b
r
e
l
a
d
o
G
r
u
e
s
o
y
d
e
l
g
a
d
o
600 Pb2OCO3 ShannonitePDF#48-1888 orthorhombica
Pb3O2CO3 Lead Oxide CarbonatePDF#19-0681
PbCO3 Cerussite PDF#47-1734 orthorohombica
Intensidad (u. arb.)
400
300
200
grueso
100
delgado
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 28. Tratamiento térmico en aire a 300º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado grueso y
delgado.
1500
P
b
O
4
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
n
a
r
a
n
j
a
s
o
b
r
e
l
a
d
o
G
r
u
e
s
o
(110)
1250
PbO Lead Oxide PDF#65-2809
Pb3(CO3)2(OH)2 Hydrocerrusite PDF#13-0131
Intensidad (u. a.)
1000
(111)
750
(212)
(202)
500
(211)
(102)
(301)
(311)
250
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 29. Tratamiento térmico en aire a 400º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado grueso.
36
P
b
O
4
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
n
a
r
a
n
j
a
(110)
s
o
b
r
e
l
a
d
o
D
e
l
g
a
d
o
1000
(002)
(202)
500
(113)
(102)
(211)
(301)
(311)
250
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 30. Tratamiento térmico en aire a 400º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado
delgado.
P
b
O
5
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
n
a
r
a
n
j
a
s
o
b
r
e
l
a
d
o
g
r
u
e
s
o
d
e
l
c
o
r
n
i
n
g
3000
(110)
2000
(111)
(212)
1500
(202)
(211)
(102)
(301)
1000
(221)
(311)
500
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 31. Tratamiento térmico en aire a 500º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado grueso.
37
P
b
O
5
0
0
º
C
3
0
m
i
n
p
e
l
i
c
u
l
a
n
a
r
a
n
j
a
2700
(110)
s
o
b
r
e
l
a
d
o
D
e
l
g
a
d
o
d
e
l
c
o
r
n
i
n
g
2400
1800
(202)
(002)
1500
(102)
(113)
1200
(310)
900
(211)
(301)
(311)
(122)
(222)
600
300
0
20 30 40 50 60 70 80
Figura 32. Tratamiento térmico en aire a 500º C durante 30 min. de películas de plumbonacrita, lado delgado.
38
detecta la banda de P3O4 en 1097 cm-1, reportados por (Eun Jung y José E. Herrera,
2010). De igual forma se observa la banda de cerusita en 130 cm-1 e hidrocerusita en
1479 cm-1 reportados por (Ray L. Frost et al., 2003).
En la Figura 35, se muestran las mediciones de espectroscopia Raman para
películas de plumbonacrita a 400º C por el lado grueso y delgado de la película. Se
identifican los picos de bandas de PbO fase tetragonal en 84 cm-1, 147 cm-1 y 342 cm-1,
PbO ortorrómbico en 288 cm-1 reportados por (Eun Jung y José E. Herrera, 2010) y banda
de hidrocerusita en 1049 cm-1 reportada por (L. Frost et al., 2003).
En la Figura 36, muestran las mediciones de espectroscopia Raman para películas
de plumbonacrita a 500º C por el lado grueso y delgado de la película. Se identifican los
picos de bandas de PbO en 144 cm-1, PbO fase tetragonal en 84 cm-1 y 340 cm-1, PbO
ortorrómbico en 288 cm-1 y 386 cm-1 reportadas por (Eun Jung y José E. Herrera, 2010),
con esto se corrobora lo mencionado en el análisis de difracción de rayos X que a
temperatura de tratamiento térmico de 500º C la fase de hidrocerrusita desaparece en su
totalidad solo quedando fases de PbO. También las intensidades para los lados delgados
de todos los espectros Raman a diferentes temperaturas, son menores.
25000
Plumbonacrita 200 oC 30 minutos Lado Grueso
Exposición Raman 15 seg.
Bandas de Plumbonacrita en:
Lado Delgado
-1 -1 -1 -1
-1
1365cm
126cm
-1
1365cm
15000
-1
1316cm
-1
1215cm
10000
-1
170cm
-1
-1
-1
758cm
862cm
-1
407cm
-1
-1
709cm
-1
305cm
623cm
460cm
5000
0
200 400 600 800 1000 1200 1400 1600
-1
Corrimiento Raman (cm )
o
Figura 33. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos térmicos en aire a 200 C
lado grueso y delgado.
39
60000
Plumbonacrita 300 oC 30 minutos Lado delgado
Exposición Raman 15 seg. Lado grueso
-1
50000
1479cm
Bandas de PbO tetragonal en:
-1
-1 -1
147cm y 340cm
1360cm
Intensidad (uni.arb.)
-1
Bandas de Cerrusita en:
1097cm
30000 -1
130cm
Bandas de Hydrocerrusita en:
-1
1479cm
20000
-1
340cm
-1
147cm
10000
0
200 400 600 800 1000 1200 1400 1600
-1
Corrimiento Raman (cm )
o
Figura 34. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos térmicos en aire a 300 C
lado grueso y delgado.
35000
-1
147cm
o
Plumbonacrita 400 C 30 minutos Lado Delgado
30000 Exposición Raman 15 seg. Lado Grueso
Bandas de PbO Fase tetragonal:
-1 -1 -1
84cm 147cm y 342cm
25000 Bandas PbO Orthorormbic:
Intensidad (uni. arb.)
-1
288cm
Hydrocerrusita
20000 1049cm
-1
15000
-1
342cm
-1
288cm
10000
-1
1049cm
-1
84cm
5000
0
200 400 600 800 1000 1200 1400 1600
o
Figura 35. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos térmicos en aire a 400 C
lado grueso y delgado.
40
-1
o
144cm
Plumbonacrita 500 C 30 minutos
35000
Exposición Raman 15 seg.
Bandas de PbO en: Lado Grueso
30000 144cm
-1
Lado Delgado
Bandas de PbO fase tetragonal en:
Intensidad (uni. arb.)
-1 -1
25000 84cm y 340cm
Bandas de PbO orthorormbic:
-1 -1
288cm y 386 cm
20000
15000
-1
-1
340cm
288cm
10000
-1
-1
386cm
84cm
5000
0
200 400 600 800 1000 1200 1400 1600
-
Corrimiento Raman(cm 1)
o
Figura 36. Espectroscopia Raman de películas de plumbonacrita con tratamientos térmicos en aire a 500 C
lado grueso y delgado.
41
10
Tratamientos térmicos a películas de Plumbonacrita
9
Lado Grueso
8 Lado Delgado
7
Espesor(µm)
Figura 37. Tratamientos térmicos en aire para películas de plumbonacrita a diferentes temperaturas.
La morfología superficial de las películas de PbO fue obtenida por SEM (scanning
electron microscope). En la Figura 38 y en la Figura 39, se muestran micrografías con un
aumento de 1500x de la superficie de de muestras tratadas a diferentes temperaturas
200, 300, 400 y 500 oC, para el lado grueso y delgado respectivamente. Se siguen
observando algunos huecos que indican porosidad, en la Figura 39, se observa de
manera gradual como se compacta la superficie al incrementar la temperatura de
tratamiento, por lo que existe una disminución en el espesor como se vio en el estudio de
perfilometría.
42
a) 200o C lado grueso b) 200o C lado delgado
Figura 38. Morfologías superficiales para diferentes temperaturas de tratamientos térmicos a películas de
plumbonacrita, 200, 300 y 400º C, lado grueso y delgado respectivamente.
43
g) 500o C lado grueso h) 500o C lado delgado
44
planos cristalino (111) (200) (311) (222) (400) (420) (422) de la fase cristalina de PbSe
cúbica PDF#06-0354.
3500
Pb Se a 120 minutos de reacción de
(200)
intercambio
3000
PbSe Clausthalite
(311)
2500 PDF#06-0354
Intensidad (u. arb.)
PbSe Clausthalite
PDF#06-0347
(111)
2000
1500
(400)
(222)
(420)
grueso
(422)
1000
delgado
500
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 41. Patrón de difracción de rayos X de la película de PbSe
45
-1
139.7cm
1400 Banda de PbSe en:
-1 -1 PbSe Lado Grueso
139.7cm y 275cm PbSe Lado Delgado
-1
275cm
1200
Intensidad (uni. arb.)
1000
800
600
400
200
Figura 42. Espectroscopia Raman de película de PbSe con un tiempo de inmersión en iones de Se de 120
min.
El espesor de las películas de PbSe, fue medido también por perfilometría dando
como resultado para el lado grueso 5.62 µm y para el lado delgado: 2.22 µm.
Comparando el espesor con la película precursora usada para llegar a la película de
PbSe, el espesor es 38% menor al lado grueso de la película de plumbonacrita y 40 %
menor que el lado delgado de esta.
46
porosidad es observada también en las películas de PbSe. El tamaño medio de los cubos
de PbSe es de 1.25 µm y 1 µm lado grueso y delgado respectivamente.
1.25µm
1 µm
47
observa en la Figura 44, el proceso de conversión de las películas de plumbonacrita a
PbSe fue gradual.
a) 5 minutos b) 15 minutos
c) 30 minutos c) 60 minutos
48
4.4.1 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos
1200
PbSe Clausthalite PDF#65-0327
Intensidad (u. arb.)
1000
(311)
(111)
800
(400)
(222)
(420)
(422)
600
5
0
0
º
C
400
4
0
0
º
C
200
3
0
0
º
C
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 45. Patrón de difracción de rayos X para tratamientos térmicos de películas de PbSe a diferentes
temperaturas.
49
3.33µm
a) 300º C 30 min
b) 400º C 30 min
c) 500º C 30 min.
50
4.5 Tratamientos térmicos con CdCl2 a películas de PbSe
1200 PDF#65-0327
(111)
(311)
Intensidad (u. arb.)
1000
(331)
(400)
(420)
(422)
800
5
0
0
º
C
600
4
0
0
º
C
400
200
3
0
0
º
C
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 47. DRX de películas de PbSe con tratamientos térmicos en CdCl2 (0.015M) a diferentes temperaturas.
51
4.5.2 Morfología superficial de películas de PbSe con tratamientos térmicos
de CdCl2, Serie D (0.015M)
2.5 µm
c) 500º C 30 min.
Figura 48. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.015M) a diferentes temperaturas.
52
4.5.3 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos
con CdCl2, Serie E (0.03M)
(311)
Intensidad(u. arb.)
(400)
(331)
(420)
(422)
1000
5
0
0
º
C
800
600
4
0
0
º
C
400
200
3
0
0
º
C
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 49. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.03M) a diferentes temperaturas.
53
a) 300º C 30 min
3 µm
b) 400º C 30 min
c) 500º C 30 min
Figura 50. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.03M) a diferentes temperaturas.
54
4.5.5 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos
con CdCl2, Serie F (0.09M)
10000
Tratamientos térmicos de Peliculas de PbSe
con CdCl2:CH3OH (0.09M) 30 min
PbSe Lead Selenide
(200)
8000 PDF#65-2941
(220)
(111)
(420)
(222)
(311)
(422)
(400)
(331)
intensidad (u.arb.)
5
0
0
º
C
6000
4000
4
0
0
º
C
2000
3
0
0
º
C
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 51. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.09M) a diferentes temperaturas.
55
15 µm
a) 300º C 30 min
4 µm
15 µm
a) 300º C 30 min
15 µm
a) 300º C 30 min
Figura 52. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.09M) a diferentes temperaturas.
56
4.5.7 Análisis estructural de películas de PbSe con tratamientos térmicos
con CdCl2, Serie G (0.15M)
10000
Tratamientos térmicos de películas de PbSe
con CdCl2:CH3OH (0.15M) 30 min
8000 PbSe Lead Selenide
PDF# 65-2941
(200)
intensidad (u.arb.)
(220)
(111)
6000
(222)
(311)
(420)
(422)
(331)
(400)
5
0
0
º
C
4000
4
0
0
º
C
2000
3
0
0
º
C
0
20 30 40 50 60 70 80
2θ (grados)
Figura 53. DRX de películas con tratamiento de CdCl2 (0.15M) a diferentes temperaturas.
57
15 µm
a) 300º C 30 min
4.5 µm
15 µm
b) 400º C 30 min
15 µm
c) 500º C 30 min
Figura 54. Micrografías SEM de tratamientos con CdCl2 (0.15M) a diferentes temperaturas.
58
4.5.9 Estudios de perfilometría de películas de PbSe con tratamientos
térmicos de CdCl2, para las series D, E, F y G.
2
300 400 500
o
Temperatura ( C)
Figura 55. Perfilometría de las series D, E, F y G, de películas de PbSe con tratamientos térmicos de CdCl2.
59
4.5.10 Tamaño de grano de las películas de PbSe sometidas a tratamientos
térmicos con CdCl2
5.0
Tamaño de Grano de películas con tratamiento de CdCl2
4.5
Serie G
Tamaño de Grano (µm)
4.0
Serie F
3.5
3.0 Serie E
2.5
Serie D
2.0
0.00 0.02 0.04 0.06 0.08 0.10 0.12 0.14 0.16
Concentración (M)
Figura 56. Tamaño de grano de las series D, E, F y G de las películas de PbSe con tratamientos térmicos de
CdCl2.
60
CAPITULO V CONCLUSIONES
61
• Con los tratamientos de CdCl2 si se logro aumentar el tamaño de grado en
razón de un poco más de 1.5 µm y se observa en las micrografías de SEM
que se disminuye la porosidad de la película.
62
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